提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间...

公开了用于压印光刻的无缝大面积主模板的制造。描述了形成可用于图案化包括例如线栅偏振器(WGP)的大面积光学装置的大面积模板的方法。这些方法提供这种大面积装置的无缝图案化。

本发明有关用于衬底双面图案形成的方法和系统。本发明涉及一种在衬底的第一和第二相反两面上形成图案的方法和系统。该方法和系统可以采用模具组件且在衬底的第一和第二相反两面与模具组件之间获得期望的空间关系。在另一实施方式中，该方法和系统可采用第...

功能纳米颗粒可使用至少一个纳米压印光刻步骤形成。在一个实施例中，可使用压印光刻工艺将牺牲材料图案化在多层基底上，该多层基底包括在可移除层之间的一个或多个功能层。该功能层中的至少一个层包括功能材料，诸如制药复合物或成像剂。该图案可被进一步...

本发明描述了可通过在受控组合物的气体气氛中暴露于来自能量源的真空紫外(VUV)辐射移除基板上的聚合材料。本发明还描述了在进行所述移除后，用另外的蚀刻技术进行纳米压印。

可使用至少一个纳米平版印刷步骤来形成功能性纳米微粒。在一个实施例中，可使用压印平版印刷系统在多层衬底上对牺牲材料进行布图。图案可进一步被蚀刻在多层衬底之内。然后可将功能性材料沉积到多层衬底上并使之凝固。至少一部分功能性材料随后被去除以提...

使用可控的基底和／或模板的变形来压印基底的系统、方法和过程。在压印平版印刷术过程中，基底和／或模板可定位成单波形态或双波形态。

描述了压印光刻工艺的分离工艺中改善强健的层分离的系统和方法。包括方法：使拟压印的衬底和模板之间的应变匹配；改变或修正在分离过程中作用于模板和／或衬底的力，或改变或修正分离工艺的动力学特性。

压印平版印刷术系统可提供用于固化定位在模板和基底之间的材料的能量源。此外，能量源和／或附加的能量源可用于从模板和／或基底中清除污染物。

本发明涉及一种在衬底的第一和第二相反两面上形成图案的方法和系统。该方法和系统可以采用模具组件且在衬底的第一和第二相反两面与模具组件之间获得期望的空间关系。在另一实施方式中，该方法和系统可采用第一和第二模具组件。

本发明涉及排除位于基板和模具之间的气体的方法和系统，在该基板和模具之间还具有液体。

处理模板以提供表面活性剂富集区和表面活性剂损耗区。表面活性剂富集区处的接触角可以大于、小于或基本上类似于表面活性剂损耗区内的接触角。

描述了在刻印可聚合的材料期间用于控制模板与基板之间的接触线的速度以及高度分布的系统和方法。

描述了用于对基板上的对准标记进行定位的方法。通常，基板包括与基板对准标记相邻的一个或多个定位标记。定位标记提供基板对准标记的相对定位，使得在光刻系统中使基板与模板相对准的过程中可以使用基板对准标记，同时减小了相对的位移的大小。

描述了具有形成图案化ｐ－ｎ结的至少一个电子受体层和至少一个电子供体层的太阳能电池。电子受体层可通过在模板与电极层之间图案化可成形Ｎ型材料、然后固化该可成形Ｎ型材料来形成。

一种刻印光刻模板或刻印层叠物包含多孔材料，所述多孔材料限定出大量平均孔径至少约为０．４纳米的孔。所述多孔材料的孔隙率至少约为１０％。所述多孔模板、所述多孔刻印层叠物、或者两者可以用于刻印光刻工艺，以促进夹在模板和刻印层叠物之间的气体扩散...

通过以下步骤形成用于印刻平版印刷的多层叠片：将第一可聚合的组合物施加到基材上；聚合第一可聚合组合物，形成第一聚合层；将第二可聚合的组合物施加到第一聚合层；并聚合第二可聚合组合物，在第一聚合层上形成第二聚合层。所述第一可聚合组合物包含可聚...

可使可聚合材料的液滴在膜片上形成图形。可将可聚合材料的液滴分配在膜片上。可对刻印平版印刷模板施加预定的力，使得膜片上可聚合材料液滴的局部捕集最少，且液滴合并形成连续层。可聚合材料可固化以形成具有残留层和至少一个结构的图形层。

位于能量源与刻印光刻模板之间的器件可以阻挡能量暴露于基板上所分配的可聚合的材料的多个部分。被阻挡从而不能暴露于上述能量的可聚合的材料的多个部分可以仍然是流体，而使其余的可聚合的材料固化。

本发明涉及一种通过减少存在于设置在基片上的粘性液体层的气泡，减少在印刻层中的图象失真。为此，该方法包括改变靠近粘性液体的气体的输送。具体地说，使靠近将记录图案的基片的气氛被相对于粘性液体、基片、模板或它们的组合是高溶解度或高扩散度或既是...