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三星电子株式会社专利技术
三星电子株式会社共有64267项专利
用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置制造方法及图纸
提供了一种用带图案的发射器发射光刻的方法和装置。发射光刻的装置中,热电发射器或铁电发射器使用掩模构图然后再加热的。加热时,发射器上被掩模盖住的地方不发射电子,未被掩模盖住的暴露部分发射电子,从而发射器图案的形状被投射到衬底上。为防止被发...
光学模件及其制造方法技术
提供一种光学模件,其中其上安装有多个光纤或光学部件的一个或多个槽以不同的深度形成,并制造止动孔,以防止钝角现象,从而光轴被准确的对准,还提供了其制造方法。该制造光学模件的方法包括第一蚀刻,以在晶片的第一表面上形成一个或多个槽;以及第二蚀...
抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法技术
一种抗蚀剂除去组合物,具有除去抗蚀剂、聚合物、有机金属聚合物和蚀刻副产品如金属氧化物的优异性能,该抗蚀剂除去组合物不侵蚀暴露于组合物中的下层并且在清洗后不留下残余物。该抗蚀剂除去组合物含烷氧基N-羟烷基链烷酰胺和溶胀剂。
曝光物体的设备和方法技术
公开了一种曝光物体的方法和设备,用于提高光效率。产生具有均匀强度分布的光之后,光被折射成多个发散光束。然后,多个发散光束再次被折射成多个平行光束。利用多个平行光束的光曝光物体。因此,使原始光束和用于曝光物体的平行光束之间的光通量的差最小...
制造单体喷墨打印头的方法技术
本发明公开了一种制造单体喷墨打印头的方法。该方法包括:在衬底表面形成通过加热墨汁来产生气泡的加热元件,在其上形成加热元件的衬底上涂敷设定厚度的负性光致抗蚀剂。然后,利用第一光掩模正射曝光并固化负光致抗蚀剂的一部分,此部分形成包围墨腔和限...
光致抗蚀剂组合物及用其形成图案的方法技术
本发明公开一种包括热致酸生成剂的光致抗蚀剂组合物和用其形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约100重量份的碱溶性丙烯酰基共聚物,约5-100重量份的1,2-醌二叠氮化合物,约2-35重量份的含氮交联剂,约0.1-10重量份的加热能产生...
光敏聚合物和含有该聚合物化学放大型的光阻剂组合物制造技术
光敏聚合物,其中具有均匀分布的疏水性和亲水性部分,及含有该光敏聚合物的光阻剂组合物。光敏聚合物具有如上通式,其中R#-[1]和R#-[2]独立地为氢原子或甲基,R#-[3]为酸不稳定C#-[4]~C#-[20]烃基,R#-[4]为亲水基...
含有金刚烷基烷基乙烯醚的光敏聚合物及含有该聚合物的光阻剂组合物制造技术
一种包括具有如下通式共聚物的光敏聚合物: *** 其中x为1~4的整数,R↓[1]为氢原子或甲基,R↓[2]为酸不稳定的C↓[4]~C↓[20]的烃基,p/(p+q+r)=0.1~0.4,q/(p+q+r)=0.1~0.5,...
可溶于光致抗蚀剂显影液的有机底部抗反射组合物及使用该组合物的光刻和蚀刻方法技术
本发明提供一种有机底部抗反射组合物,其含有芳族聚合物化合物、热交联剂和有机溶剂。芳族聚合物化合物含有的官能团可吸收波长短于约248nm的曝光且其为可热交联的以及可用酸水解脱交联的。热交联剂通过与芳族聚合物化合物的官能团反应导致热交联反应...
滤色板、其制造方法及包括滤色板的液晶显示器技术
一种用于液晶显示器的滤色板,包括: 衬底;以及 形成在衬底上并具有由位置决定的厚度的滤色器。
设计相位光栅图形的方法和制造包括它的光掩模系统的方法技术方案
一种设计相位光栅图形的方法,该方法包括: 选择经过光刻工艺将要形成在晶片上的目标图形; 选择初级掩模的掩模图形,在光刻工艺中该掩模图形将被转录到晶片上; 将对应初级掩模的至少一部分区域的区域分割成多个子单元; ...
在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示器的方法技术
本发明涉及一种在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示板的方法。为了减少压合缺陷,各个图案层的拍摄区边界线彼此不重叠以分散。具体地说,根据本发明形成图案的方法,在首先形成第一材料层之后,通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图...
化学放大抗蚀组合物制造技术
一种用于化学放大抗蚀剂的抗蚀组合物,所述抗蚀组合物包含光酸引发剂和式(Ⅱ)聚合物: *** 其中R↓[1]选自氢和C↓[1]至C↓[20]脂烃; n和m各自为整数;和 其中n/(m+n)范围为0.1至0.5。
显微透镜阵列的制造方法技术
一种显微透镜阵列的制造方法,包括: 应用光刻工艺在衬底的一面形成一圆柱形光刻胶掩模; 应用回流工艺熔化该光刻胶掩模,使该光刻胶掩模具有与显微透镜相对应的轮廓; 应用等离子刻蚀方法将该光刻胶掩模的轮廓传递到该衬底上,在该...
气泡式喷墨打印头及其制造方法技术
本发明公开了一种气泡式喷墨打印头及其制造方法,该打印头包括:衬底,其上设置有用于存储墨的墨室和用于加热墨的电阻发热体;以及,供墨通道,其穿透衬底并且与墨室连接。供墨通道包括第一沟槽和第二沟槽。第一沟槽按第一图案形成在衬底的第一表面处,第...
利用由可聚合链段表面改性的碳纳米管制备碳纳米管图案膜或碳纳米管复合材料的方法技术
本发明公开了一种通过用可聚合的官能团,如环氧乙烷和酸酐基团对碳纳米管的表面进行改性,然后将表面改性的碳纳米管或者进行光蚀刻或者进行热固化处理来制备碳纳米管负片图案或具有互穿聚合物网络(IPN)的聚合碳纳米管复合材料的方法。通过本发明,可...
感光材料的排放部件和涂覆装置以及涂覆感光层的设备制造方法及图纸
一种涂覆设备,包括支撑具有多个单元衬底的母衬底的支撑部件,将感光材料涂覆在单元衬底上的涂覆装置,检测外部杂质的检测器,将外部杂质从单元衬底上移除的移除装置,以及控制涂覆装置、检测器和移除装置的控制器。涂覆装置包括容纳感光材料的主体,以及...
光耦合透镜系统及其制造方法技术方案
本申请公开了一种光耦合透镜系统。所述光耦合透镜系统包括:具有至少第一曲面的第一透镜;和具有至少第二曲面的第二透镜,其中所述第一和第二透镜用彼此相对的第一和第二曲面粘合在一起。
光学混合模块及其制造方法技术
一种光学混合模块,包括: 衬底; 形成在衬底上、以进行光信号传输的光波导,所述光波导用于与多个光学器件连接;和 在光耦合部分端面的相对侧形成的、具有倾斜轮廓的光遮挡层,其中光耦合部分设置在光波导的中心,所述光遮挡层用于...
制备显微透镜的方法及使用该方法制备光学模块的方法技术
本发明提供了一种制备显微透镜的方法及一种使用该方法制备光学模块的方法。为了制备显微透镜,在基片上形成用于显微透镜的材料的薄膜。在该薄膜上形成光刻胶图案,通过使用该光刻胶图案蚀刻该薄膜来形成薄膜结构,和通过由热处理该薄膜结构的回流而形成显...
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