一种透明的压印模板模具配置有包围有效压印区的光栅。光栅与有效区同时制造，从而相对于光栅准确限定有效区。在工具坐标中，衬底被定位于模板模具之下。传感器系统产生光能束并仅在特定的角窗处接收反射能量，而且它用于定位模板模具。扫描传感器系统以在...

通过在压印平版印刷基板的表面上施用流体组合物的多个离散部分，使该组合物的离散部分在该基板表面上自发铺展以形成基本连续层，从而形成固体层。该组合物包含溶剂和固体或溶剂和可聚合材料。该组合物可以是溶液或分散体。从该组合物蒸发至少一些溶剂，在...

本发明为压印光刻法提供施加粘着底漆层的方法，该方法包括在一种涂布法中使流体与基片表面接触和引发在该流体中的组分与基片的表面之间形成共价键的化学反应以便使粘着底漆层附着于基片的表面。聚合层可以附着于被粘着底漆层覆盖的基片的表面。该方法可为...

本发明揭示了一种使用一装置（３９００）通过平版印刷来形成有图形的基底的工艺，该装置包括一印刷头（３１００）、一激活的光源（３５００）、一运动平台（３６００）、一构有图形的模板（３７００）、一印刷头支承件（３９１０）、一运动平台支承件（３...

本发明涉及一种夹具系统，包括，一主体，具有一伸出一销钉的表面和具有一限定在其内部的直通通道，以及由围绕着该突起的一接触面限定的一个在该销钉和该接触面之间的沟槽，和其它的部分。在一进一步的实施例里，该主体包括大量的突起。

一种保持基底的卡盘系统，所述卡盘系统包括：　　　　卡盘体，具有对置的第一和第二面，其间延伸边缘表面，所述第一面包括隔开距离的第一和第二凹进处，它们限定隔开距离的第一和第二支承区域，其中所述第一支承区域环绕所述第二支承区域和所述第一及第二...

本发明提供用于在基底（３１）上形成有台阶的结构（３４ａ、３４ｂ、３４ｃ）的方法，其特征在于，将在基底上设置的有台阶的结构的颠倒形状转移进入该基底。

本发明提供了在基板上形成凹陷的方法，所述方法包括在基板上形成具有第一特征的图案化层，对第一特征结构进行修整蚀刻，形成经过修整后具有一定形状的特征，然后将所述形状反相转移到基板上。

本发明涉及提供一种方法和系统，以测量设置在一基底上的薄膜的性能。该方法包括识别在薄膜上的多个处理区域；测量多个处理区域的一子部分的性能，形成测量的性能；确定测量的性能中的一个的变化；以及根据测量的性能中的一个与与子部分的其余处理区域相关...

本发明涉及一种方法，该方法使用了分布几何、导体模板和在压印平版印刷过程中，形成导体模板以实现高速填充和吞吐量的方法。

本发明涉及改变诸如具有图案化模具的模板之类的衬底尺寸的装置、系统和方法。

本发明涉及将一个总体积的液体分配到基片之上的方法，所述方法包括：将多个相互间隔开的液滴设置在所述基片的一个区域上，各液滴具有与之相关的单位体积，所述区域中所述液滴的聚集体积随要在此区域形成的图案的体积而变化；等等。

介绍了用平版压印工艺在基底上形成图案的方法。在平版压印工艺中，先将液体分布到基底上，然后使模板与液体接触，并固化液体，其中固化液体包含在模板上形成的任何图案的印记。在一种实施方式中，用散射法使模板与预先在基底上形成的层对齐。

一种用于确定第一和第二基板的特性的方法，所述方法包括：在所述第二基板上形成一个流体量，所述流体量具有一与之相关的面积；在所述第一与第二基板之间挤压所述流体量，使所述面积的性质发生有效的变化，定义变化了的性质；感测所述 ...

本发明的特征在于确定两坐标系之间的相对空间参数的系统和方法，这两个坐标系可以是模具和其中采用模具来生成图案的衬底。为此，感测两坐标系之间在多个点处的相对对准以确定它们之间的相对空间参数。相对空间参数包括相对面积和相对形状。

本发明提供了一种将一个层粘合到基片上的方法，特征是通过在所述层和所述基片之间存在一种组合物而限定第一界面和第二界面，所述组合物与所述层形成共价键，使用共价键、离子键和范德华力中的一种或多种与所述基片相结合。以这种方式，确保所述层与所述组...

本发明涉及一种通过减少在一垫片上粘性流体层中的气泡来减少刻印层上图案变形的方法。为此，该方法包括改变靠近粘性流体的气体的传送状况。具体来说，在复制图案的垫片附近的环境中充满相对于所放置的粘性流体或者具有高度溶解性、或者具有高度分散性、或...

本发明揭示了一种方法和组合物，其特征在于能够改进湿润特性，同时具有对于基板和模具进行选择性粘合和脱模的特性，在所述基板与模具之间具有压印材料。该方法包括用一定体积的含表面活性剂的溶液涂覆模具表面。溶液中的表面活性剂包含基本上由许多含氟分...

本发明涉及用于刻印平板印刷术的材料，其特征为，它是一种组合物，该组合物具有与之相关的粘度并包括表面活性剂、可聚合的组分和引发剂，所述引发剂对刺激有响应，并改变粘度来响应所述刺激，所述组合物在液态时粘度低于约１００厘泊，蒸气压小于约２０托...

本发明提供了一种对基片进行图案化的方法，该方法包括在基片上形成具有表面、蚀刻速率界面和蚀刻差异界面的多层膜。所述蚀刻差异界面位于蚀刻速率界面和表面之间。记录的图案被转移到部分由蚀刻差异界面所限定的基片上。所述记录的图案具有蚀刻图案特性（...