【技术实现步骤摘要】
本专利技术提出了一种悬浮液等离子喷涂浆料及其制备方法与应用，涉及耐等离子刻蚀陶瓷涂层领域。
技术介绍
1、子制造中硅晶圆尺寸的增加给所有相关工艺带来了新的要求，包括晶圆的等离子蚀刻。氧化钇表现出出色的抗等离子体侵蚀性，因此，它常被用于等离子体蚀刻室的保护性覆盖物。而等离子热喷涂(aps)工艺经常被用来将氧化钇涂覆到需要保护的面上。
2、等离子热喷涂工艺采用高温等离子火焰对碳化物、金属陶瓷、陶瓷等进行喷涂。这种热喷涂工艺中使用的粉末颗粒大小从20微米到100微米不等，因此会产生粗结构(微米级特征)涂层。随着超大规模集成电路对精细尺寸需求的增加，人们随沉积具有亚微米和纳米尺寸特征涂层的兴趣日益浓厚，与传统的粗结构涂层相比，细结构涂层在磨损、耐刻蚀、结合强度、耐电压和化学稳定性等方面的性能都有所提高。利用aps沉积细微颗粒仍面临巨大挑战，因为粉末颗粒的动量不足，无法穿透粘性等离子体羽流，而且颗粒团聚会导致流动性差和喷射器喷嘴堵塞。
3、一种缓解纳米或亚微米粉末进料问题的新兴技术是悬浮等离子喷涂(sps)技术，该技术涉及...
【技术保护点】
1.一种悬浮液等离子喷涂浆料，其特征在于：包括氧化钇和纯化水，其中氧化钇纯度≥99.9％，粒径为1-9μm，氧化钇质量占氧化钇与纯化水质量之和的20-40wt％；浆料中还包括分散剂、消泡剂中的一种或二种以上。
2.根据权利要求1所述的悬浮液等离子喷涂浆料，其特征在于：所述分散剂包括聚丙烯酸铵、聚丙烯酸、聚乙二醇、磷酸酯、异辛醇聚氧乙烯醚、BYK-199改性苯、DOLAPIX CE 64、BYK-154中的一种或二种以上，在浆料中的质量分数为0.01wt％-2.50wt％。
3.根据权利要求1所述的悬浮液等离子喷涂浆料，其特征在于：所述消泡剂包括...
【技术特征摘要】
1.一种悬浮液等离子喷涂浆料，其特征在于：包括氧化钇和纯化水，其中氧化钇纯度≥99.9％，粒径为1-9μm，氧化钇质量占氧化钇与纯化水质量之和的20-40wt％；浆料中还包括分散剂、消泡剂中的一种或二种以上。
2.根据权利要求1所述的悬浮液等离子喷涂浆料，其特征在于：所述分散剂包括聚丙烯酸铵、聚丙烯酸、聚乙二醇、磷酸酯、异辛醇聚氧乙烯醚、byk-199改性苯、dolapix ce 64、byk-154中的一种或二种以上，在浆料中的质量分数为0.01wt％-2.50wt％。
3.根据权利要求1所述的悬浮液等离子喷涂浆料，其特征在于：所述消泡剂包括byk-016、byk-012中的一种或二种，在浆料中的质量分数为0.05wt％-2.00wt％。
4.一种权利要求1-3任一项所述的悬浮液等离子喷涂浆料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
5.根据权利要求4所述的悬浮液等离子喷涂浆料的制备方法，...
【专利技术属性】
技术研发人员：严汪学，张牧，朱文健，靳普云，陈开清，徐钰虹，范彦丽，陆圣波，李泽龙，
申请(专利权)人：江苏凯威特斯半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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