一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体及其合成方法技术

本发明专利技术公开了一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体，涉及光刻胶领域，树脂单体的结构式如下所示：其中R1为氟代烷烃或含氧原子的氟代烷烃，R2、R3、R4各自独立的为氢或者烷基,R5为H或者甲基。该树脂单体改善光刻图形的边缘粗糙度，提高分辨率，提高了曝光区和非曝光区的在显影液的溶解速度差，耐刻蚀，脂溶性好，方便旋涂均匀。方便旋涂均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体及其合成方法


[0001]本专利技术涉及光刻胶领域，特别涉及一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体及其合成方法。

技术介绍

[0002]光刻技术是指利用光刻胶在可见光、紫外线、电子束等作用下的化学敏感性，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形微细加工技术。
[0003]光刻胶又称光致抗蚀剂，是光刻技术中涉及的最关键的功能性化学材料，主要成分是树脂、光酸产生剂、以及相应的添加剂和溶剂，这类材料具有光化学敏感性，经光化学反应，本身在显影液中的溶解性发生变化。
[0004]光刻胶树脂与光酸产生剂结合形成新型树脂的报导很多，例如：CN103913951报导了产酸剂和含它的光刻胶，具体的结构包括：
[0005][0006]该专利中的新型树脂单体通过酯基或醚键将产酸基团键合到不饱和丙烯酸类或对羟基苯乙烯类基团上，从而形成可聚合的树脂单体。这类阴离子部分通过不饱和键结合到聚合树脂上可以防止光酸的扩散，改善线宽和分辨率。

技术实现思路

[0007]本专利技术要解本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体的结构式如下所示：其中R1为氟代烷烃或含氧原子的氟代烷烃，R2、R3、R4各自独立的为氢或者烷基,R5为H或者甲基。2.根据权利要求1所述的一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体的阳离子为硫鎓阳离子，包括：3.根据权利要求1所述的一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体包括以下结构：
R5为H或者甲基。4.如权利要求1所述的一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述合成方法为：。5.根据权利要求4所述的一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述树脂单体的具体合成步骤为：第一步：中间体Ⅱ的制备：1当量的(甲基)丙烯酸2,3
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二羟丙基酯Ⅰ与1当量的(甲基)丙烯酸3
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羟基
‑2‑
羰基丙基酯加入到甲苯中，加入0.05～0.2当量的酸，加热回流发生脱水反应，反应液加入水清洗，分液后水相用乙酸乙酯萃取,有机相混合后用依次用饱和碳酸氢钠，饱和氯化钠清洗，无水硫酸钠干燥后真空浓缩，浓缩后经柱层析纯化后得到环状半缩酮结构的中间体Ⅱ；第二步：中间体Ⅲ的制备：1当量的1,3
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金刚烷二羧酸和0.5当量的二环己基碳二亚胺加入到二氯甲烷中，在0℃搅拌下加入0.5当量的羰基二咪唑，反应0.5～1小时，继续升至室温反应0.5～1小时，过滤后浓...

【专利技术属性】
技术研发人员：毕景峰，李嫚嫚，蒋小惠，贺宝元，潘惠英，
申请(专利权)人：上海博栋化学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：