一种微流体通道的制备方法技术

技术编号:9926995 阅读:200 留言:0更新日期:2014-04-16 18:12
本发明专利技术提供一种微流体通道的制备方法,采用的技术方案是在待加工的基材表面贴合一个带有微通道结构的基片,继而借助外部泵阀系统将刻蚀液连续导入至基材表面,从而实现微流体通道的快速加工。使用本发明专利技术所提出的微流体通道的制备方法,制备过程快速简便,无需刻蚀牺牲层的制备,而且极大地降低了刻蚀液使用量,同时显著提高刻蚀效率,特别适合于微流控芯片的快速、大批量、低成本、低污染的制备。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种微流体通道的制备方法,其特征在于所述的微流体通道的制备方法包括以下特征步骤:1)用计算机辅助设计软件设计和绘制微通道图形,在一光滑平整的基片上加工出开放式微通道结构及流体进出孔;2)将加工好的基片与待加工表面进行可逆键合,获得封闭式微通道结构;3)借助泵阀系统将刻蚀液连续地导入微通道,对待加工表面进行局部湿法刻蚀,刻蚀至所需深度后将基片从待加工表面剥离,获得微流体通道。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:叶嘉明吕志荣苑宝龙牟航
申请(专利权)人:浙江清华长三角研究院萧山生物工程中心
类型:发明
国别省市:浙江;33

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