一种光阻剂，包含碱溶性树脂、光敏剂和溶剂。碱溶性树脂包含由间甲酚合成的第一类酚醛清漆树脂，第一类酚醛清漆树脂的平均分子量为大约８０００至２５０００并且其多分散指数为四或更小。第一类酚醛清漆树脂在碱溶性树脂中的含量为大约５ｗｔ．％至３０ｗ...

一种光掩模及其方法。在示例方法中，该光掩模可以通过以下步骤制造：在表面上形成氧化物层；构图所述氧化物层以形成氧化物图案，所述氧化物图案包括多个氧化物图案主体和多个氧化物窗口；用吸收剂填充所述多个氧化物窗口以形成吸收剂图案；以及减少所述多...

本发明公开了一种液晶显示装置的配向膜的制造方法和在其中使用的蚀刻设备。所述方法能够在准确的位置简单地构图配向膜。所述方法包括在基板上形成配向膜，所述基板在对应于用于将电压施加到公共电极的传输电极的位置具有电极焊盘；和在不使用掩模图案的情...

一种黑色基体组合物，其包括约４０重量份颜料分散体，约０．１－约１．０重量份光引发剂，约５－约２０重量份可光聚合单体，约５－约２０重量份粘结树脂，其包含含氟的丙烯酰基类共聚物且具有与该丙烯酰基类共聚物的侧链联结的羟基；约０．１－约０．５重...

本发明提供了一种制作具有显示区和非显示区的液晶显示器的方法，该方法包括：在绝缘基底上形成具有漏电极的薄膜晶体管（ＴＦＴ）；在ＴＦＴ上顺序地形成无机层和有机绝缘层；通过图案化有机绝缘层来形成有机绝缘层图案，有机绝缘层包括第一有机层孔和第二...

本发明提供了一种掩模。该掩模包括：掩模体、第一曝光部分和第二曝光部分。第一曝光部分在掩模体上。该第一曝光部分包括：第一透光部分和第二透光部分。该第一透光部分将对应于输出端子的光刻胶部分曝光于第一光量的光。另外，第二透光部分将与输出端子相...

根据本发明的光掩模根据使用光掩模所形成的图像类型的照射类型提供选择性区域优化。光掩模包括光偏振结构，其偏振入射到偏振结构的光。来自光刻曝光系统中的源的第一照射类型的光入射到光掩模。部分光入射到包括偏振结构的光掩模的区域，并且光的另一部分...

本发明公开了一种制造液晶显示器的装置，其包括：第一支撑构件，用于支撑基板和设置在基板上的转移光敏膜；第二支撑构件，具有与第一支撑构件相对的第一表面；弹性构件，与第二支撑构件的第一面相邻设置；驱动机构，用于将第一支撑构件和第二支撑构件朝着...

本发明公开了一种ＬＣＤ的显示面板及具有其的ＬＣＤ装置及其制造方法。所述ＬＣＤ显示面板包括：基板、形成在所述像素区域上的薄膜晶体管、形成在所述薄膜晶体管上的钝化层、形成在钝化层上的多个反射图案、形成在所述反射图案上方的透明电极、以及形成在...

公开了一种液晶显示器，其包括：公共电极面板，所述公共电极面板含有第一基板，形成在所述基板上并具有光孔的滤色器，形成在所述滤色器上和所述光孔之中的公共电极，以及形成在所述公共电极上并形成到所述光孔之中的第一绝缘膜；面对所述公共电极面板的薄...

本发明提供了一种液晶显示器及其制造方法，该液晶显示器包括：第一板，具有薄膜晶体管；第二板，具有含多个隔离件的绝缘基板，隔离件设置在绝缘基板上，防止光从第一板上泄漏，并保持第一板与第二板之间的预定距离；以及液晶层，设于第一板与第二板之间，...

本发明公开了一种用于形成显示器基板的掩模，使用该掩模制造显示器基板的方法和显示器基板，其能够通过避免色斑和色移提高色泽复现性。所述掩模包括第一子掩模、第二子掩模、第一交叠部分和第二交叠部分。第一子掩模包括彩色标线，从而在显示器基板的第一...

提供了阻挡聚合物、引入这种聚合物的阻挡涂敷组合物以及利用这种阻挡涂敷组合物抑制浸渍光刻过程中光刻胶成分溶解的方法。该阻挡聚合物可以由包括至少一个单体的一种或多种单体合成，该单体具有三（三甲基硅氧烷基）甲硅烷基以及将具有５，０００至２００...

提供了具有改进的分辨率的二元光掩模及其制造方法。该二元光掩模可包括衬底；防透光图形，排列在衬底上以限定电路图形；以及补偿层，配置为基于补偿层的布局改变透过二元光掩模的光，并排列在防透光层和／或衬底上。

在一种制造液晶显示装置的方法当中，在对形成于液晶显示装置的基板上的光致抗蚀剂膜曝光和显影时，在所述基板上形成突起，以提高液晶显示装置的视角。尽管基板形成有由各中间膜导致的台阶差，但是，由于针对光致抗蚀剂膜的曝光量根据其上形成突起的基板的...

本发明涉及一种喷墨打印头的制造方法，包括通过对包含前体聚合物、阳离子型光引发剂和溶剂的可交联聚合物抗蚀剂组合物进行光化辐射而形成喷嘴层，其中改变所述阳离子型光引发剂的浓度从而控制包含于所述喷嘴层中的喷嘴的锥形角。

一种喷墨头以及制造所述喷墨头的方法，所述喷墨头包括：具有提供墨水的歧管的衬底；由光致固化环氧树脂形成的室，所述室具有热源，并且形成暂时存储所述墨水的墨室；以及在所述室上由热固环氧树脂形成的，包括多个用来喷射所述墨水的喷嘴的喷嘴板。

本发明提供了一种适合于形成用于补偿反射区与透射区之间的色彩再现差异的滤色器的曝光掩模、使用其制备的液晶现实装置及制造液晶显示装置的方法，其中该曝光掩模包括：第一区，通过控制入射光引起一部分薄膜保持为薄膜图案；第二区，通过与所述第一区相反...

本发明提供一种用于在显示器件的基板上形成薄膜图案的方法和装置，包括：在支承板上安装所述基板；在该基板的表面上施加有机材料层；使该材料层与模具一表面接触，该表面含有将形成在该基板上的图案的负图案；以一角度倾斜该支承板；以及用压辊将该模具压...

根据本发明提供了一种制备滤色器的黑矩阵的方法，其包括：在透明基板的表面上形成憎水有机材料的光遮挡层；通过构图光遮挡层形成了黑矩阵；在黑矩阵的顶表面上形成阻挡层；以及加热形成有阻挡层的黑矩阵，并使用紫外光照射黑矩阵的上部分。