和光纯药工业株式会社专利技术

和光纯药工业株式会社共有121项专利

  • 本发明以提供排除诊断上的假阳性的新颖的结核菌检测用引物和探针,以及提供使用它们简便、迅速并且高灵敏度地检测人型结核菌的方法为课题,涉及含有序列号1、序列号2、序列号3、序列号4、序列号5、序列号6、序列号7或序列号8所述的核酸序列的部分...
  • 本发明涉及通式[4]所示的三芳基锍盐的制造方法,该方法可以有效地制造三芳基锍盐中仅一个芳香环不同于另外两个芳香环的三芳基锍盐,所述制造方法的特征在于,在与对氧具有高亲和性的活化剂的共存下,使通式[1]所示的二芳基亚砜与通式[2]所示的芳...
  • 一种以通式[2]表示的氨基烷基磺酸的制造方法,使以通式[1]表示的化合物溶于选自醇、羧酸及二甲基甲酰胺的水溶性有机溶剂中的溶液与有机酸反应而制得;以及,以通式[1’]表示的氨基烷基磺酸盐进行盐交换的方法,使以通式[2]表示的化合物在醇或...
  • 目的在于提供新的鸟分枝杆菌(Mycobacterium avium)检测用引物以及使用所述引物的简便、迅速且高精确度的鸟分枝杆菌的检测方法,本发明是“含有选自序列号1、序列号2、序列号3、序列号4、序列号5、序列号37、序列号38、序列...
  • 本发明涉及能够对半导体基板上的钛(Ti)系金属膜或钨(W)系金属膜进行蚀刻的半导体基板用蚀刻剂,其由含有下述(A)、(B)和(C)、以及(D-1)和/或(D-2)的溶液构成:(A)过氧化氢、(B)具有羟基的膦酸系螯合剂、(C)碱性化合物...
  • 本发明的课题是提供一种有效地且高收率地制造磺酸酯的方法。本发明 的技术方案是一种磺酸酯化合物的制造方法,其特征在于,使(a)具有磺基 (-SO3H)的化合物与(b)具有通式[1]表示基团的化合物在能够与该磺基形 成盐的有机碱的共存下反应...
  • 本发明的目的在于,提供一种不仅能够使用廉价的原料、无需经过脱烷基化等脱保护或还原等繁杂的工序、且有利于工业生产的高纯度的羟基三亚苯类的制造方法,以及热稳定性良好的2,3,6,7,10,11-六羟基三亚苯.1水合物的新型结晶。本发明是通式...
  • 本发明提供能够在低温且短时间内容易地将半导体元件等的制造工艺中的防反射膜层剥离的半导体表面用处理剂组合物和使用该组合物的半导体表面的处理方法;还提供不仅能够剥离防反射膜层和抗蚀剂层这两层、还能将蚀刻工序中产生的抗蚀剂固化层剥离的半导体表...
  • 本发明涉及:含有序列号1~15的任一者所示碱基序列的一部分或全部、或者含有序列号1~15的任一者所示碱基序列的互补序列的一部分或全部、且与胞内分枝杆菌(Mycobacterium intracellulare)基因的碱基序列杂交的寡核苷...
  • 本发明公开的羟胺化合物的制造方法,其特征在于,在离子交换树脂固定化铂催化剂的存在下,使硝基化合物与氢源接触或者再与毒化剂接触。如采用根据本发明的在离子交换树脂基体上铂金属被固定化的离子交换树脂固定化铂金属催化剂的方法,几乎不生成副产物,...
  • 本发明公开了一种微流控装置,所述装置设置有适宜的集成结构以进行大容量PCR和终点或实时毛细管电泳检测。所述微流控装置包括具有用于扩增核酸的量的扩增腔室的基板、布置在所述基板上的孔、连接所述基板中的所述孔与所述腔室以允许溶液流过所述腔室的...
  • 本发明的目的是提供一种适合作为间隔体用感光性材料的负型感光性树脂组合物,更详细地讲,提供能够制造出具有高收缩率和高弹性回复率的间隔体的显影性优异的负型感光性树脂组成物、使用该负型感光性树脂组合物制造的间隔体以及液晶显示装置。本发明的负型...
  • 提供了一种装置,该装置包括:具有多个可选地通过毛细通道连接起来的井区的芯片;和歧管部件,该歧管部件被配置成设置在该芯片上方,以便均衡该井区和毛细通道上方的压力。
  • 本发明的课题是提供一种在温和的条件下有效且安全地制造芳基羟基胺化合物的方法。本发明的解决课题的方法是提供一种芳基羟基胺化合物的制造方法,其特征在于,在氨基配位的二氧化硅负载铂催化剂和毒性剂的存在下,使硝基芳基化合物和氢源接触。
  • 使用2,2’-偶氮二(2-甲基丙酰胺肟)无机酸盐或有机酸盐作聚合引发剂,可以使丙烯酸或其水溶性衍生物在短时间内有效地聚合。
  • 本发明以提供排除诊断上的假阳性的新颖的结核菌检测用引物和探针,以及提供使用它们简便、迅速并且高灵敏度地检测人型结核菌的方法为课题,涉及含有序列号1、序列号2、序列号3、序列号4、序列号5、序列号6、序列号7或序列号8所述的核酸序列的部分...
  • 本发明提供能够防止基板(特别是半导体基板)被金属杂质污染的基板蚀刻液及基板蚀刻方法。本发明的蚀刻液包含通式(1)所示的二羧酸或其盐和20重量%(W/W)以上的碱金属氢氧化物,本发明的基板的蚀刻方法的特征在于,用上述蚀刻液来蚀刻基板。通式...
  • 本发明涉及含有在分子中具有带有非共享电子对氮原子的化合物形成的,用于表面上施加了铜布线的半导体表面的洗涤剂,以及半导体表面的洗涤方法,其特征在于用该洗涤剂处理表面上施加了铜布线的半导体表面。本发明所涉及的洗涤剂,在表面施加了Cu布线的半...
  • 本发明涉及一种相应于以电子射线等为代表的超微细加工技术,具有高分辨性、高灵敏度、良好形状且对于在高真空下的能量照射,不产生气体逸出的实用的抗蚀剂组合物。即,提供(1)一种抗蚀剂组合物,其含有至少1种具有上述通式[1]、[2]和[3]所示...
  • 一种半导体基板用洗涤液,该半导体基板可具有金属布线,其含有用下述通式(1)表示的螯合剂或其盐、碱性化合物及纯水的各成分,而且pH是8~13,***(1)(式中,Y↑[1]及Y↑[2]表示低级亚烷基;n表示0~4的整数;R ...