在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示器的方法技术

本发明专利技术涉及一种在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示板的方法。为了减少压合缺陷，各个图案层的拍摄区边界线彼此不重叠以分散。具体地说，根据本发明专利技术形成图案的方法，在首先形成第一材料层之后，通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图案，其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光。随后，在第一图案上形成第二材料层之后，通过在第二材料层上执行第二光蚀刻形成一个第二图案，其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光，在第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。通过利用此形成方法制作一种液晶显示板。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
一般，液晶显示器(LCD)包括两个设置有电极的面板和一个夹在两面板之间的液晶层。电极产生要施加到夹在两面板之间的液晶层上的电场，LCD通过调节电场强度以控制穿过面板的光的透射率来显示图像。通过利用步进器或校准器的光束曝光进行光蚀刻过程，从而在LCD的面板上形成各种图案。步进器采用一个适合于其设备特性的小掩模，通过在步进器的掩模之下向上和向下以及向左和向右移动面板的同时将板分隔成几个拍摄区(shot)并将拍摄区暴露于光线来进行曝光。通过对齐步进器和掩模并对齐面板和步进器来对齐步进器的掩模与面板。校准器根据设备特性以一个拍摄区利用一个较大掩模地将面板的整个区域暴露于光线。此时，在校准器的掩模与校准器对齐之后，面板与校准器的掩模对齐。在制作LCD时，采用有利于制造大尺寸面板的生产线的校准器。但是，因为要制作的LCD面板太大而不能使用传统的校准器，所以要通过一个拍摄区使用一个掩模地对大的LCD曝光就变得很困难。要通过反复地进行分区曝光(divisional light exposure)来完成掩模曝光。一个分区曝光单元或区域称作一个拍摄区。因为在曝光期间会产生平移、转动、畸变等，所以不能精确地对齐拍摄区。于是，在导线和象素电极之间产生的寄生电容依据拍摄区而不同，并且这造成拍摄区之间的亮度差异，这可以在位于拍摄区之间边界处的像素中观察到。因此，由于拍摄区之间亮度的不连续性而在LCD的显示屏上产生压合缺陷(stitch defect)。因此，当由一个较大的面板制作一个较大的LCD时，即使利用校准器进行曝光过程也不可避免压合缺陷。特别是，形成LCD各个图案的曝光过程采用给出相同拍摄区的各自掩模。因此，各个图案的拍摄区的边界重合，多次产生显示器的压合缺陷。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种形成图案的方法以及利用该方法制作LCD面板的方法，该方法可以减少压合缺陷。为了实现这个目的，在用于形成各自图案的曝光过程中的拍摄区之间的边界彼此并不重叠。尤其是在根据本专利技术实施例形成图案的方法中，在首先形成第一材料层之后，通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图案，其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光。随后，在第一图案上形成第二材料层之后，通过在第二材料层上执行第二光蚀刻形成一个第二图案，其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光，在第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。本专利技术还包括在第一和第二图案上形成一个材料层，以及通过在材料层上进行包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区分区曝光的光蚀刻而形成图案，光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线以及第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。可以重复形成材料层和图案以形成多个图案。在根据本专利技术的另一实施例的制作液晶显示器的方法中，在第一金属层首先形成在衬底上之后，通过在第一金属层上执行第一光蚀刻而形成包括栅极线和栅电极的栅极布线，其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光。随后，在栅极布线上形成一个栅极绝缘膜。在栅极绝缘层上形成半导体层之后，通过在半导体层上执行第二光蚀刻而形成半导体图案，其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光，至少一个第二拍摄区边界线与至少一个第一拍摄区边界线隔开。接下来，在栅极绝缘膜和半导体图案上形成第二金属层之后，通过在第二金属层上执行第三光蚀刻而形成包括数据线、源电极和漏电极的数据布线，其中第三光蚀刻包括对在至少一个第三拍摄区边界线两侧的至少两个区域进分区曝光，至少一个第三拍摄边界线与至少一个第一和第二边界线隔开。在半导体图案和数据布线上形成一个钝化膜之后，通过在钝化膜上进行第四光蚀刻而形成一个暴露出漏电极的接触孔，其中第四光蚀刻包括对在至少一个第四拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光，至少一个第四拍摄区边界线与至少一个第一至第三边界线隔开。随后，在钝化膜和漏电极上形成一个透明导电层并通过在透明导电层上执行第五光蚀刻而形成一个连接到漏电极上的象素电极之后，其中第五光蚀刻包括对在至少一个第五拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光，至少一个第五拍摄区边界线与至少一个第一至第四边界线隔开。第一至第五光蚀刻中每一个可以通过利用一个掩膜进行。该掩膜可以包括在衬底的中心部分限定一个曝光区的第一掩膜图案，以及分别在左、右部分限定曝光区的第二和第三掩膜图案。根据本专利技术的实施例，在至少两个掩膜上的第一至第三掩膜图案中的至少两个的宽度不同。根据本专利技术的另一实施例，利用第一掩膜图案在第一至第五光蚀刻中的至少两个光蚀刻中进行曝光的拍摄区数量不同。根据本专利技术的另一实施例，在至少两个掩膜中的第一至第三掩膜图案中的至少一个具有至少两个子掩膜图案。优选地，通过在面对所述衬底的相对衬底上形成用于黑矩阵(blackmatrix)的材料层并然后在该黑矩阵的材料层上执行第六光蚀刻而形成一个黑矩阵，其中第六光蚀刻包括对在至少一个第六拍摄区边界线两侧的至少两个区域分区曝光，至少一个第六拍摄区边界线与至少一个第一至第五边界线隔开。优选的是，通过在面对所述衬底的相对衬底上形成一个透明导体层并然后在该透明导体层上执行第六光蚀刻而形成一个公共电极，其中第六光蚀刻包括对在至少一个第六拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光，至少一个第六拍摄区边界线与至少一个第一至第五边界线隔开。附图说明图1A至1E是LCD面板的布局图，示出根据本专利技术第一实施例的制作方法中对于各个图案层的各分割区之间的拍摄区边界；图2是LCD面板的示意图，示出根据本专利技术第二实施例的制作方法中各分割区之间的所有边界线；图3是LCD面板的示意图；图4根据本专利技术第三、第四和第五实施例的LCD制作方法中用于曝光过程的第一掩膜的示意图；图5是根据本专利技术第三实施例的LCD制作方法中用于曝光过程的第二掩膜的示意图；图6是LCD面板的示意图，示出根据本专利技术第三实施例的LCD制作方法的曝光过程中通过第一和第二掩膜的各曝光区之间的边界线；图7是根据本专利技术第四实施例的LCD制作方法中用于曝光过程的第三掩膜示意图；图8是LCD面板的示意图，示出在根据本专利技术第四实施例的LCD制作方法的曝光过程中通过第一和第三掩膜的各曝光区之间边界线；图9是根据本专利技术第五实施例的LCD制作方法中用于曝光过程的第四掩膜的示意图；以及图10是LCD面板的示意图，示出在根据本专利技术第五实施例的LCD制作方法的曝光过程中通过第一和第四掩膜的各曝光区之间的边界线。具体实施例方式下面参考附图对本专利技术的实施例进行描述。图1A至1E是LCD面板的布局图，示出在根据本专利技术第一实施例的制作方法中的各个图案层的分割区之间的拍摄区边界。本实施例执行五次曝光过程形成图案层。如图1A所示，栅极金属层沉积在绝缘衬底10上，并通过第一光蚀刻步骤对该栅极金属层构图，从而形成包括多条栅极线22、多个栅极焊盘24和多个栅电极26的栅极布线。在第一光蚀刻步骤中，光致抗蚀膜施加在栅极金属层的整个表面上，并使用一个栅极掩膜由至少两个拍摄区对光致抗蚀膜进行分区曝光。根据各个本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种形成图案的方法，包括：　　　　形成第一材料层；　　　　通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图案，其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光；　　　　在第一图案上形成第二材料层；以及　　　　通过在第二材料层上执行第二光蚀刻形成第二图案，其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光，第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：卓英美，朴云用，李庭镐，洪雯杓，丁奎夏，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]