上海博栋化学科技有限公司专利技术

上海博栋化学科技有限公司共有70项专利

  • 本发明公开了一锅法合成对乙酰氧基苯乙烯的方法,涉及有机合成领域,该合成方法使用对羟基苯甲醛为起始原料,采用一锅法合成,反应历程如下:S1.对羟基苯甲醛与乙酸酐经酰基化反应得到对乙酰氧基苯甲醛;S2.对乙酰氧基苯甲醛与乙酸酐发生普尔金反应...
  • 本发明公开了一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂,涉及光产酸剂领域,该光产酸剂的结构式为:R1选自和R2选自氟代烷基或者氟代环烷基,且R2结构中的部分亚甲基可以被酯基、醚、羰基或者碳酸酯基取代。该光产酸剂能够降低光产酸剂的扩散,有利于改...
  • 本发明公开了一种合成(甲基)丙烯酸金刚烷酯的方法,涉及有机合成领域,一种(甲基)丙烯酸金刚烷酯的合成方法,第一步:(甲基)丙烯酸与烷基磺酰氯反应生成混合酸酐S1;第二步:在锂试剂或者格氏试剂作用下,2
  • 本发明属于可降解型光刻胶树脂单体,公开了一种由1,6
  • 本发明属于阻聚剂合成技术领域,公开了一种以丙酮和氨气为原料一锅法合成阻聚剂702的制备方法,包括以下步骤:首先将丙酮和载体催化剂加入到反应釜中,然后通入氨气,在50~60℃下反应2~6小时;其次加入去离子水和过氧化氢,在15~40℃下反...
  • 本发明公开了一种对乙酰氧基苯乙烯的合成方法,涉及有机合成领域,该合成方法的合成路线如下:具体合成步骤为:第一步:对羟基苯乙酮与乙酰化试剂加入第一溶剂中,在碱性条件下发生酯化反应生成对乙酰氧基苯乙酮;第二步:对乙酰氧基苯乙酮加入第二溶剂中...
  • 本发明属于光刻胶技术领域,公开了一种由番木虌次碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法。由番木虌次碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂结构通式如下:其中R1为连接基团,R2为烃基或含氟烃基,P1、P2和P3相互独立的表示氢或具有1到12个碳原子的任...
  • 本发明公开了一种由苦参碱合成的磺酸锍盐类光产酸剂,涉及光刻胶领域,尤其涉及光产酸剂,一种由苦参碱合成的磺酸锍盐类光产酸剂,结构式为:R为氟取代的烷基。光产酸剂呈弱碱性,能够有效降低酸的扩散,有利于改善光刻图形的边缘粗糙度,提高图形分辨率...
  • 本发明公开了一种增加溶解差的光刻胶树脂单体,涉及光刻胶树脂单体领域,光刻胶树脂单体的结构式为:其中R1为甲基或者H;R2、R3分别独立的为氢或者烷基,且R2和R3能够通过共价键形成环状结构。该树脂单体曝光前后溶解差差异大,抑制酸的扩散,...
  • 本发明公开了一种金刚烷结构的光刻胶树脂单体,涉及光刻胶树脂领域。树脂单体的结构式如下所示:其中R1和R2各自独立的为1~10个碳原子的烷烃,且R1和R2可通过共价键结合形成环状结构;R3为氢或者甲基。该树脂单体含有金刚烷结构,具有优良的...
  • 本发明属于环氧树脂合成技术领域,公开了一种9,9
  • 本发明属于光刻胶树脂单体,公开了一种由5
  • 本发明属于光刻胶技术领域,公开了一种由20
  • 本发明公开了一种含米氏酸结构的光刻胶树脂单体,涉及光刻胶树脂单体领域,其结构式如下所示:其中R1为甲基或者H,R2为烷基、环烷基或含O原子的烷基、含O原子的环烷基,R3为H或者烷基,所述树脂单体有利于增加光刻胶树脂的碱溶性,能够改善光刻...
  • 本发明属于光刻胶技术领域,公开了一种由异柯楠碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法。由异柯楠碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂包括阴离子和阳离子,结构如下:其中R1为连接基团,R2包括烃基或含氟烃基,P1、P2和P3相互独立的表示氢或具有1到1...
  • 本发明属于光刻胶技术领域,公开了一种由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法。由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂包括阴离子和阳离子,结构如下:结构如下:其中R1为连接基团,R2为烃基或含氟烃基,P1、P2和P3相互独立的表...
  • 本发明属于光刻胶树脂单体,公开了一种由金刚烷酮合成的可降解树脂单体,树脂单体的结构式如下:其中,R1为连接键、烷基、环烷基、杂烷基或杂环烷基,R2为氢或甲基。其制备方法为:金刚烷酮Ⅰ在强碱条件下与乙炔反应,纯化得到中间体Ⅱ;中间体Ⅱ经还...
  • 本发明属于光刻胶树脂单体,公开了一种由表雄酮合成的树脂单体,树脂单体的结构式如下:其中R1为连接键、烃基或杂烃基,R2为烃基;R3为氢原子、烃基或杂烃基。其制备方法为,表雄酮Ⅰ经酯化反应得到中间体Ⅱ;所述中间体Ⅱ在酸催化条件下与羟基羧酸...
  • 本发明公开了一种由长春布宁合成的磺酸锍盐类光产酸剂,涉及光产酸剂领域,结构式为:其中,R为氟代烷基,且R中的部分亚甲基可以被醚、酯基、碳酸酯、羰基这类含氧基团取代。本发明的光产酸剂能够降低了光产酸剂的扩散,有利于改善边缘粗糙度,减小线宽...
  • 本发明公开了一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体,涉及光刻胶领域,树脂单体的结构式如下所示:其中R1为氟代烷烃或含氧原子的氟代烷烃,R2、R3、R4各自独立的为氢或者烷基,R5为H或者甲基。该树脂单体改善光刻图形的边缘粗糙度,提高分辨率,提...