基板支撑单元制造技术

本发明专利技术提供一种支撑基板的基板支撑单元。一实施例的基板支撑单元包括：支撑板，在上面形成有形成真空压的多个吸附孔，以吸附基板；真空吸附单元，将真空压施加至所述吸附孔，所述真空吸附单元包括：压力测定部件，测定所述吸附孔的内部气压；吸气单元，吸入所述吸附孔内的气体而排出，能够调节所述吸附孔内的气体的吸入力；控制部，控制所述吸气单元，以根据由所述压力测定部件测定的压力而调节所述吸入力。

Base plate support unit

【技术实现步骤摘要】
基板支撑单元
本专利技术涉及支撑基板的装置。
技术介绍
半导体集成电路一般为非常小且薄的硅片，但由各种电子零件构成，一个半导体芯片在出厂之前经过包括成像工序、蚀刻工序、沉积工序等各种制造工序。执行该半导体制造工序的装置在腔体内部的下端部具有卡盘(Chuck)，以用于支撑半导体晶片(Wafer)等基板。卡盘利用机械夹紧、电或真空吸附等而将晶片固定在上部表面。利用机械夹紧的卡盘利用臂或夹钳而按压晶片的支撑表面，从而，固定晶片，利用静电力的卡盘在晶片与卡盘之间产生静电吸附力而固定晶片，真空吸附方式的卡盘形成向上面施加真空压的真空孔，利用在真空孔形成的真空压而吸附晶片。并且，晶片的翘曲(Warpage)在晶片被放置在真空吸附方式的卡盘时，在形成有晶片及真空孔的卡盘的上面之间产生分隔，因而难以将晶片固定在卡盘上，在移送时，难以通过移送单元而持握晶片，在进行加热或冷却工序时，因产生热气或冷气的构成的区域的距离不同，由此，难以进行均匀的加热或冷却。
技术实现思路
本专利技术用于提供一种能够稳定固定发生翘曲的基板的基板支撑单元。并且，本专利技术用于提供一种防止及改善基板的翘曲的基板支撑单元。本专利技术要解决的技术课题并非限定于此，未言及或其它课题通过下面的记载而使本专利技术
人员明确理解。本专利技术提供一种支撑基板的基板支撑单元。根据一实施例，基板支撑单元包括：支撑板，在上面形成有形成真空压的多个吸附孔，以吸附基板；真空吸附单元，向所述吸附孔施加真空压，所述真空吸附单元包括：压力测定部件，测定所述吸附孔的内部气压；吸气单元，吸入所述吸附孔内的气体而排出，并能够调节吸入所述吸附孔内的气体的吸入力；控制部，控制所述吸气单元，以使根据由所述压力测定部件测定的压力而调节所述吸入力。所述控制部控制所述吸气单元，以使在排出所述吸附孔内的气体而用于吸附基板的状态下，增加对所述吸附孔中的内部气压超过一定值以上的吸附孔的吸入力。在所述支撑板的上面形成有由所述上面向内侧凹蚀的凹槽，所述吸附孔中的一部分或全部设置在所述凹槽的内部。对于所述凹槽，在俯视时，为长度方向沿着所述支撑板的圆周方向提供的弧状。对于所述凹槽，在俯视时，提供为构成所述支撑板的圆周和同心的圆状。所述支撑板包括：上部支撑板，在上面形成所述支撑孔及所述凹槽；下部支撑板，提供至所述上部支撑板下面，支撑所述上部支撑板，所述上部支撑板能够进行更换。所述上部支撑板包括能够相互更换的第一上部支撑板及第二上部支撑板，对于所述第一上部支撑板及所述第二上部支撑板，在俯视时，所述凹槽的形状各不相同。所述吸附孔包括：第一吸附孔，形成于所述支撑板的中央区域；第二吸附孔，形成于所述支撑板的边缘区域，所述控制部控制所述吸气单元，以增加对所述第一吸附孔及所述第二吸附孔中的内部气压超过一定值以上的吸附孔的吸入力。所述吸附孔还包括：第三吸附孔，形成于所述支撑板的中央区域及所述支撑板的边缘区域的之间区域，所述控制部控制所述吸气单元，以增加对所述第一吸附孔、所述第二吸附孔及所述第三吸附孔中的内部气压超过一定值的吸附孔的吸入力。所述吸气单元包括：气泵，产生吸入力；连接线，连接所述气泵及所述吸附孔之间；阀门，调节所述连接线的开闭率，所述控制部控制所述吸气单元，以通过调节所述阀门的开闭率，而调节吸入力。所述吸附孔包括：第一吸附孔，形成于所述支撑板的中央区域；第二吸附孔，形成于所述支撑板的边缘区域，所述连接线包括：第一连接线，连接所述第一吸附孔及所述气泵之间；第二连接线，连接所述第二吸附孔及所述气泵之间，所述阀门包括：第一阀门，调节所述第一连接线的开闭率；第二阀门，调节所述第二连接线的开闭率，所述控制部控制所述吸气单元，以通过调节所述第一阀门及所述第二阀门的开闭率，而调节所述吸入力。所述吸附孔还包括：第三吸附孔，形成于所述中央区域及所述边缘区域的之间区域，所述连接线还包括：第三连接线，连接所述第三吸附孔及所述气泵之间，所述阀门还包括：第三阀门，调节所述第三连接线的开闭率，所述控制部控制所述吸气单元，以通过调节所述第三阀门的开闭率，而调节所述吸入力。本专利技术的实施例的基板支撑单元能够稳定地固定产生翘曲的基板。并且，本专利技术的实施例的基板支撑单元能够防止及改善基板的翘曲。附图说明图1为简要显示本专利技术的一实施例的基板支撑单元的立体图；图2为图1的基板支撑单元的侧截面图；图3为图1的基板支撑单元俯视平面图；图4为简要显示更换图1的上部支撑板的状态的附图；图5至图7为所提供的基板的翘曲现象的图1的基板支撑单元的侧面图；图8及图9为另一实施例的基板支撑单元的平面图。附图标记说明10、10a、10b：基板支撑单元100、100a、100b：支撑板110：吸附孔120：凹槽130：上部支撑板140：下部支撑板200：真空吸附单元210：压力测定部件220：吸气单元230：控制部具体实施方式下面，参照附图对本专利技术的实施例进行更具体说明。本专利技术的实施例能够变形为各种形式，本专利技术的范围并非通过下面的实施例进行限定解释。本实施例用于向本领域普通技术人员更完整地说明本专利技术而提供。因此，附图中的要素的形状进行了夸张，以用于更明确说明。本专利技术的实施例的基板支撑单元10在执行处理基板的工序的基板处理装置内支撑基板。基板支撑单元10提供至各种种类的基板处理装置。例如，所述基板处理装置作为执行处理成像工序、蚀刻工序、沉积工序等基板的工序中一个工序的装置被提供。本专利技术的基板为半导体晶片(Wafer)、掩膜(Mask)或液晶显示屏(LCD)板。图1为简要显示本专利技术的一实施例的基板支撑单元10的立体图，图2为图1的基板支撑单元10的侧截面图。参照图1及图2，根据一实施例，基板支撑单元10包括：支撑板100及真空吸附单元200。在支撑板100的上面放置基板S。在支撑板100的上面形成有多个吸附孔110。在吸附孔110形成吸附放置在支撑板100的上面的基板S的真空压。.图3为图1的基板支撑单元10俯视平面图。参照图1及图3，根据一实施例，吸附孔110包括：第一吸附孔111、第二吸附孔112及第三吸附孔113。第一吸附孔111形成于支撑板100的中央区域101。第二吸附孔112形成于支撑板100的边缘区域102。第三吸附孔113形成于所述中央区域101及边缘区域102的之间区域103。在支撑板100的上面形成有凹槽120。凹槽120以由支撑板100的上面向支撑板100的内侧凹蚀的方式提供。吸附孔110中的一部分或全部设置在凹槽120的内部。因此，根据提供不同的凹槽120的形状，施加至提供于凹槽的内部的吸附孔110的真空压调节影响基板S的区域。在本说明书的附图中，显示吸附孔110的全部被提供至凹槽120的内部。但，与此不同，根据需求，吸附孔110的一部分形成于支撑板100的上面中的凹槽120的外部。凹槽120按需而被有选择地提供。因此，与上述不同，凹槽120未被提供。根据一实施例，对于凹槽120，在俯视时，长度方向形成为沿着支撑板100的圆周方向提供的弧状。与此不同，凹槽120根据需要而提供为不同的形状。例如，凹槽120，在俯视时，提供为构成支撑板100的圆周与同心的圆形。如图1显示所示，凹槽120根据在支撑板100上提供的区域而提供为相互不同的形状。例如，凹槽120中的一部分提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板支撑单元，涉及一种支撑基板的基板支撑单元，其特征在于，包括：支撑板，在上面形成有形成真空压的多个吸附孔，以吸附基板；真空吸附单元，将真空压施加至所述吸附孔，所述真空吸附单元包括：压力测定部件，测定所述吸附孔的内部气压；吸气单元，吸入所述吸附孔内的气体而排出，能够调节所述吸附孔内的气体的吸入力；控制部，控制所述吸气单元，以根据由所述压力测定部件测定的压力而调节所述吸入力。

【技术特征摘要】
2018.04.30 KR 10-2018-00497431.一种基板支撑单元，涉及一种支撑基板的基板支撑单元，其特征在于，包括：支撑板，在上面形成有形成真空压的多个吸附孔，以吸附基板；真空吸附单元，将真空压施加至所述吸附孔，所述真空吸附单元包括：压力测定部件，测定所述吸附孔的内部气压；吸气单元，吸入所述吸附孔内的气体而排出，能够调节所述吸附孔内的气体的吸入力；控制部，控制所述吸气单元，以根据由所述压力测定部件测定的压力而调节所述吸入力。2.根据权利要求1所述的基板支撑单元，其特征在于，所述控制部控制所述吸气单元，以在排出用于吸附基板的所述吸附孔内的气体的状态下，增加对所述吸附孔中的内部气压超过一定值的吸附孔的吸入力。3.根据权利要求1所述的基板支撑单元，其特征在于，在所述支撑板的上面形成有由所述上面向内侧凹蚀的凹槽，所述吸附孔中的一部分或全部设置在所述凹槽的内部。4.根据权利要求3所述的基板支撑单元，其特征在于，对于所述凹槽，在俯视时，长度方向为沿着所述支撑板的圆周方向提供的弧状。5.根据权利要求3所述的基板支撑单元，其特征在于，对于所述凹槽，在俯视时，提供为构成所述支撑板的圆周与同心的圆形。6.根据权利要求3所述的基板支撑单元，其特征在于，所述支撑板包括：上部支撑板，在上面形成有所述支撑孔及所述凹槽；下部支撑板，提供至所述上部支撑板的下面，支撑所述上部支撑板，所述上部支撑板能够进行更换。7.根据权利要求6所述的基板支撑单元，其特征在于，所述上部支撑板包括能够相互更换的第一上部支撑板及第二上部支撑板，对于所述第一上部支撑板及所述第二上部支撑板，在俯视时，所述凹槽的形状各不相同。8.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：许龙会，李东熙，
申请(专利权)人：PSK控股公司，塞米吉尔公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR