【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体上涉及纳米结构的微制造。更具体地说,本专利技术涉及一种方法,它能在模具与可聚合组合物之间提供所需的湿润和脱模特性,所述可聚合组合物适用于压印光刻工艺(imprint lithographic process)。
技术介绍
纳米级制造涉及制造非常小的结构,例如具有1纳米或以上的数量级特征的结构。用于纳米级微制造的一种前景看好的工艺是众所周知的压印光刻工艺。压印光刻工艺的例子在许多文献中有详细描述,如登记为美国专利申请10/264960、题为“Method and a Mold to Arrange Features on a Substrate toReplicate Features having Minimal Dimensional Variability”的美国公开专利申请2004-0065976;登记为美国专利申请10/264926、题为“Method ofForming a Layeron a Substrate to Facilitate Fabrication of Metrology Standards”的美国公开专利申请2004- ...
【技术保护点】
在具有表面的模具与可聚合组合物之间提供所需的润湿和脱模特性的方法,所述方法包括:用一定体积的含表面活性剂的溶液涂覆所述表面,其中所述表面活性剂包含基本上由许多原子组成的疏水组分,其中所述氟原子分布在所述整个体积中,为所述可聚合组合物提供所需的接触角。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:FY徐,EB弗莱彻,VN柴斯盖特,MN米勒,
申请(专利权)人:分子制模股份有限公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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