本发明公开了一种悬浮液等离子喷涂浆料及其制备方法与应用，涉及耐等离子刻蚀陶瓷涂层领域。方法包括以下步骤：S1、对基体进行前处理；S2、对前处理后的基体进行热处理；S3、将预处理后的喷涂浆料用APS喷涂到S2处理后的基体表面；S4、将预处...

本发明一种基于物联网技术的真空泵性能测试系统和仪器，包括真空泵、泵端测试装置、后端服务器、时序数据库和关系数据库；该系统通过对真空泵运作的三个阶段进行性能测试，包括启动测试、循环判断真空泵高压罐真空值、以及保压测试；泵端测试装置通过多个...

本发明公开了一种高纯度Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;立方相涂层的制备方法，属于涂层材料技术领域。本发明方法将悬浮液用大气等离子悬浮液喷涂技术喷涂于经预处理的基材表面，并以氩气...

本发明公开了一种铝合金硬质阳极氧化方法，属于铝合金阳极氧化技术领域。本发明方法包括对铝合金依次进行抛光、脱脂、水洗、碱蚀、水洗、除灰、一次阳极氧化、水洗、腐蚀脱模、水洗、二次阳极氧化、水洗、封孔、水洗、烘干等工艺。本发明方法通过使用多次...

本发明公开了一种等离子喷涂方法和系统，所述方法包括以下步骤：步骤1，未喷涂区域进行非喷涂区域保护；步骤2，选择白刚玉或氧化铝作为喷砂材料，通过机械手臂自动喷涂；步骤3，将喷砂后的石英进行干冰清洗和纯水超声波震荡清洗；步骤4，在喷涂处理的...

本发明公开了一种半导体设备真空腔体静电吸盘清洗方法，包括以下步骤：对静电吸盘表面及孔洞内部进行吹扫；对静电吸盘反复擦拭；检查静电吸盘表面侧面背面及孔道内部；测量孔道的孔径；对静电吸盘进行一次化学清洗；对静电吸盘进行二次化学清洗；对静电吸...

本发明公开了一种关于CVD Shower Head部件的清洗方法，属于半导体零部件清洗技术领域。该清洗方法包括：吹扫；异丙醇溶液中浸泡；清洗液浸泡；KOH水溶液浸泡；酸液浸泡；超声处理；烘干等操作。该方法可以有效去除产品表面及孔洞内部的...

本实用新型提供了一种半导体Grid部件化学清洗溢流模具，包括上盖板、冲洗分布板和底座，所述底座的顶部利用螺栓安装有冲洗分布板；所述冲洗分布板的底部通过螺栓安装有O型圈槽；所述O型圈槽的上端通过螺栓安装有上盖板，上盖板的中间位置通过气管快...

本发明公开了一种集成电路芯片高精密表面质量控制系统，包括识别模块、分配模块、多个检测模块、预测模块、提醒模块、显示模块、多个酸液槽设有酸液，多个检测模块对多个酸液槽内酸液的导电率进行检测，识别模块对待清洗产品的类型进行识别，分配模块按照...

本实用新型公开了一种半导体零部件整形模具，包括：底座，底座的一侧固定安装有定位块，定位块的内部开设有螺纹孔，螺纹孔的内部螺纹连接有螺纹杆，螺纹杆的一端转动连接有活动块，活动块的位于底座的表面，本实用新型具有以下优点：通过将形变后的聚焦环...

本实用新型公开了一种陶瓷涂层试片自动研磨装置的试片夹具，包括加工台，加工台上端一侧固定连接打磨设备，加工台上端靠近打磨设备一侧固定连接气缸，气缸输出端固定连接安装板，加工台上端远离打磨设备一侧安装有机械夹爪，加工台一侧设有支撑台，本实用...

本发明公开了一种等离子喷涂图像数据识别分析方法和系统，用于生成待喷涂产品的算法模板，包括图像采集模块，图像分析模块，图像空间处理模块，算法处理模块，算法模板数据库，数据存储器，算法输出端口。当算法模板数据库中没有待喷涂产品的算法模板，所...

本发明公开了一种等离子喷涂参数确定方法，属于计算机技术领域，其中所述方法包括使用多阶段依次确定并优化喷涂参数，通过本发明使得对等离子喷涂参数数据试验找到最优的参数的同时通过减少刻蚀速率的测试次数来降低等离子体刻蚀工艺的腐蚀影响程度，保证...

本发明公开了一种增强涂层与基材表面结合强度的方法，将YF3、不含氟的钇化合物粉末和WO3粉末的混合物在行星式快速球磨机中球磨后得到混合粉末；将混合粉末用等离子喷涂技术喷涂于经预处理的基材表面。本发明的方法所得的涂层组织结构和组成成分上更...

本实用新型属于半导体零件加工技术领域，提供了一种半环状外衬件的喷涂工装，包括中间支撑、连杆、环状支撑和底座；所述环状支撑设置在中间支撑的正面；所述连杆的数量为至少三个，至少三个所述连杆均布在中间支撑的外表面，任一所述连杆的一端连接于中间...

本实用新型属于石英产品清洗技术领域领域，提供了一种用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置，包括水槽、带孔平台、平台支撑和溢流管道；所述带孔平台设置在水槽内部，以使得水槽内部在带孔平台上侧形成蓄水腔；所述平台支撑设置在带孔平台下表面并...

本实用新型提供一种真空烘干用产品放置装置，包括装置本体和全氟离子膜；包括装置本体，用于放置待烘干产品，所述装置本体具有打开状态和关闭状态，所述装置本体上贯穿设置有孔洞，所述孔洞用于装置本体在关闭状态下连通真空烘干箱；全氟离子膜设置在装置...

本实用新型属于半导体设备测漏技术领域，提供了一种模拟上机环境的陶瓷环检漏用夹具，包括底座和罩壳，所述底座的顶面用于贴合待测产品的底面；罩壳平行设置在底座上侧，用于贴合待测产品的顶面；其中，所述罩壳上设置有空腔，所述罩壳顶部设置有接头，所...

本实用新型提供一种台阶平坦度测量用三坐标探针，包括第一杆端、第二杆端以及第三杆端；第一杆端沿第一方向延伸；第二杆端连接于第一杆端一端；第三杆端连接于第二杆端的另一端，所述第三杆端的另一端设置有测量头，所述第三杆端沿第一方向延伸；其中，所...

本实用新型公开了一种用于半导体喷涂的保护模具，包括铝制模具，所述铝制模具包括底板，所述底板的上方设有上盖，所述上盖与底板配合装配，所述上盖内边缘的凹陷处套接有硅胶保护圈和高硅氧布圈，所述底板的圆心位置设有支撑柱，圆柱模具套接在所述支撑柱...