【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种准三维微米或纳米柱阵列的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:S1.?制备准三维微、纳米柱阵列的原始模板,S2.?将弹性材料的预聚体涂于步骤S1所得的原始模板上,放入烘箱或热压机中加热,冷却,脱模后,得反相的微、纳米坑阵列的弹性印章;S3.?加入所需的材料,通过步骤S2所得的弹性印章为模板,充满,固化,脱模后,制得准三维微、纳米柱阵列。
【技术特征摘要】
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