本发明的等离子体检测装置可包括：测定部，具备用于测定腔室内部的光量的照度传感器，以及检测部，通过分析所述光量来检测在所述腔室内部是否产生等离子体。述腔室内部是否产生等离子体。述腔室内部是否产生等离子体。

本发明公开一种根据基板或基板处理工艺控制在基板上安置的夹圈的个数，从而，能够有效地防止基板的弯曲变形(warpage)的基板处理装置及基板处理方法。根据本发明的实施例的基板处理装置，包括：支撑卡盘，其用于支撑所述基板；及弯曲变形防止装置...

本发明提供一种对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置。对准装置可以包括：支撑模块，在不同高度支撑各个对象物；以及对准模块，对准由所述支撑模块支撑的对象物，所述对准模块可以包括：第一对准部，对准作为所述对象物中的一个的第一对象物；第二对...

本发明提供一种基板处理装置。处理基板的装置可包括：腔室，所述腔室具有内部空间；基座，所述腔室在所述内部空间中支撑基板；及边缘夹具，所述边缘夹具抑制被所述基座支撑的基板的弯曲；且所述边缘夹具包括：环状的主体；多个凸起，所述多个凸起从所述主...

本发明提供一种对准形成有槽口部的处理对象的对准装置。本发明的一实施例对准装置包括：支撑部件，放置有处理对象；驱动部，旋转所述支撑部件；推动部件，向放置于所述支撑部件上的处理对象的侧面施加力，而将所述处理对象移动至所述支撑部件上的原位置；...

本发明提供一种由上部向基板的一部分区域施加力的基板加压模块。本发明的一实施例的基板加压模块包括：支撑部件，支撑基板；重量部件，以放置于在所述支撑部件上放置的基板的所述一部分区域的方式提供，具有超过一定重量的重量；加压单元，由上部向所述重...

本发明提供一种支撑基板的基板支撑单元。一实施例的基板支撑单元包括：支撑板，在上面形成有形成真空压的多个吸附孔，以吸附基板；真空吸附单元，将真空压施加至所述吸附孔，所述真空吸附单元包括：压力测定部件，测定所述吸附孔的内部气压；吸气单元，吸...