对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置。对准装置可以包括：支撑模块，在不同高度支撑各个对象物；以及对准模块，对准由所述支撑模块支撑的对象物，所述对准模块可以包括：第一对准部，对准作为所述对象物中的一个的第一对象物；第二对准部，对准作为所述对象物中的一个且与所述第一对象物不同的第二对象物；以及驱动部，使所述第一对准部和所述第二对准部同时移动。

【技术实现步骤摘要】
对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置
本专利技术涉及对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置。
技术介绍
随着半导体芯片高度集成，其尺寸逐渐减小。另一方面，半导体芯片上的焊锡球之间的间隔由世界半导体标准协会的国际标准确定。因此，不易调节半导体芯片的焊锡球的数量。另外，随着半导体芯片变小，处理变得困难，并且测试也变得困难。同时，存在根据半导体芯片的尺寸需要多元化所安装的板材的问题。为了解决这个问题，提出了扇出型面板级封装(FanOutPanelLevelPackage,FOPLP)。通常，针对扇出型面板级封装(FanOutPanelLevelPackage,FOPLP)的扇出型面板(FanOutPanel)的表面处理工艺可以以如下方式进行：将等离子体供应到扇出型面板，通过供应到扇出型面板的等离子体来去除附着在面板上的杂质等。图1是示出对扇出型面板进行等离子体处理时面板的状态的图。参照图1，面板S由被绝缘体6包围的卡盘2支撑。面板S可以通过升降销4沿上下方向升降。当通过向面板S供应等离子体来进行处理时，由于面板S的厚度薄等原因，在面板S存在翘曲(Warpage)现象。在该情况下，在面板S的底面和卡盘2顶面产生间隙。当在面板S的底面和卡盘2之间产生间隙时，由于局部等离子体(LocalPlasma)而产生电弧现象等。由此，在面板S的底面发生损坏。另外，在面板S存在翘曲(Warpage)现象的情况下，当搬运机械手以真空吸附等方式搬运面板S时，存在难以将面板S正确地安置到搬运机械手的现象。在该情况下，当搬运机械手搬运面板S时，存在面板S可能从搬运机械手脱离的风险。为了消除这种因面板S所具有的翘曲现象而产生的问题，当处理面板S和/或搬运面板S时，如图2所示，在面板S的上部配置窗式夹W，并且在面板S的下部配置夹具板J。在该情况下，当处理面板S和/或搬运面板S时，能够使因面板S所具有的翘曲现象而产生的问题最小化。如上所述，在面板S的上、下部配置窗式夹W和夹具板J的情况下，窗式夹W和夹具板J需要相对于面板S正确地对准。否则，由于未去除面板S的翘曲现象，可能发生上述的电弧现象。另外，当搬运机械手搬运窗式夹W、面板S以及夹具板J时，窗式夹W、面板S以及夹具板J可能从搬运机械手脱离。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于，提供一种能够有效地执行对扇出型面板的处理的对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置。另外，本专利技术的另一目的在于，提供一种能够有效地对准至少一个以上对象物的对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置。另外，本专利技术的又一目的在于，提供一种能够有效地对准窗式夹、面板以及夹具板的对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置。本专利技术的目的并不限于此，本领域的普通技术人员可以从以下描述中明确地理解未提及的其他目的。本专利技术提供一种对准装置。对准装置可以包括：支撑模块，在不同高度支撑各个对象物；以及对准模块，对准由所述支撑模块支撑的对象物，所述对准模块可以包括：第一对准部，对准作为所述对象物中的一个的第一对象物；第二对准部，对准作为所述对象物中的一个且与所述第一对象物不同的第二对象物；以及驱动部，使所述第一对准部和所述第二对准部同时移动。根据一实施例，所述驱动部可以使所述第一对准部和所述第二对准沿相同方向移动部。根据一实施例，所述第一对准部可以包括至少一个以上第一辊，当所述对准模块对准所述第一对象物时，所述至少一个以上第一辊与所述第一对象物接触，所述第二对准部可以包括至少一个以上第二辊，当所述对准模块对准所述第二对象物时，所述至少一个以上第二辊与所述第二对象物接触。根据一实施例，所述对准模块还可以包括第三对准部，对准作为所述对象物中的一个且与所述第一对象物和所述第二对象物不同的第三对象物，所述驱动部可以使所述第一对准部、所述第二对准部以及所述第三对准部同时移动。根据一实施例，所述对准模块可以设置为多个，当从顶部观察时，分别配置在由所述支撑模块支撑的对象物的拐角区域。根据一实施例，所述支撑模块可以包括：底座；支架，设置在所述底座的顶面，并且支撑与所述第一对象物和第二对象物不同的第三对象物；至少一个以上升降销，可插入到形成于所述第三对象物的孔，并且升降所述第二对象物；以及支撑销，支撑所述第一对象物。根据一实施例，所述支架可以包括：安置部，支撑所述第三对象物时与所述第三对象物的底面接触；以及倾斜部，从所述安置部延伸，并且从顶部观察到的所述底座的中心朝向所述底座的外侧方向向上倾斜。根据一实施例，所述支撑销可以在第一高度支撑所述第一对象物，所述升降销可以在低于所述第一高度的第二高度升降并支撑所述第二对象物，所述支架可以在低于所述第二高度的第三高度支撑所述第三对象物。另外，本专利技术提供一种处理基板的装置。基板处理装置可以包括：处理室，对基板执行等离子体处理工艺；缓冲室，具有内部空间，并且在所述内部空间设置有对准窗式夹、基板以及夹具板的对准装置；以及搬运机械手，在所述处理室和缓冲室之间搬运所述窗式夹、所述基板以及所述夹具板，所述对准装置可以包括：支撑模块，在不同高度支撑所述窗式夹、所述基板以及所述夹具板；以及对准模块，对准由所述支撑模块支撑的所述窗式夹、所述基板以及所述夹具板，所述对准模块可以包括：第一对准部，对准所述窗式夹；第二对准部，对准所述基板；第三对准部，对准所述夹具板；以及驱动部，使所述第一对准部、所述第二对准部以及所述第三对准部同时移动。根据一实施例，所述驱动部可以使所述第一对准部、所述第二对准部以及所述第三对准部沿相同方向移动。根据一实施例，所述第一对准部可以包括至少一个以上第一辊，当所述对准模块对准所述窗式夹时，所述至少一个以上第一辊与所述窗式夹接触，所述第二对准部可以包括至少一个以上第二辊，当所述对准模块对准所述基板时，所述至少一个以上第二辊与所述基板接触，所述第三对准部可以包括至少一个以上第三辊，当所述对准模块对准所述夹具板时，所述至少一个以上第三辊与所述夹具板接触。根据一实施例，所述支撑模块可以包括底座；支架，设置在所述底座的顶面，并且支撑所述夹具板；至少一个以上升降销，可插入到形成于所述夹具板的孔，并且升降所述基板；以及支撑销，支撑所述窗式夹。根据一实施例，所述支架可以包括：安置部，支撑所述夹具板时与所述夹具板的底面接触；以及倾斜部，从所述安置部延伸，并且从顶部观察到的所述底座的中心朝向所述底座的外侧方向向上倾斜。根据一实施例，当从顶部观察时，所述第二辊、所述第三辊以及所述第一辊可以与所述底座的中心顺序地相邻。根据一实施例，所述支撑销可以在第一高度支撑所述窗式夹，所述升降销可以在低于所述第一高度的第二高度升降并支撑所述基板，所述支架可以在低于所述第二高度的第三高度支撑所述夹具板。根据一实施例，所述对准模块可以设置为多个，当从顶部观察时，分别配置在由所述支撑模块支撑的对象物的拐角区域。根据本专利技术的一实施例，本专利技术能够有效地执行对扇出型面板的处理。另外，根据本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种对准装置，其中，包括：/n支撑模块，将多个对象物中的每个对象物支撑在不同高度；以及/n对准模块，将由所述支撑模块支撑的对象物进行对准，/n所述对准模块包括：/n第一对准部，将作为多个所述对象物中的一个的第一对象物进行对准；/n第二对准部，将作为多个所述对象物中的一个且与所述第一对象物不同的第二对象物进行对准；以及/n驱动部，使所述第一对准部和所述第二对准部同时移动。/n

【技术特征摘要】
20200224 KR 10-2020-00220751.一种对准装置，其中，包括：
支撑模块，将多个对象物中的每个对象物支撑在不同高度；以及
对准模块，将由所述支撑模块支撑的对象物进行对准，
所述对准模块包括：
第一对准部，将作为多个所述对象物中的一个的第一对象物进行对准；
第二对准部，将作为多个所述对象物中的一个且与所述第一对象物不同的第二对象物进行对准；以及
驱动部，使所述第一对准部和所述第二对准部同时移动。


2.根据权利要求1所述的对准装置，其中，
所述驱动部使所述第一对准部和所述第二对准部沿相同方向移动。


3.根据权利要求1所述的对准装置，其中，
所述第一对准部包括至少一个以上第一辊，当所述对准模块将所述第一对象物进行对准时，所述第一辊与所述第一对象物接触，
所述第二对准部包括至少一个以上第二辊，当所述对准模块将所述第二对象物进行对准时，所述第二辊与所述第二对象物接触。


4.根据权利要求1所述的对准装置，其中，
所述对准模块还包括第三对准部，所述第三对准部将作为所述对象物中的一个且与所述第一对象物和所述第二对象物不同的第三对象物进行对准，
所述驱动部使所述第一对准部、所述第二对准部以及所述第三对准部同时移动。


5.根据权利要求1至4中的任一项所述的对准装置，其中，
所述对准模块设置为多个，当从顶部观察时，多个所述对准模块分别配置在由所述支撑模块支撑的对象物的拐角区域。


6.根据权利要求5所述的对准装置，其中，
所述支撑模块包括：
底座；
支架，设置在所述底座的顶面，并且支撑与所述第一对象物和所述第二对象物不同的第三对象物；
至少一个以上升降销，能够插入到形成于所述第三对象物的孔，并且使所述第二对象物升降；以及
支撑销，支撑所述第一对象物。


7.根据权利要求6所述的对准装置，其中，
所述支架包括：
安置部，支撑所述第三对象物时与所述第三对象物的底面接触；以及
倾斜部，从所述安置部延伸，并且从顶部观察到的所述底座的中心朝向所述底座的外侧方向向上倾斜。


8.根据权利要求6所述的对准装置，其中，
所述支撑销在第一高度支撑所述第一对象物，
所述升降销在低于所述第一高度的第二高度升降并支撑所述第二对象物，
所述支架在低于所述第二高度的第三高度支撑所述第三对象物。


9.一种基板处理装置，其中，包括：
处理...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴锺范，
申请(专利权)人：PSK控股公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR