本发明提供蒸镀用坩埚以及具备这种蒸镀用坩埚的蒸镀源和蒸镀装置，可以抑制蒸镀材料向开口部及其周边析出，从而使蒸镀材料稳定扩散。所述蒸镀用坩埚具有开口部并利用感应加热进行加热，开口部侧部分由通过感应加热引起的温度上升比其他部分大的材料形成。...

本发明提供蒸镀源和具备这种蒸镀源的蒸镀装置，可以抑制蒸镀材料向坩埚的开口部及其周边析出，从而使蒸镀材料稳定扩散。所述蒸镀源是感应加热方式的蒸镀源，其包括：具有开口部的坩埚；以及电线螺旋状缠绕形成的以覆盖上述坩埚的周围的方式配置的线圈，在...

本发明提供蒸镀装置和采用这种蒸镀装置的蒸镀方法，能够控制蒸镀材料的入射角，形成膜厚均匀性较高的蒸镀膜。所述蒸镀装置包括：一个或多个喷嘴，设有喷射蒸镀材料的喷射口；基板保持部，以使基板的一面与上述一个或多个喷嘴的喷射口相对的方式保持上述基...

本发明涉及对置靶式溅射装置以及溅射方法，是能够实现高精度的成膜且易于维护的对置靶式溅射装置以及使用这样的对置靶式溅射装置的溅射方法。所述对置靶式溅射装置具备：真空腔室；靶部，配置于所述真空腔室内，具有对置的至少一对靶；导向部，配置于所述...

本发明提供蒸镀装置以及蒸镀方法，设计成形成膜厚均匀性高且阴影少的蒸镀膜，能够对大型的基板进行良好的蒸镀。本发明的蒸镀装置包括：具有多个喷射喷嘴的蒸镀源，所述多个喷射喷嘴以直线状且等间隔地配置，从喷射口喷射蒸镀材料；基板保持部，与所述多个...

本发明提供蒸镀装置、蒸镀方法和控制板。所述蒸镀装置设计成能形成膜厚均匀性高且阴影少的蒸镀膜、对大型基板也能够进行良好的蒸镀。所述蒸镀方法使用所述蒸镀装置，所述控制板能进行所述的蒸镀。本发明的蒸镀装置包括蒸镀源，所述蒸镀源具有配置成直线状...

本发明提供设计成能形成膜厚均匀性高且阴影少的蒸镀膜的蒸镀装置和使用该蒸镀装置的蒸镀方法。本发明的蒸镀装置包括：蒸镀源，具有配置成直线状并喷射蒸镀材料的多个喷射喷嘴；以及基板固定部，将基板固定成与上述多个喷射喷嘴平行，上述多个喷射喷嘴包括...

本发明提供一种光伏元件及其制造方法，不使用对人体有害的有机溶剂在硅基板上进行蚀刻并形成棱锥体状凹凸部，且能提高发电效率。所述光伏元件(10)具备：利用各向异性蚀刻在表面形成有多个棱锥体状凹凸部的硅基板(11)、以及在棱锥体状凹凸部上由化...

本发明提供一种具有足够的填充因数且能控制制造成本的光伏元件及其制造方法。所述光伏元件(10)包括：n型结晶半导体基板(11)、在n型结晶半导体基板(11)的一侧层叠的p型非晶质系硅薄膜(13)、以及在n型结晶半导体基板(11)的另一侧层...

本发明的目的是提供填充因子高的光发电装置。光发电装置(10)包括：多层状的光伏元件(11)；以及层叠在光伏元件(11)的一个面上的第一集电构件(12)和层叠在另一个面上的第二集电构件(13)，光伏元件(11)包括：n型晶体半导体基板(1...

本发明提供一种光发电装置(10)，该光发电装置(10)具有：多个光发电元件(11)，在其正反面形成有透明导电氧化物层(18、19)，利用光照射来产生电力；和设在各该光发电元件(11)的正反面的集电构件，其中，正面侧的所述集电构件包括：在...

本发明提供一种原料硅破碎装置（10），其不会使纯度下降，能够机械性地破碎原料硅，能够抑制微粉化损失。通过由第一壳体（22）、一部分从第一壳体（22）的开口向外方突出了的第一破碎用硅（20）、被夹装在了第一破碎用硅（20）及第一壳体（22...

本发明提供一种用于薄膜形成的分子供应源，利用从单个蒸发源排出的分子、即使在相对宽的膜形成表面（９）上也能够形成具有高均匀性的薄膜，其具有设置成多个的导向通路（４ａ）、（４ｂ）和（４ｃ），其中通过那些导向通路（４ａ）、（４ｂ）和（４ｃ）来...

本发明提供一种薄膜沉积用分子束源装置和分子束沉积薄膜的方法，通过加热蒸发材料（５）、使该蒸发材料（５）熔融后蒸发，产生用于在固体表面上生长薄膜的蒸发分子。该分子束源装置具有装有蒸发材料（５）的坩埚（１）和加热装在该坩埚（１）中的上述蒸发...

一种载冷剂供给装置，将载冷剂调整成适合于所述负荷的目标温度而循环地供给于至少一个负荷，其特征在于，具有： 设在流动有从所述负荷侧返回的载冷剂的载冷剂冷却流路中、利用工业用水冷却所述载冷剂用的热交换器； 设在作为流动有从所述负...

一种用于堆积有机薄膜的分子束源，能够在大尺寸基底的膜形成表面上形成均匀薄膜，而不会在释放膜形成材料的分子的开口处产生膜形成材料的沉积或分离，其中阀３３设置在从所述分子加热部１２开始到所述用于向膜形成表面释放产生的膜形成材料的分子的分子释...