蒸镀装置和蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供设计成能形成膜厚均匀性高且阴影少的蒸镀膜的蒸镀装置和使用该蒸镀装置的蒸镀方法。本发明专利技术的蒸镀装置包括：蒸镀源，具有配置成直线状并喷射蒸镀材料的多个喷射喷嘴；以及基板固定部，将基板固定成与上述多个喷射喷嘴平行，上述多个喷射喷嘴包括中央喷射喷嘴和一对外侧喷射喷嘴，该蒸镀装置满足以下的公式(1)和公式(2)。在公式(1)和公式(2)中，L1是多个喷射喷嘴与基板的距离(mm)。L2是上述中央喷射喷嘴与上述外侧喷射喷嘴的距离(mm)。θ是基板的表面与外侧喷射喷嘴的开口面所成的角的角度(°)。L1/2L2≤tanθ≤L1/L2···(1)；60°≤θ≤70°···(2)。

Steaming device and method

【技术实现步骤摘要】
蒸镀装置和蒸镀方法
本专利技术涉及蒸镀装置和蒸镀方法。
技术介绍
有时利用真空蒸镀法等蒸镀，形成显示面板、太阳能电池等的金属电极布线、有机EL层、半导体层、其它有机材料薄膜、无机材料薄膜等。蒸镀通常通过如下方式进行：通过对坩埚内的蒸镀材料进行加热，使蒸镀材料气化，将气化了的蒸镀材料向基板表面喷射，使蒸镀材料沉积在该基板表面。沉积在基板表面上的蒸镀材料形成薄膜。此外，蒸镀时，通过用具有规定形状的掩膜覆盖基材表面，能够形成图案化的蒸镀膜。进行这样的蒸镀的蒸镀装置通常包括：蒸镀源，在内部配置有收容蒸镀材料的坩埚等，并具有喷射气化了的蒸镀材料的喷射喷嘴；以及基板固定部，固定基板。在此，为了进行与大型基板对应的蒸镀，如图4所示，可以考虑增加使用的喷射喷嘴31的数量。通过增加喷射喷嘴31的数量，即使对于大型基板X，也能够形成膜厚均匀性高的蒸镀膜。另外，图4中示意性地表示的曲线P是表示各喷射喷嘴31的蒸镀量分布的曲线。但是，在使用具有多个喷射喷嘴31的蒸镀装置30的情况下，特别是在基板X的端部，从较远的位置的喷射喷嘴31喷射的蒸镀材料以较小的角度到达基板表面。如图5所示，在这样的部分中，蒸镀材料容易进入被掩膜Y覆盖的部分。在这样的情况下，在蒸镀膜Z中，被称为阴影S的层叠有薄的蒸镀材料的区域变大。因此，在这样的以往的蒸镀装置30的情况下，难以得到微细的成膜图案。相对于此，通过减少喷射喷嘴且在端部不配置喷射喷嘴的结构，能够使蒸镀材料到达基板表面的角度变大。但是，在该情况下，难以对大型基板形成膜厚均匀性高的蒸镀膜。在该情况下，为了提高得到的蒸镀膜的膜厚均匀性并减少阴影，提出了具有倾斜的喷射喷嘴的蒸镀装置和使用该蒸镀装置的蒸镀方法(参照专利文献1、2)。专利文献1：日本专利公开公报特开2014-77193号专利文献2：日本专利公开公报特开2016-125091号但是，即使在具有上述以往的倾斜的喷射喷嘴的蒸镀装置和使用该蒸镀装置的蒸镀方法中，也不能说充分地改善了得到的蒸镀膜的膜厚均匀性和阴影，不能对大型基板进行良好的蒸镀。
技术实现思路
本专利技术是基于以上的情况而做出的专利技术，本专利技术的目的在于提供设计成能形成膜厚均匀性高且阴影少的蒸镀膜的蒸镀装置和使用该蒸镀装置的蒸镀方法。为了解决上述的问题，本专利技术提供一种蒸镀装置，其包括：蒸镀源，具有配置成直线状并喷射蒸镀材料的多个喷射喷嘴；以及基板固定部，将基板固定成与所述多个喷射喷嘴平行，所述多个喷射喷嘴包括：中央喷射喷嘴，具有与所述基板平行的开口面；以及一对外侧喷射喷嘴，配置成相对于所述中央喷射喷嘴左右对称，具有朝向外侧倾斜的开口面，所述蒸镀装置满足以下的公式(1)和公式(2)：L1/2L2≤tanθ≤L1/L2···(1)60°≤θ≤70°···(2)在所述公式(1)和所述公式(2)中，L1是所述基板固定于所述基板固定部时的所述多个喷射喷嘴与所述基板的距离，L1的单位是mm；L2是所述中央喷射喷嘴与所述外侧喷射喷嘴的距离，L2的单位是mm；θ是所述基板固定于所述基板固定部时的所述基板的表面与所述外侧喷射喷嘴的开口面所成的角的角度，θ的单位是°。优选的是，在所述蒸镀装置中，还满足公式(1’)：L1/(L2+87)≤tanθ≤L1/L2···(1’)。优选的是，所述多个喷射喷嘴由所述中央喷射喷嘴和所述一对外侧喷射喷嘴的三个喷射喷嘴构成。为了解决上述的问题，本专利技术还提供一种蒸镀方法，其包括使用所述蒸镀装置进行蒸镀的工序。按照本专利技术，能够提供设计成能形成膜厚均匀性高且阴影少的蒸镀膜的蒸镀装置和使用该蒸镀装置的蒸镀方法。附图说明图1是表示本专利技术一种实施方式的蒸镀装置的示意图。图2是图1的蒸镀装置的说明图。图3是表示实施例和比较例的测量结果的图。图4是表示以往的蒸镀装置的一个例子的示意图。图5是表示使用以往的蒸镀装置情况下的蒸镀膜的状态的示意图。附图标记说明10蒸镀装置11蒸镀源12基板固定部13喷射喷嘴13a中央喷射喷嘴13b、13c外侧喷射喷嘴14蒸镀材料收容室15扩散室15A扩散室的上表面16(16a、16b、16c)开口面17a中央喷射喷嘴的轴17b、17c各外侧喷射喷嘴的前端部分的轴X基板Y掩膜Z蒸镀膜M连接多个喷射喷嘴的各开口面的中心的直线N交点P表示喷射喷嘴的蒸镀量分布的曲线Q基板表面的中央喷射喷嘴的开口面的中心的相对位置(基板表面的中心)R基板表面的左侧的外侧喷射喷嘴的开口面中心的相对位置S阴影L1多个喷射喷嘴与基板的距离L2中央喷射喷嘴与外侧喷射喷嘴的距离θ基板的表面与外侧喷射喷嘴的开口面所成的角的角度具体实施方式下面，适当地参照附图，对本专利技术一种实施方式的蒸镀装置和蒸镀方法进行详细说明。<蒸镀装置>图1的蒸镀装置10包括蒸镀源11和基板固定部12。另外，蒸镀装置10配置在保持适当的真空度的真空室(未图示)内。在真空室内可以包括：真空泵，将真空室内的气体排出而使真空室内的压力下降；通风部件，向真空室内注入一定的气体而使真空室内的压力上升；等等。蒸镀源11具有喷射气化了的蒸镀材料的多个喷射喷嘴13(13a～13c)。蒸镀源11收容固体状的蒸镀材料，通过加热使蒸镀材料气化，从多个喷射喷嘴13喷射气化了的蒸镀材料。蒸镀源11例如可以是将蒸镀材料收容室14和扩散室15连接设置的结构。在扩散室15的上表面15A配置有多个喷射喷嘴13。在蒸镀材料收容室14内配置有坩埚(未图示)，在该坩埚内收纳固体状的蒸镀材料。坩埚内的气化了的蒸镀材料从蒸镀材料收容室14向扩散室15移动。考虑气化效率，可以在坩埚内与蒸镀材料一起收纳粒状的传热介质，该粒状的传热介质的热和化学性质稳定且热导率比蒸镀材料的热导率高，或者是可以在坩埚收纳复合材料，该复合材料由粒状的传热介质和覆盖该传热介质的蒸镀材料构成。此外，在坩埚的周围配置有作为加热部件的加热器等(未图示)。通过加热部件对坩埚中的蒸镀材料进行加热，使蒸镀材料气化。另外，在蒸镀源11中通过加热部件和设置在未图示的蒸镀材料的流道上的阀等，构成为能够控制蒸镀材料的释放量。基板固定部12将基板X固定在与多个喷射喷嘴13平行的方向上。即，基板固定部12以与多个喷射喷嘴13相对的方式固定基板X。基板固定部12以可装拆的方式固定基板X。基板固定部12也可以以可移动的方式固定基板X。基板固定部12可以与以往公知的蒸镀装置所具备的基板固定部相同。另外，在基板X上，在与多个喷射喷嘴13相对的一侧的面(图1中的下表面)上设置有具有规定形状的图案的蒸镀用掩膜(未图示)。基板X与多个喷射喷嘴13平行可以是指基板X与配置有多个喷射喷嘴13的面15A(扩散室15的上表面15A)平行的状态，或者可以是指基板X与连接多个喷射喷嘴13的各开口面(16a～16c)的中心的直线(图1中的直线M)平行的状态。蒸镀源11和基板X能够边相互相对移动边进行蒸镀。例如，在基板X被固定了的情况下，蒸镀源11构成为沿图1的纸面的法线方向移动。此外，在蒸镀源11被固定了的情况下，基板X构成为沿图1的纸面的法线方向移动。多个喷射喷嘴13配置成直线状(配置在直线上)。即，从基板X和扩散室15的上表面15A的法线方向观察时，多个喷射喷嘴13位于直线上。多个喷射喷嘴13以分别朝上的方式设置在扩散室15的上表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置包括：蒸镀源，具有配置成直线状并喷射蒸镀材料的多个喷射喷嘴；以及基板固定部，将基板固定成与所述多个喷射喷嘴平行，所述多个喷射喷嘴包括：中央喷射喷嘴，具有与所述基板平行的开口面；以及一对外侧喷射喷嘴，配置成相对于所述中央喷射喷嘴左右对称，具有朝向外侧倾斜的开口面，所述蒸镀装置满足以下的公式(1)和公式(2)：L1/2L2≤tanθ≤L1/L2···(1)60°≤θ≤70°···(2)在所述公式(1)和所述公式(2)中，L1是所述基板固定于所述基板固定部时的所述多个喷射喷嘴与所述基板的距离，L1的单位是mm；L2是所述中央喷射喷嘴与所述外侧喷射喷嘴的距离，L2的单位是mm；θ是所述基板固定于所述基板固定部时的所述基板的表面与所述外侧喷射喷嘴的开口面所成的角的角度，θ的单位是°。

【技术特征摘要】
2017.12.06 JP 2017-2343761.一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置包括：蒸镀源，具有配置成直线状并喷射蒸镀材料的多个喷射喷嘴；以及基板固定部，将基板固定成与所述多个喷射喷嘴平行，所述多个喷射喷嘴包括：中央喷射喷嘴，具有与所述基板平行的开口面；以及一对外侧喷射喷嘴，配置成相对于所述中央喷射喷嘴左右对称，具有朝向外侧倾斜的开口面，所述蒸镀装置满足以下的公式(1)和公式(2)：L1/2L2≤tanθ≤L1/L2···(1)60°≤θ≤70°···(2)在所述公式(1)和所述公式(2)中，L1是所述基板固定于所述基板固...

【专利技术属性】
技术研发人员：山下和吉，末永真吾，滨永教彰，
申请(专利权)人：长州产业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP