本发明专利技术提供一种具有黑色外观的壳体的制备方法，其包括如下步骤：提供一基体；在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为CrxCy层，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；所述色彩层的形成采用磁控溅射法，使用复合靶，通入碳源反应气体，该复合靶中含有金属铬和碳化铬；该色彩层呈现的色度区域于CIELab表色系统的L*坐标介于27至30之间，a*坐标介于-0.1至0.1之间，b*坐标介于-0.1至0.1之间。本发明专利技术还提供一种由上述方法制得的壳体。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种壳体的制备方法及由该方法所制得的壳体。
技术介绍
目前最常用的制备黑色涂层的方法为电化学方法，如阳极氧化黑色膜，镀黑镍、黑铬等，但该类方法污染重不环保。PVD镀膜技术是一种较为环保的镀膜工艺。然而，利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的黑色膜层容易出现异色、黑中带蓝及黑中带红等现象，严重影响了黑色膜层的美观性； 且利用PVD制备的黑色膜层往往黑色的深度不够，膜层的色度区域于CIE Lab表色系统中的L*值通常只能达到35左右，继续降低L*值存在很大难度。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种有效解决上述问题的黑色的PVD镀膜的壳体的制备方法。另外，本专利技术还提供一种由上述方法制得的壳体。一种壳体的制备方法，其包括如下步骤 提供一基体； 在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为铬-碳层，其化学式为CrxCy，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；所述色彩层的形成采用磁控溅射法，使用复合靶，通入碳源反应气体，该复合靶中含有金属铬和碳化铬，其中金属铬的质量百分含量为50、0%，碳化铬的质量百分含量为1(Γ50% ;该色彩层呈现的色度区域于CIE Lab表色系统的L*坐标介于27至30之间，a*坐标介于-O. I至O. I之间，b*坐标介于-O. I至O. I之间。—种壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，该色彩层为铬-碳层，其化学式为CrxCy，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；该色彩层呈现的色度区域于CIE Lab表色系统的L*坐标介于27至30之间，a*坐标介于-O. I至O. I之间，b*坐标介于-O. I至O. I之间。本专利技术在所述色彩层的制备过程中使用一种含金属铬与碳化铬的靶材，并通入碳源反应气体，使获得的色彩层的色度区域于CIE Lab表色系统的L*低于30。所述壳体呈现出具有吸引力的黑色的外观，颜色均衡且无黑中带蓝或红；另外所述色彩层还具有良好的抗磨损性能，可持久保持其良好的黑色的外观，同时还可有效防止基体被磨损，相应地延长了壳体的使用寿命。附图说明图I是本专利技术一较佳实施例壳体的剖视 图2是本专利技术一较佳实施例真空镀膜机的示意图。主要元件符号说明权利要求1.一种壳体的制备方法，其包括如下步骤 提供一基体； 在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为铬-碳层，其化学式为CrxCy，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；所述色彩层的形成采用磁控溅射法，使用复合靶，通入碳源反应气体，该复合靶中含有金属铬和碳化铬，其中金属铬的质量百分含量为50、0%，碳化铬的质量百分含量为1(Γ50% ;该色彩层呈现的色度区域于CIE Lab表色系统的L*坐标介于27至30之间，a*坐标介于-O. I至O. I之间，b*坐标介于-O. I至O. I之间。2.如权利要求I所述的壳体的制备方法，其特征在于形成所述色彩层的工艺参数为复合靶的功率为8 12kW，施加于基体的偏压为-5(T-200V，占空比为3(Γ70% ;碳源反应气体为乙炔，乙炔的流量为8(Tl20sCCm，以氩气为工作气体，氩气的流量为30(T500SCCm，镀膜温度为5(T200°C或室温；沉积所述色彩层的时间为15飞Omin。3.如权利要求I所述的壳体的制备方法，其特征在于所述基体的材质为金属、玻璃、陶瓷或塑料。4.如权利要求I所述的壳体的制备方法，其特征在于所述色彩层的厚度为Γ3ΜΠ1。5.如权利要求I所述的壳体的制备方法，其特征在于所述色彩层呈现黑色。6.如权利要求I所述的壳体的制备方法，其特征在于所述复合靶的制备方法为将铬和 碳化铬的粉体放入球磨机中混合均匀，其中金属铬的质量百分含量为50、0%，碳化铬的混入量为l(T50wt%，球磨时间为1 24小时；采用冷等静压对混合后的粉体原料进行预压，使之成型为一坯体，预压压力10(T300MPa，保压时间f IOmin ;将坯体放入烧结炉中进行热压烧结，从室温开始升温，升温速率为9(Tl00°C /min,当温度升高到80(T900°C时对坯体进行施压，压力为2(T40MPa，当温度上升到100(Γ1500 时，将压力调节为5(T70MPa，保压3 IOmin07.一种壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，其特征在于该色彩层为铬-碳层，其化学式为CrxCy，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；该色彩层呈现的色度区域于CIELab表色系统的L*坐标介于27至30之间，a*坐标介于-O. I至O. I之间，b*坐标介于-O. I至O. I之间。8.如权利要求7所述的壳体，其特征在于所述基体的材质为金属、玻璃、陶瓷或塑料。9.如权利要求7所述的壳体，其特征在于所述色彩层的厚度为Γ3ΜΠ1。10.如权利要求7所述的壳体，其特征在于所述色彩层呈现黑色。全文摘要本专利技术提供一种具有黑色外观的壳体的制备方法，其包括如下步骤提供一基体；在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为CrxCy层，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；所述色彩层的形成采用磁控溅射法，使用复合靶，通入碳源反应气体，该复合靶中含有金属铬和碳化铬；该色彩层呈现的色度区域于CIELab表色系统的L*坐标介于27至30之间，a*坐标介于-0.1至0.1之间，b*坐标介于-0.1至0.1之间。本专利技术还提供一种由上述方法制得的壳体。文档编号C23C14/06GK102953030SQ201110246229公开日2013年3月6日 申请日期2011年8月25日 优先权日2011年8月25日专利技术者蒋焕梧, 陈正士, 徐华阳, 张娟 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种壳体的制备方法，其包括如下步骤：提供一基体；在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为铬?碳层，其化学式为CrxCy，其中x:y的值介于1:6与1:5之间；所述色彩层的形成采用磁控溅射法，使用复合靶，通入碳源反应气体，该复合靶中含有金属铬和碳化铬，其中金属铬的质量百分含量为50~90%，碳化铬的质量百分含量为10~50%；该色彩层呈现的色度区域于CIE?Lab表色系统的L*坐标介于27至30之间，a*坐标介于?0.1至0.1之间，b*坐标介于?0.1至0.1之间。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋焕梧，陈正士，徐华阳，张娟，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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