一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置制造方法及图纸

技术编号:41505887 阅读:37 留言:0更新日期:2024-05-30 14:46
本技术公开了一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置,属于镀膜工艺供气技术领域。包括腔室,腔室顶部设置有供气管。本技术通过检测到气体泄漏后利用控制器打开吸气泵使得腔室附近的气体吸入处理组件内部配合具有吸附块的蜂窝板和活性炭板对泄露气体进行吸附,避免腔室和供气管连接处气体泄漏逸散到工作环境中较多而对工作人员的呼吸健康造成影响,对工作人员的健康具有保护的作用;通过设置具有卡接套管的固接筒配合腔室内部的连接柱进行卡接,同时利用卡接块对多孔管卡接,实现了对供气装置在腔室内部的管道组件的快速卡接安装,无需使用工具拧动螺栓,便于对管道组件进行的拆卸维修和更换。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜工艺供气,更具体地说,涉及一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置


技术介绍

1、磁控溅射镀膜工艺是一种常用的薄膜制备技术,通过在真空环境中使用磁场控制离子束的运动,将材料溅射到基底上形成薄膜。

2、磁控溅射镀膜工艺的气体供气装置通常包括以下几个部分:气体源,提供溅射过程中所需的气体;气体调节器,用于调节气体的流量和压力,确保溅射过程中气体供应的稳定性和可控性;气体管道系统,将气体从气体源输送到溅射室中,通常包括主气体管道、辅助气体管道等;气体流量计,用于测量气体的流量,以确保溅射过程中气体供应的精确控制;气体控制阀,用于调节气体的流量和开关,以控制气体供应的开关和流量;气体净化系统,用于去除气体中的杂质和水分,以确保溅射过程中气体的纯净性。

3、现存的磁控溅射镀膜工艺气体供气装置具有以下不足:现存的供气装置在工作中供气管和腔室连接处容易出现气体泄漏,气体泄漏后逸散到工作环境中浓度较多,会影响到工作人员的呼吸,对工作人员的健康造成影响;常见的供气装置在腔室内部的管道组件常常使用螺栓或者焊接于腔室内部,从而使得管道组件在需要进本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置,其特征在于:所述处理组件(120)左侧壁设置有进气件(121),所述进气件(121)侧壁设置有多个进气筒。

3.根据权利要求2所述的一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置,其特征在于:所述处理组件(120)侧壁开设有配合于吸气泵(130)的孔洞,所述吸气泵(130)顶部设置有出气管。

4.根据权利要求3所述的一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置,其特征在于:所述多孔管(230)两侧设置有卡接块(231),所述卡接块(231)设置于腔室(100)的内...

【技术特征摘要】

1.一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置,其特征在于:所述处理组件(120)左侧壁设置有进气件(121),所述进气件(121)侧壁设置有多个进气筒。

3.根据权利要求2所述的一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置,其特征在于:所述处理组件(120)侧壁开设有配合于吸气泵(130)的孔洞,所述吸...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐迎春丁平伍李琴江小军旷小奇
申请(专利权)人:衡阳舜达精工科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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