用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于石英产品清洗技术领域领域，提供了一种用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置，包括水槽、带孔平台、平台支撑和溢流管道；所述带孔平台设置在水槽内部，以使得水槽内部在带孔平台上侧形成蓄水腔；所述平台支撑设置在带孔平台下表面并与水槽内壁紧配，所述平台支撑中设置暂存空间，所述暂存空间通过带孔平台与蓄水腔相通；其中，所述带孔平台中部向上形成溢流凸起，以使得溢流凸起与石英罩之间形成溢流空间；所述溢流凸起顶部中间设置有溢流口，所述溢流管道从水槽底部向上穿过平台支撑与溢流口相连。本实用新型专利技术能够同时去除石英罩内外表面的金属离子，节省超纯水的使用量，避免浪费。避免浪费。避免浪费。

【技术实现步骤摘要】
用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置


[0001]本技术涉及石英产品清洗
，尤其是一种用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置。

技术介绍

[0002]石英因耐高温、耐腐蚀、热稳定性好、透光性能好及电绝缘性能好，在半导体行业中被广泛应用。高纯石英制品更是晶圆生产中的重要耗材。生产硅单晶的坩埚、晶舟、扩散炉炉芯管等石英部件必须使用高纯石英玻璃制品。石英部件在半导体领域主要目标市场应用为晶圆代工中扩散和刻蚀工艺，所以为了防止加工过程中的污染，使用中必须要确保石英材料的高纯度和石英材料表面的金属离子含量。
[0003]由于半导体石英件价格比较昂贵，所以所有的半导体石英部件都需要通过清洗的方法达到再次使用的目的；在清洗过程中，石英部件表面金属离子的含量管控十分重要。
[0004]石英部件表面的金属离子一般是通过超纯水溢流来进行去除的；现有的溢流装置不能达到较大的石英罩的溢流效果，通常石英罩外表面的金属离子含量将会达到使用标准，但是石英罩的内表面的金属离子含量不能达到使用标准。因为石英罩较大，超纯水不能在石英罩内部进行很好的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置，其特征在于：包括水槽(1)、带孔平台(2)、平台支撑(3)和溢流管道(4)；其中水槽(1)、带孔平台(2)和平台支撑(3)均为PP材质；所述带孔平台(2)用于放置倒扣的石英罩，且所述带孔平台(2)设置在水槽(1)内部，以使得水槽(1)内部在带孔平台(2)上侧形成蓄水腔(101)；所述平台支撑(3)设置在带孔平台(2)下表面并与水槽(1)内壁紧配，所述平台支撑(3)中设置暂存空间(301)，所述暂存空间(301)通过带孔平台(2)与蓄水腔(101)相通；其中，所述带孔平台(2)中部向上形成溢流凸起(201)，以使得溢流凸起(201)与石英罩之间形成溢流空间(203)；所述溢流凸起(201)顶部中间设置有溢流口(...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾仁宝，杨国江，张牧，李伟东，朱文健，余箫伟，魏韶华，孙潇男，徐国俊，靳普云，薛弘宇，
申请(专利权)人：江苏凯威特斯半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：