一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法技术

技术编号:29071877 阅读:13 留言:0更新日期:2021-06-30 09:26
本发明专利技术公开了一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂,涉及光产酸剂领域,该光产酸剂的结构式为:R1选自和R2选自氟代烷基或者氟代环烷基,且R2结构中的部分亚甲基可以被酯基、醚、羰基或者碳酸酯基取代。该光产酸剂能够降低光产酸剂的扩散,有利于改善边缘粗糙度,减小线宽粗糙度,提高分辨率;亲水亲油平衡,既具有一定的粘附性,又可以在溶剂中均匀溶解,有利于成像;在193nm波长的光源下吸收低,更加透明,有利于光刻胶在193nm波长光源下的曝光,并且具有优良的耐刻蚀性能;合成方法简单。简单。

【技术实现步骤摘要】
一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法


[0001]本专利技术涉及光刻胶领域,特别涉及一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法。

技术介绍

[0002]光刻技术是指利用光刻胶在可见光、紫外线、电子束等作用下的化学敏感性,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形微细加工技术。
[0003]光刻胶又称光致抗蚀剂,是光刻技术中涉及的最关键的功能性化学材料,主要成分是树脂、光产酸剂、以及相应的添加剂和溶剂,这类材料具有光化学敏感性,经光化学反应,本身在显影液中的溶解性发生变化。
[0004]为了满足高分辨率光刻所需的光刻胶材料,具有可控制的酸扩散性和溶解性的特制光产酸剂(PAG)是非常重要的。已经发现PAG阴离子的结构通过影响光产酸剂与其它光刻胶组分之间的相互作用,在光刻胶总体性能中扮演了重要角色。这些相互作用影响到光产酸剂的扩散特性,同时PAG结构和尺寸可影响PAG在光刻胶膜中的均匀分布。PAG的亲水性与亲油平衡与其自身的结构有关,光产酸剂有一定的亲水性,即其就具有一定的粘附性,能够较好的附着在硅片上,不易脱落,有利于刻蚀,具有一定的亲油性,能够均匀的溶解在溶剂中有利于成像;在光刻胶膜中的PAG没有粘附性则不利于光刻工艺的进行;PAG没有溶解均匀,则成像的光刻胶可以显示出例如底部组织和缺口/凹陷的缺陷,不利于显影和刻蚀。

技术实现思路

[0005]本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷,提供一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法。
[0006]为了解决上述技术问题,本专利技术提供了如下的技术方案:
[0007]本专利技术一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂,所述光产酸剂的结构式为:
[0008][0009]R1选自和R2选自氟代烷基或者氟代环烷基,且R2结构中的部分亚甲基可以被酯基、醚、羰基或者碳酸酯基取代。
[0010]作为本专利技术的一种优选技术方案,所述光产酸剂包括光产酸剂A和光产酸剂B:
[0011]和
[0012]作为本专利技术的一种优选技术方案,所述光产酸剂的结构包括:
[0013][0014]光产酸剂A的合成方法,所述合成方法为:
[0015][0016]M为碱金属;
[0017]第一步:1当量的莪术醇与1当量的中间体
Ⅰ‑
1加入甲苯中,加入0.1~0.5当量的酸催化剂,加热回流14~18小时,反应液冷却后过滤得到固体,固体用乙腈清洗,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚中进行打浆,过滤后收集烘干滤饼得到中间体
Ⅱ‑
1;
[0018]第二步:在惰性气体保护下,将1当量的(环己

1,5

二烯基氧基)

三甲基

硅烷和1当量的四亚甲基亚砜溶解在氯仿中,冷却至

25~

35摄氏度,慢慢加入1.3~1.5当量的三氟乙酸酐,搅拌反应20~40分钟,在搅拌下加入1当量的
Ⅱ‑
1的饱和水溶液,搅拌反应1~1.5小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得
到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,干燥得到光产酸剂A。
[0019]作为本专利技术的一种优选技术方案,所述M包括:钾、钠或者锂。
[0020]作为本专利技术的一种优选技术方案,所述酸催化剂为对甲基苯磺酸或者硫酸。
[0021]光产酸剂B的合成方法,所述合成方法为:
[0022][0023]M为碱金属;
[0024]第一步:在0℃惰性气体保护下,将2~3当量的三乙胺和0.33当量的三光气加入到二氯甲烷中,搅拌下缓慢加入1当量的莪术醇;反应液在室温下搅拌2~4小时,然后将1当量的中间体
Ⅰ‑
2加入到反应液中,搅拌8~12小时,反应液在真空下浓缩得到混合物,混合物过滤得到固体,固体用乙腈清洗,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚中进行打浆,过滤上述混合物,收集烘干滤饼得到中间体
Ⅱ‑
2;
[0025]第二步:在惰性气体保护下,将1当量的(环己

1,5

二烯基氧基)

三甲基

硅烷和1当量的四亚甲基亚砜溶解在氯仿中,冷却至

25~35摄氏度,慢慢加入1.3~1.5当量的三氟乙酸酐,搅拌反应20~40分钟,在搅拌下加入1当量的
Ⅱ‑
2的饱和水溶液,搅拌反应1~1.5小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,干燥得到
Ⅲ‑
2。
[0026]作为本专利技术的一种优选技术方案,所述M为钾、钠或者锂。
[0027]与现有技术相比,本专利技术的有益效果如下:
[0028](1)莪术醇结构具有较大分子量,合成的光产酸剂分子量大,降低光产酸剂的扩散,有利于改善边缘粗糙度,减小线宽粗糙度,提高分辨率。
[0029](2)本专利技术光产酸剂的亲水亲油平衡,既具有一定的粘附性,又可以在溶剂中均匀溶解,有利于成像。
[0030](3)本专利技术的光产酸剂不含苯环结构,在193nm波长的光源下吸收低,更加透明,有利于光刻胶在193nm波长光源下的曝光。
[0031](4)莪术醇结构为桥环烷烃,具有优良的耐刻蚀性能。
[0032](5)合成路线简单。
具体实施方式
[0033]应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。
[0034]实施例1
[0035][0036]合成步骤:
[0037]a.将莪术醇1

1(5g,21mmol),羧基二氟甲烷磺酸钠(4.2g,21mmol)加入到甲苯(100mL)中,加入对甲基苯磺酸(0.5g,3mmol),将反应液回流16小时,反应液冷却后过滤得到固体,固体用乙腈清洗三次,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚(60ml)中进行打浆,过滤上述混合液,收集烘干滤饼得到固体化合物1

2(7.2g,17mmol,收率81.7%)
[0038]b.在氮气流保护下,将(环己

1,5

二烯基氧基)

三甲基

硅烷(3.0g,18mmol)和四亚甲基亚砜(1.8g,17mmol)溶解在氯仿(100mL)中,冷却至

30摄氏度,在30分钟内慢慢加入三氟乙酸酐(5.5g,26mmol),搅拌反应30分钟,在搅拌下加入1

2(7.2g,17mmol)的饱和水溶液,搅拌反应1小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂,其特征在于,所述光产酸剂的结构式为:R1选自R2选自氟代烷基或者氟代环烷基,且R2结构中的部分亚甲基可以被酯基、醚、羰基或者碳酸酯基取代。2.根据权利要求1所述的一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂,其特征在于,所述光产酸剂包括光产酸剂A和光产酸剂B:3.根据权利要求1或2所述的一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂,其特征在于,所述光产酸剂的结构包括:所述光产酸剂的结构包括:4.如权利要求2所述的光产酸剂A的合成方法,其特征在于,所述合成方法为:
M为碱金属;第一步:1当量的莪术醇与1当量的中间体
Ⅰ‑
1加入甲苯中,加入0.1~0.5当量的酸催化剂,加热回流14~18小时,反应液冷却后过滤得到固体,固体用乙腈清洗,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚中进行打浆,过滤后收集烘干滤饼得到中间体
Ⅱ‑
1;第二步:在惰性气体保护下,将1当量的(环己

1,5

二烯基氧基)

三甲基

硅烷和1当量的四亚甲基亚砜溶解在氯仿中,冷却至

25~

35摄氏度,慢慢加入1.3~1.5当量的三氟乙酸酐,搅拌反应20~40分钟,在搅拌下加入1当量的
Ⅱ‑
1的饱和水溶液,搅拌反应1~1.5小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,干...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭颖毕景峰李嫚嫚王尹卓潘惠英
申请(专利权)人:上海博栋化学科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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