本发明涉及一种多层导电纳米涂层及其生产工艺，包括由内至外依次布置的A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7膜层，其中A1膜层和A4膜层的元素组成包括Cr，A2膜层和A5膜层的元素组成包括Cr和Ni，A3膜层和A6膜层的元素组成包括Cu，...

本发明涉及一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置，包括敲击杆，敲击杆的一端装配有敲击碳头，敲击杆的另一端装配在转动杆的一端，敲击杆和转动杆呈夹角状布置，转动杆转动安装，转动杆上设置有磁流体组件，转动杆与调节其进行转动的转动调节组...

本发明涉及一种用于PIC镀膜设备的敲击杆装置，包括敲击杆，敲击杆的一端装配有用于引弧的触发碳头，敲击杆的另一端装配在转动杆的一端，敲击杆和转动杆呈夹角状布置，转动杆通过轴承座转动安装在敲击安装座上，敲击安装座上设置有用于调节转动杆进行转...

本发明涉及一种超黑高性能Ti‑DLC涂层的制备工艺，包括将工件置于真空腔室内，对真空腔室进行抽气处理，抽气处理后对真空腔室和/或工件进行除杂处理，除杂处理后向真空腔室内充入Ar，采用中频电源孪生Ti靶在工件的表面制备打底层，打底层制备好...

本发明涉及一种超硬耐高温Ta‑C涂层的制备工艺，包括将工件置于真空腔室内，对真空腔室进行抽气处理，抽气处理后对真空腔室、纯离子镀膜源、工件中的一者或几者进行除杂处理，除杂处理后，采用溅射镀膜在工件表面依次制备种子层、金属过渡层、Ta‑C...

本实用新型涉及真空镀膜设备领域，具体涉及一种传输通道装置，包括通道本体，通道本体内形成供等离子体通过的A通道，A通道的两端分别构成A入口和A出口，通道本体的内壁上设置有用于吸附等离子体中杂质组分的吸附单元。本实用新型提供的传输通道装置，...

本实用新型涉及真空镀膜设备领域，具体涉及一种等离子体传送的传输通道装置，包括通道本体，通道本体内形成供等离子体通过的A通道，A通道的两端分别构成A入口和A出口，通道本体上或其旁侧设置有对通道本体进行冷却的冷却单元。本实用新型通过在通道本...

本发明涉及真空镀膜设备领域，具体涉及一种用于等离子体传送的传输通道装置，包括通道本体，通道本体内形成供等离子体通过的A通道，A通道的两端分别构成A入口和A出口，通道本体上或其旁侧设置有对通道本体进行冷却的冷却单元，和/或，通道本体的内壁...

本发明涉及一种纯离子真空镀膜系统，包括真空容器，真空容器与抽真空装置相连接，真空容器内设置有用于装配待镀膜的基底材料的装配装置，真空容器上还设置有离子束清洗设备和纯离子真空镀膜设备。本发明提供的上述技术方案，通过离子束清洗设备+纯离子真...

本发明提供了一种离子镀技术制备TiAlN涂层的颜色渐变控制方法，该方法中所述离子镀技术选用多弧离子镀设备，在使用所述多弧离子镀设备制备TiAlN涂层时通过调整多弧离子镀设备的靶电流、工件负偏压、占空比、真空度、靶材厚度、靶面中心磁场或电...

本发明涉及一种绝缘材料表面金属化的方法，基底材料在真空容器内进行抽真空后，先采用离子束清洗工艺对基底材料的表面进行离子束清洗处理，然后再采用纯离子真空镀膜工艺对离子束清洗处理后的表面进行纯离子真空镀膜处理。本发明提供的上述技术方案，在纯...

本发明涉及一种耐高温类金刚石膜层的生产工艺，包括将基底材料装配在真空容器内，对真空容器进行抽真空，抽真空后先采用离子束清洗工艺对基底材料的表面进行离子束清洗处理，然后再采用纯离子真空镀膜工艺对离子束清洗处理后的表面进行纯离子真空镀膜处理...

本发明公开了一种真空镀膜设备的产品装夹装置，包括旋转驱动轴,所述旋转驱动轴上套有镀膜保护挡板，所述镀膜保护挡板上安装有第一套绝缘装置，所述旋转驱动轴上套有第一轴承，所述第一轴承外套有第一碳刷导电机构，所述第一碳刷导电机构内安装有第一密封...

本发明公开了一种新的真空镀膜设备的偏压系统，包括支撑架、驱动马达、齿轮驱动装置、绝缘零件、三对相同结构的第一固定螺栓、旋转轴、偏压引入装置、两对相同结构的碳刷、固定板、一对相同结构的轴承、真空密封装置、四对相同结构的第二固定螺栓以及绝缘...

本实用新型公开了一种真空镀膜设备的产品装夹装置，包括旋转驱动轴,所述旋转驱动轴上套有镀膜保护挡板，所述镀膜保护挡板上安装有第一套绝缘装置，所述旋转驱动轴上套有第一轴承，所述第一轴承外套有第一碳刷导电机构，所述第一碳刷导电机构内安装有第一...

本实用新型公开了一种新的真空镀膜设备的偏压系统，包括支撑架、驱动马达、齿轮驱动装置、绝缘零件、三对相同结构的第一固定螺栓、旋转轴、偏压引入装置、两对相同结构的碳刷、固定板、一对相同结构的轴承、真空密封装置、四对相同结构的第二固定螺栓以及...

本实用新型公开了一种离子镀膜中的产品固定装置，包括上圆板和下圆板，一支撑杆贯穿两圆板设置，在上圆板上设有至少两圈通孔，各圈通孔至支撑杆之间的距离相等，在下圆板上位于上圆板上通孔投影位置设有向上凸出的凸起。凸起上端直径小于下端直径。凸起为...

本发明涉及一种纯离子真空镀膜设备中用于延长绝缘材料维护周期的装置，包括偏压磁过滤器和接地阳极之间设置的环形绝缘垫板，环形绝缘垫板内设置有环形的绝缘挡环；绝缘挡环的截面为L形，绝缘挡环包括环管和环管下端外围设置的环板，环板固定在环形绝缘垫...

本发明公开了一种类金刚石薄膜离子源中离子的引出装置，包括安装于保护外壳左端的隔板，隔板中部横向安装有工艺气体进气管，隔板左端面安装有内部挡板，内部挡板外周的隔板上固定有安装法兰，安装法兰上安装有离子源挡圈，内部挡板外侧间隔安装有工艺气体...

本实用新型属于纳米涂层技术领域，具体涉及一种真空镀膜设备，包括设置在真空腔室中的靶材、敲击探头和样品基片，所述靶材与电源阴极相连，敲击探头与电源阳极相连，样品基片与靶材平行相对设置，所述敲击探头位于靶材与样品基片之间，所述敲击探头往复运...