本发明涉及一种用于燃油发动机刮片环的装夹夹具，包括装载杆和装载杆上设置的夹具本体，夹具本体的上、下端设置有用于对夹具本体上装夹的刮片环进行夹紧的上、下夹板，夹具本体由柱筒状的夹具筒组成，夹具筒的筒底设置用于供装载杆穿插装配的第一装配孔，...

本实用新型涉及一种用于活塞环装夹的整理辅具，包括装配架，装配架上具有转动装配的第一整环柱和第二整环柱，第一整环柱和第二整环柱相互平行间隔布置，第一整环柱和第二整环柱之间具有用于装配待整理活塞环柱的整环区域，活塞环柱由活塞环叠码状在夹具上...

本实用新型涉及一种工件镀膜和高温渗氘气设备，包括镀膜腔体、渗氘腔体、转料装置，镀膜腔体为工件的镀膜处理提供场所，镀膜腔体与镀膜装置相连接，渗氘腔体为工件的渗氘处理提供场所，渗氘腔体与渗氘装置相连接，镀膜腔体和渗氘腔体之间设置有供工件移送...

本实用新型涉及一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置，包括敲击杆，敲击杆的一端装配有敲击碳头，敲击杆的另一端装配在转动杆的一端，敲击杆和转动杆呈夹角状布置，转动杆转动安装，转动杆上设置有磁流体组件，转动杆与调节其进行转动的转动调...

本实用新型涉及一种用于提高退膜效率的设备，包括退膜腔体和退膜腔体内转动装配的载物台，退膜腔体的顶部设置有对应载物台布置的阳极层离子源装置，载物台上具有环形的退膜工作区，阳极层离子源装置上具有引出区域，引出区域用于向下对退膜工作区输出等离...

本发明涉及一种用于活塞环装夹的整理辅具，包括装配架，装配架上具有转动装配的第一整环柱和第二整环柱，第一整环柱和第二整环柱相互平行间隔布置，第一整环柱和第二整环柱之间具有用于装配待整理活塞环柱的整环区域，活塞环柱由活塞环叠码状在夹具上装夹...

本实用新型涉及一种退膜设备，包括机架，机架上设置有退膜腔体，退膜腔体的局部腔壁由启闭式的腔室门构成，退膜腔体上设置有用于撑托待退膜设备的载物台、用于输出等离子体束流的阳极层离子源装置、用于对退膜腔体进行抽气的抽气装置以及供应工艺气体的供...

本发明涉及一种退膜设备，包括机架，机架上设置有退膜腔体，退膜腔体的局部腔壁由启闭式的腔室门构成，退膜腔体上设置有用于撑托待退膜设备的载物台、用于输出等离子体束流的阳极层离子源装置、用于对退膜腔体进行抽气的抽气装置以及供应工艺气体的供气装...

本发明涉及PEM燃料电池金属双极板生产技术领域，公开了一种PEM燃料电池金属双极板碳基复合涂层的制备工艺，包括如下步骤：在真空状态下依次对待镀膜双极板的待镀表面进行烘烤除气、离子清洗活化、制备离子渗层、沉积金属打底层、沉积金属氮化物层、...

本发明涉及一种用于提高退膜效率的设备，包括退膜腔体和退膜腔体内转动装配的载物台，退膜腔体的顶部设置有对应载物台布置的阳极层离子源装置，载物台上具有环形的退膜工作区，阳极层离子源装置上具有引出区域，引出区域用于向下对退膜工作区输出等离子体...

本发明公开了基于PEMFC燃料电池金属双极板碳基薄膜镀膜设备，包括真空腔室、离子束清洗源和碳基薄膜磁控溅射源，具有可启闭装配的室门；真空腔室内具有转架以及设置于转架上用于定位待镀的燃料电池双极板的夹具，离子束清洗源用于发射离子束起弧辉光...

本发明涉及一种工件镀膜和高温渗氘气设备，包括镀膜腔体、渗氘腔体、转料装置，镀膜腔体为工件的镀膜处理提供场所，镀膜腔体与镀膜装置相连接，渗氘腔体为工件的渗氘处理提供场所，渗氘腔体与渗氘装置相连接，镀膜腔体和渗氘腔体之间设置有供工件移送的转...

本实用新型涉及一种非晶类金刚石膜高精度光学镀膜机的自动化监控系统，包括工控机和下位机，下位机用于接收输入模块发送的镀膜机状态参数并将其传输给工控机、以及接收工控机下发的控制指令并将其发送给输出模块执行运行，工控机还与显示设备、控制设备相...

本实用新型涉及一种用于镀膜设备的整体式电气柜，包括整体式的底座和柜顶，底座和柜顶之间排列状设置用于安装元器组件的各电气子柜，底座上设置有用于搬运设备整体搬运电气柜的搬运结构。本实用新型提供的上述方案，采用整体式底座，通过底座上设置的搬运...

本发明涉及一种用于自适应调整靶材燃烧面位置的方法，包括将靶材安装在升降调节装置上，敲击探头安装在敲击杆的一端，敲击杆转动安装，采用检测装置对敲击探头有效敲击靶材时转动的角度进行检测，检测装置将信号输送至控制装置，控制装置对检测信号进行分...

本发明涉及一种反应离子刻蚀设备的控制方法，包括设置控制系统，控制系统包括控制单元、数据信号传输单元、检测单元和执行单元，控制单元包括输入模块、显示模块和分析处理模块，检测单元包括用于检测反应离子刻蚀设备中各部件运行状态的传感器组件，执行...

本发明涉及一种提高沉积速率的设备，包括安装在敲击机构上的敲击探头和安装在安装座上的靶材，靶材和敲击探头在靶面敲击时为面接触。本发明提供的上述方案，通过改变靶材和敲击探头在靶面敲击时的接触状态，提高沉积速率。率。率。

本发明涉及一种用于镀膜设备的整体式电气柜，包括整体式的底座和柜顶，底座和柜顶之间排列状设置用于安装元器组件的各电气子柜，底座上设置有用于搬运设备整体搬运电气柜的搬运结构。本发明提供的上述方案，采用整体式底座，通过底座上设置的搬运结构，实...

本发明涉及一种镀膜载物台，包括转动安装的转轴，转轴延伸至镀膜腔室内的端部设置用于撑托待镀膜工件的载物台，载物台上设置有用于加热待镀膜工件的加热组件。本发明提供的上述方案，能够直接对被镀膜工件进行加热，可以实现对被镀膜工件温度的精确控制。...

本发明涉及一种非晶类金刚石膜高精度光学镀膜机的自动化监控系统，包括工控机和下位机，下位机用于接收输入模块发送的镀膜机状态参数并将其传输给工控机、以及接收工控机下发的控制指令并将其发送给输出模块执行运行，工控机还与显示设备、控制设备相连接...