本发明提供一种用于显示装置的模具，包括：支承框架；设置在所述支承框架的表面上的至少一个图案形成部件；以及突出部，从所述支承框架突出并沿所述图案形成部件的周围设置，朝向所述图案形成部件的所述突出部的内壁从所述支承框架的所述表面直立。

公开了狭缝式涂布机的清洗剂，制造显示器的狭缝式涂布机和显示器的制造方法。狭缝式涂布机的清洗剂包含约７０～约９０ｗｔ％的丙二醇单甲醚、约５～约２０ｗｔ％的丙二醇单甲醚乙酸酯和约５～约２０ｗｔ％的乙基（３－乙氧基）丙酸酯。

一种制造滤色器阵列板的方法，包括：在绝缘基板上形成具有色素的第一感光膜，在第一感光膜上形成色素量高于所述第一感光膜的色素量的第二感光膜，对所述第一和第二感光膜曝光和显影，以形成第一滤色器和暴露所述第一滤色器的预定区域的第二滤色器。

本发明提供一种用于在晶片上喷射液体的液体涂布装置和方法。液体涂布装置可以包括：在晶片上喷射液体并且相对于晶片移动的喷嘴单元，和在喷嘴单元周围形成强制气流的层流形成单元。尽管由于喷嘴单元的移动，在喷嘴单元周围可能形成尾迹，但层流形成单元可...

本发明提供一种光致抗蚀剂ＰＲ剥离装置，其可以再循环光致抗蚀剂剥离剂且在过滤器操作期间实现连续的过滤动作。该ＰＲ剥离装置包括：ＰＲ剥离槽，用于接收具有ＰＲ图案的基板且用于该ＰＲ图案的剥离；ＰＲ剥离剂回收管，用于接收来自ＰＲ剥离槽的ＰＲ剥离...

一种光刻胶组合物包括着色剂、粘合剂树脂、交联剂、光聚合引发剂和溶剂。该着色剂包括蒽醌类染料和颜料。由该光刻胶组合物形成的滤色片具有相对较高的透光率。由此，可以改进具有该滤色片的显示装置的对比度。

本发明公开了一种压模、用于制造该压模的方法以及利用该压模的基底的压印工艺。该压模能够抑制变形如收缩和膨胀，以提高具有刻在其上的精细图案的压模的尺寸准确度以及基底与压模的排列精确度。该压模包括：压模体，具有预定图案；加强部分，设置在压模体...

提供一种其对准误差已经被校正的光掩模，以及校正光掩模的对准误差的方法。光掩模包括光掩模衬底、在光掩模衬底的一个表面上形成的光学图形、以及在光掩模衬底中形成的多个应力产生部分。校正光掩模的对准误差的方法包括以下步骤：在光掩模衬底上形成光学...

本发明提供用于制造线栅偏振器的系统和方法，包括：用于在基板上形成薄金属膜层的沉积单元、用于在薄金属膜层上涂覆光致抗蚀剂并用于烘焙光致抗蚀剂的涂覆单元、包括其上形成图案的印模并用于把印模压到光致抗蚀剂上且由此把印模的图案转移到光致抗蚀剂上...

在形成掩模结构的方法中，在衬底上形成第一掩模，第一掩模包括具有多个掩模图形部分的第一掩模图形和具有边角部分的第二掩模图形，该多个掩模图形部分在其间具有开口，该边角部分的内侧壁是弯曲的。在第一掩模上形成牺牲层。在该牺牲层上形成硬掩模层。在...

提供了一种纳米压印模子及其制造方法，其能够用于将纳米级结构复制到聚合物层。所述纳米压印模子包括：基板；形成在所述基板上的含有凸凹图案的图案部分；在所述图案部分的表面上的硬化层，所述硬化层由具有比所述图案部分更高的硬度的材料形成；以及形成...

本发明涉及利用处理液除去基板的光刻胶并用臭氧处理处理液。当处理液被喷射到基板上时，倾斜基板以从基板上除去光刻胶。因此使用处理液均匀地处理基板以及收集处理液变得很方便。收集的处理液通过臭氧进行处理然后再使用。

本发明披露了含氧杂环丁烷的化合物，包括该化合物的光致抗蚀剂组合物，使用该光致抗蚀剂组合物制备图案的方法，以及喷墨打印头，该喷墨打印头包括所述含氧杂环丁烷的化合物的聚合产物。

一种液晶显示器（ＬＣＤ）以及制造该ＬＣＤ的方法，其中滤色镜保留在存储电极线上的像素电极之间或像素电极与共用电极之间的边界部中，以防止当去除滤色镜时残留的像素电极使像素电极短路。

光致抗蚀剂组合物包含：约４％至约１０重量％的光致抗蚀剂树脂；约０．１％至约０．５重量％的光致酸生成剂，所述光致酸生成剂具有锍盐阳离子基团和含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团；和余量的溶剂。所述光致抗蚀剂组合物可以形成具有均匀外形的光致...

本发明提供一种光学片及其制造方法，其中形成有扩散图案以扩散并会聚光。所述光学片包括具有多个山峰和沟壑以会聚来自光源的光的棱镜图案，以及多个不规则地形成在棱镜图案上以扩散光的扩散图案。

本发明提供具有改进的导光板的液晶显示装置，特别地，提供具有改进的导光板的背光组件以及制造方法。所述背光组件具有包括至少两个薄层的导光板和多个光学片，该光学片顺次叠置在液晶显示面板的后表面。

提供了一种液体密封单元。该液体密封单元包括用于容纳液体并具有光通过其传输的光学喷嘴孔的存储容器以及用于容纳与光学喷嘴孔中容纳的液体相接触的流体的密封部分。也提供了一种具有该液体密封单元的浸没式光刻装置。因此，基本可以防止投影光学系统的污染。

本文公开的是适于涂覆到大型基板上并且具有改善的涂覆均匀性以防止出现瑕疵的光刻胶组合物、其涂覆方法、用其形成有机膜图案的方法以及由此制造的显示器。本发明因而提供包含具有加入的聚硅氧烷树脂的聚合物树脂、光敏化合物和有机溶剂的光刻胶组合物。因...

本发明涉及一种光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法。提供一种光刻胶剥离组合物，其包括约８０重量％－约９８．５重量％的γ－丁内酯、约１重量％－约１０重量％的氨基甲酸烷基酯、约０．１重量％－约５重量％的烷基磺酸和约０．１重量％－约５重...