本实用新型提供了一种晶圆定位标示工具，包括：至少两个固定杆，两个所述固定杆的一端连接在一起形成一公共端，所述固定杆的另一端设置有用于承载晶圆的承载工具；垂直杆，一端与所述公共端连接，另一端垂直向下延伸；至少一移动滑块，滑动套设于每个所述...

本实用新型提供了一种循环水控温装置，包括水槽、上水泵、循环水管路和辅助结构，所述循环水管路包括供水管、温控管和回水管，所述供水管和所述回水管的一端均与所述水槽连通，所述供水管和所述回水管的另一端分别与所述温控管的两端连通，形成循环水回路...

本实用新型公开了一种用于微光显微镜的测试夹具，包括：基板；连接器，位于所述基板上，所述连接器上具有测试插槽，以插接带有待测元件的电路板；连接器针脚，所述连接器针脚的一端连接所述连接器，另一端连接所述基板；排针，位于所述基板上，并与所述连...

本实用新型提供了一种高度测量装置，包括：卡设在卡盘上的基座；均匀设置于基座侧壁上的多个光源；连接在基座上的多个光栅尺，多个光栅尺与CUP的表面接触，光栅尺用于接收到光源发出的光；连接在基座上的多个光栅读头，多个光栅读头分别与多个光栅尺平...

本实用新型公开了一种用于化学机械研磨的清洗装置，包括：清洗液管道；第一电极，位于所述清洗液管道上；第二电极，位于所述清洗液管道上；负电压源，与所述第一电极和所述第二电极连接；固定结构，用于将所述第一电极和所述第二电极固定在所述清洗液管道...

本发明提出一种存储器及其制造方法，包括：衬底；控制栅层，位于所述衬底上；凹形区域，与所述控制栅层相邻；浮栅结构，位于所述凹形区域的衬底上；源极，形成在所述衬底中，位于所述控制栅层远离所述凹形区域的一侧；漏极，形成在所述凹形区域的衬底中。...

本发明公开了一种半导体制程缺陷的检测方法，所述半导体制程缺陷的检测方法包括：建立数据库，所述数据库中包括多种半导体制程缺陷的图片，并按照半导体制程缺陷的形貌特征，将所述半导体制程缺陷进行分类；扫描晶片，并通过识别所述半导体制程缺陷的形貌...

本发明公开了一种半导体设备的张力自动监控系统，包括：机台本体，所述机台本体上设置有皮带，所述皮带用于传送晶圆；轨道支架，设置在所述机台本体的一侧；轨道单元，垂直设置在所述轨道支架上；压力测量单元，与所述轨道单元滑动连接，且与所述皮带位于...

本实用新型提供一种研磨后清洗装置和一种化学机械研磨设备。所述研磨后清洗装置中，第一滚刷和第二滚刷分别设置于进行研磨后清洗处理的半导体基片的两侧，第一滚刷清洁模块包括酸液供给槽和进液口连接酸液供给槽的第一喷淋管路，第二滚刷清洁模块包括碱液...

本发明提供一种测试程式管理方法及系统，方法包括：提供第一伺服器、至少一个测试机台和第二伺服器，在第一伺服器建立第一测试程式；测试机台和第二伺服器从第一伺服器同步下载第一测试程式；测试机台将下载的第一测试程式发送至第二伺服器；第二伺服器比...

本实用新型公开了一种半导体设备，包括：腔体；加热盘，位于所述腔体内，所述加热盘上设置有多个通孔；多个顶针组件，与所述加热盘活动连接，其中，所述顶针组件包括：顶针，穿过所述通孔与所述加热盘活动连接；重锤，位于所述顶针的一端。本实用新型可以...

本实用新型提出一种半导体的测试装置，包括，基板；第一固定装置，设置在所述基板上；第二固定装置，设置在所述基板上，位于所述第一固定装置的一侧，所述第一固定装置通过所述基板内的电路连接所述第二固定装置；第三固定装置，设置在所述基板上，位于所...

本实用新型提供了一种吹气管、吹气式液位计和硅片清洗装置，吹气管包括管体，管体的一端设有进气口，管体的另一端设有出气口，出气口沿管体的径向向外突出设置。吹气式液位计包括上文的吹气管。硅片清洗装置包括用于清洗硅片的内槽、用于盛接由内槽中溢出...

本发明公开了一种化学机械平坦化设备及其应用，所述一种化学机械平坦化设备包括晶圆载体，设置在所述晶圆载体上的研磨垫，安装在所述研磨垫上的晶圆承载座，安装在所述晶圆载体外侧的第一底座，以及释放臂，所述释放臂的一端与所述第一底座连接，另一端延...

本实用新型提供了一种进样装置，将第二进样部件与第二存储腔室密合，利用第一驱动器及第二进样部件移动，第二进样部件通过移动可从第一存储腔室中将样品自动转移至第二存储腔室中，避免了人工操作导致空气入侵第二存储腔室的风险，提高了第二存储腔室的气...

本实用新型提供一种化学机械研磨装置。所述化学机械研磨装置中，温度控制模块获得研磨垫表面的实时研磨温度后，向研磨液供给模块发送对应的第一设定温度的目标值，并向冷却液供给模块发送对应的第二设定温度的目标值，研磨液供给模块将具有第一设定温度的...

本实用新型提供了一种晶圆表面金属离子收集装置，所述装置包括晶圆固定单元和扫描单元，所述晶圆固定单元用于固定晶圆，所述扫描单元用于对所述晶圆的下表面接触扫描，所述扫描单元位于所述晶圆固定单元下方。通过将金属收集溶液扫描单元设置在晶圆的下方...

本发明公开一种集成电路的制备方法，其至少包括以下步骤：提供一光罩，光罩的边缘区域处设有多个第一对位标记和多个第二对位标记；通过光罩在晶圆衬底的切割道区域内形成多个第一对位标记和多个第二对位标记图案；利用多个第一对位标记使光罩与所述机台对...

本实用新型提供一种研磨垫中心校准治具，包括主支架以及夹爪，主支架具有支架中心以及从支架中心向外延伸的多个支架段，每个支架段的延伸线上可拆卸地设置有一个夹爪，每个夹爪均包括在远离主支架的端部设置的侧板以及位于侧板里侧的第一挡块和第二挡块，...

本发明提供一种掩模板及曝光方法。所述掩模板包括液晶盒结构、位于其第一表面一侧的第一电极层和第一偏光膜以及位于其第二表面一侧的第二电极层和第二偏光膜，第一电极层包括覆盖液晶层表面不同位置的多个第一透明电极，第二电极层包括与各个第一透明电极...