由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法技术

本发明专利技术属于光刻胶技术领域，公开了一种由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法。由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂包括阴离子和阳离子，结构如下：结构如下：其中R1为连接基团，R2为烃基或含氟烃基，P1、P2和P3相互独立的表示氢或具有1到12个碳原子的任选取代的烷基。其合成步骤为：将雀舌黄杨碱B经反应形成含雀舌黄杨碱B结构和磺酸结构的中间体；将所述中间体与卤化锍经离子交换反应，反应液经纯化得到含雀舌黄杨碱B结构的锍鎓盐类光致产酸剂。本发明专利技术合成的化合物扩散低且亲水亲油平衡，且其制备方法简单。且其制备方法简单。

【技术实现步骤摘要】
由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法


[0001]本专利技术涉及光刻胶
，特别涉及一种由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法。

技术介绍

[0002]光刻材料(特指光刻胶)，又称光致抗蚀剂，是光刻技术中涉及的最关键的功能性化学材料，主要成分是树脂、光致产酸剂(photo acid generator，PAG)、以及相应的添加剂和溶剂。
[0003]随着集成电路(integrated circuit，IC)特征尺寸的逐渐减小，酸扩散长度对光刻图案的影响会越来越显著，包括遮罩忠实性低落，LWR(线宽粗糙度,Line Width Roughness)的恶化以及图案矩形性的劣化等。已经发现PAG阴离子的结构通过影响PAG与其它光刻胶组分之间的相互作用,在光刻胶总体性能中扮演了重要角色。这些相互作用影响到光产生酸的扩散特性。因此制备具有可控制的酸扩散性的光致产酸剂(PAG)是非常重要的。

技术实现思路

[0004]本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂，其特征在于，光致产酸剂包括阴离子和阳离子，所述阴离子的结构如下：其中R1为连接基团，R2为烃基或含氟烃基；所述阳离子的结构如下：其中P1、P2和P3相互独立的表示氢或具有1到12个碳原子的任选取代的烷基。2.根据权利要求1所述的由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂，其特征在于，所述R1包括酯基或碳酸酯基。3.根据权利要求1所述的由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂，其特征在于，所述阴离子包括以下结构：述阴离子包括以下结构：4.根据权利要求1
‑
3任一所述的由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂，其特征在于，所述光致产酸剂包括以下结构：
5.一种由雀舌黄杨碱B合成的锍鎓盐类光致产酸剂的制备方法，其特征在于，合成路线为：其中，R1为酯基，R2为烃基或含氟烃基，P1、P2和P3相互独立的表示氢或具有1到12个碳原子的任选取代的烷基，M为碱金属；包括以下步骤：S1，将雀舌黄杨碱BⅠ与磺基乙酸盐类化合物经酯化反应纯化得到含雀舌黄杨碱B结构和磺酸...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅志伟，李嫚嫚，蒋小惠，贺宝元，王尹卓，
申请(专利权)人：上海博栋化学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：