本发明公开了一种具有截留功能的MO源供给系统，包括：MO源存储单元；载气主路，其与所述MO源存储单元的进气端连通，用以通入载气；出气主路，其第一端与所述MO源存储单元的出气端连通，第二端与输气管路和排气管路连通，通过所述输气管路为反应室...

本发明公开了一种压力容器异常溢出检测系统，包括：容器，用于承载液体，包括进气端和出气端；进气管路，与所述容器的进气端连通，用以通入载气；出气管路，与所述容器的出气端连通；及温度传感单元，包括设置于所述进气管路上的第一温度传感器，通过所述...

一种化学气相沉积设备及其气体喷淋头，气体喷淋头包含通过紧固件固定在反应腔顶盖下方的气体分配板和冷却板，冷却板上具有多个出气通道，利用加强筋对冷却板的出气通道进行加固，调整位于出气通道内的加强筋的位置，将靠近紧固件的加强筋错位设置，使得应...

本发明提供一种压力控制器、半导体处理设备及气压控制方法。本发明的压力控制器包含：壳体，罩设于流体管路上，形成安装空间，流体管路的分支管路朝壳体延伸，流体管路中的最大输送压力为第一压力；压力计，设于壳体内并通过安装座设在分支管路末端，分支...

本实用新型公开了一种PCBA功能测试系统，包括：PLC，所述PLC集成有CPU模块、多个PLC输出模块和多个PLC输入模块；工业控制计算机，工业控制计算机与CPU模块连接，用于向CPU模块发出测试控制命令；多个PLC输出模块根据待测PC...

一种支撑基片的基片托盘，所述基片托盘包括侧壁和侧壁围绕而成的的加热腔，所述侧壁顶部包括盖板，所述顶盖用于向下辐射热量；所述顶盖下方的侧壁内侧包括多个互相分离的支撑腔，以及与每个支撑腔相邻的举升腔，所述举升腔底部向下延伸并穿过基片托盘侧壁...

一种金属有机物化学气相沉积反应器，包括：反应腔，顶部包括气体喷淋头，气体喷淋头包括第一输入端口、第二输入端口和第三输入端口；前驱物输送管道组，与多种前驱物源连接；前驱物汇合输入管道，与前驱物输送管道组连通，用于汇合多种前驱物，连通第一输...

一种用于化学气相沉积装置的托盘和化学气相沉积装置，其中，所述托盘包括：托盘，可沿其中心轴转动，设有若干个基片槽，所述基片槽用于容纳待处理基片，每个所述基片槽包括远离所述中心轴的远心段、靠近所述中心轴的近心段和位于所述远心段和近心段之间的...