本技术涉及次氮合成机构技术领域，且公开了一种氮化铝陶瓷基板的脱泡设备，包括支撑架，所述支撑架的顶部设置有延伸至其底部的外筒体，所述外筒体的内部设置有延伸至其顶部的内筒体，所述外筒体与内筒体之间设置有冷却腔，所述外筒体的右侧设置有与冷却腔...

本技术公开了一种氮化铝陶瓷基板抗氧化处理装置，包括底板，底板两侧设有支撑板，两个支撑板顶端连接有顶板，底板中间并排设有箱体、U型架，U型架设于顶板外侧，U型架两侧内壁相对设有烘干加热板，顶板底部设有夹持组件，底板上设有承托组件。本技术通...

本实用新型涉及一种光通讯封装氧化铝陶瓷多层基板，包括两个基板本体，下侧所述基板本体的下表面设有连接组件，所述基板本体的内部设有加强组件，所述连接组件包括卯榫部和限位部，所述卯榫部包括固定在下侧基板本体下表面的第一定位块，所述第一定位块的...

本实用新型涉及一种氧化铝陶瓷基板用承载托架，包括底座和设置于底座顶部的固定板，所述底座的两侧均设置有支撑机构，所述固定板顶部的左右两侧均固定连接有支撑板，两个支撑板之间设置有夹持机构，所述支撑机构包括固定连接于底座两侧的安装筒，所述安装...

本实用新型涉及一种氧化铝陶瓷基板切分机构，包括底板，所述底板的上表面垂直固定有两个竖板，所述底板的上方设有吸尘机构，底板的上方设有移动机构，两个所述竖板相对的一侧之间固定有顶板，所述顶板的下方设有电动推杆，所述电动推杆输出轴的外侧固定有...

本实用新型涉及一种氮化铝陶瓷基板的高效混料装置，包括罐体，所述罐体的内腔壁固定有固定板，所述固定板的上表面设有搅拌机构，所述罐体的下表面固定有出料管，所述罐体的下表面设有下料机构，所述搅拌机构包括固定于固定板上表面的第一电机，所述第一电...

本实用新型一种用于陶瓷基板表面处理的酸洗生产线，包括依次设置的强酸浸泡工位、第一喷淋工位、超声酸洗工位、第二喷淋工位、超声碱洗工位、超声漂洗工位、纯水溢流工位、酒精脱水工位、烘干工位，其中：强酸浸泡工位、第一喷淋工位设在一排，超声酸洗工...

本实用新型涉及一种氮化铝陶瓷复合基板结构，包括基板，所述基板的上表面固定有保护膜，所述保护膜的上表面设有透光机构，所述透光机构的上表面设有保护机构，所述保护机构的上表面设有电路层，所述透光机构包括固定于保护膜上表面的第一粘贴层，所述第一...

本实用新型涉及一种氮化铝陶瓷基板抛光机用抛光盘，包括驱动轴，所述驱动轴的外表面设有抛光盘组件，所述驱动轴上设有拆装组件；所述拆装组件包括开设于驱动轴内顶部的腔室，所述腔室的上下两侧壁之间固定有固定筒，所述腔室的底壁通过轴承转动连接有贯穿...

本实用新型涉及一种氧化铝陶瓷基板定位校准装置，包括陶瓷基板主体，所述陶瓷基板主体的下方设有箱体，所述箱体的下表面固定有四个支撑柱，所述箱体内部设有调节机构，所述调节机构上设有定位机构；所述调节机构包括与箱体内腔左侧壁通过轴承座转动连接且...

本实用新型涉及一种用于氮化铝陶瓷基板的打磨机，包括固定箱，所述固定箱的上表面设有夹持机构，所述固定箱的上表面固定有连接箱，所述固定箱的上表面固定有背板，所述背板内腔的顶壁固定有电动推杆，所述电动推杆的输出端固定有打磨装置本体，所述固定箱...

本实用新型涉及一种LED光源用双面氧化铝陶瓷基板，包括灯壳，所灯壳内腔的左右两壁固定有发光面板，所述发光面板的上表面活动连接有陶瓷基板本体，所述灯壳的左右两侧均设有拆卸机构，所述拆卸机构包括与陶瓷基板本体上表面左右两端抵接的固定块，两个...

本实用新型涉及一种氮化铝陶瓷基板生产用过滤器，包括过滤罐，所述过滤罐底部的四周均固定有支脚，所述过滤罐底端的中心处固定有卸料管，所述过滤罐左端的顶部固定有进料管，所述过滤罐的上表面铰接有盖板，所述过滤罐的内壁固定有导流罩，所述导流罩的下...

本实用新型提供了一种自动锁紧万向找正的测厚检具，包括底座，底座上设有立杆，立杆上穿设有可拆卸固定连接的连接块，连接块远离立杆一侧通过连杆穿设有可拆卸固定连接的第一定位块和第二定位块，其中第一定位块与连接块相贴合，第一定位块和第二定位块相...

本实用新型一种用于流延生坯切割的粉屑清理装置，包括流延机，流延机靠近尾部一侧设有切刀、刀体上间隔设置有一排刀刃，流延机尾部位于生坯的上方通过支架连接有一排竖直向下、且可上下和左右调节固定的吸尘管，吸尘管与刀刃的位置相对应，吸尘管上端通过...

本实用新型一种用于测量陶瓷片边缘厚度的装置，包括测厚规、置于工作台上可升降的的转动测量台，转动测量台外侧的工作台上通过支座固定有所述测厚规，测厚规的下测量头表面与转动测量台的上表面位于同一高度平面；所述转动测量台包括底座，底座竖直方向上...