转载治具制造技术

本实用新型专利技术提供一种转载治具。所述转载治具包含第一承载部件及壳体。所述第一承载部件包含三个支撑结构以支撑待转载物体，所述三个支撑结构实质上互相平行。所述壳体用于容纳所述待转载物体。

【技术实现步骤摘要】
转载治具
本技术涉及一种转载治具，明确地说，涉及运输晶片或衬底的转载治具。
技术介绍
在集成电路制造过程中，晶片或衬底会经历多道工艺(例如不同生产线或厂之间的搬运)，在此过程中常需要移动晶片。一般在运输过程中，多片(例如13到15片)晶片或衬底被放置于同一层架或收纳盒上，待移到目的地后，再以人工方式将所述晶片或衬底一一转载到另一层架或收纳盒上。由于晶片或衬底的至少一表面会布有诸多线路，人工的转载方式容易造成晶片或衬底表面损伤或破裂(受到刮损)而使集成电路制造的良率下降。目前虽有专门的转载机台，但其价格高昂且仅可于无尘室内使用而移动性不佳。再者，现行转载机台所具备的用以支撑晶片或衬底的结构只有两个支撑杆，其仅能转载圆形物件，对于矩形物件则难以提供足够支撑力，从而致使矩形物件中间区段时常下凹，容易造成被转载物的损坏。
技术实现思路
本技术的一实施例提供一种转载治具。所述转载治具包含：第一承载部件，其包含三个支撑结构以支撑待转载物体，所述三个支撑结构实质上互相平行；以及壳体，其用于容纳所述待转载物体。在一或多个实施例中，所述转载治具进一步包含升降部，其连接到所述第一承载部件以控制所述第一承载部件沿第一方向移动，其中所述第一方向与所述三个支撑结构的延伸方向实质上垂直。在一或多个实施例中，所述壳体经配置以沿着第二方向朝向所述第一承载部件或远离所述第一承载部件移动。在一或多个实施例中，所述转载治具进一步包含至少一真空吸盘，所述真空吸盘设于所述支撑结构的至少一支撑结构上以支撑所述待转载物体。在一或多个实施例中，所述转载治具进一步包含多个真空吸盘，所述真空吸盘分别设于所述三个支撑结构上以支撑所述待转载物体。在一或多个实施例中，所述转载治具进一步包含抽气马达或吹气马达，其连接到所述真空吸盘，所述抽气马达或吹气马达经配置以对所述待转载物体提供吸附力。在一或多个实施例中，所述转载治具进一步包含：吹气部，其设于所述壳体内的第一端，所述吹气部用以对所述壳体内部提供气体；以及回气部，其设于所述壳体内的第二端，所述回气部用以对所述壳体内的气体提供回吸力。在一或多个实施例中，所述壳体用以容纳多个矩形衬底，所述矩形衬底在第一方向上互相平行且彼此分离，且其中所述吹气部与所述矩形衬底在所述第一方向上不重叠。在一或多个实施例中，所述转载治具进一步包含：第二承载部件，其包含三个支撑结构，所述三个支撑结构实质上互相平行，其中所述第二承载部件的所述三个支撑结构分别与所述第一承载部件的所述三个支撑结构对齐。在一或多个实施例中，所述三个支撑结构包含第一支撑结构、第二支撑结构及第三支撑结构，所述第二支撑结构位于所述第一支撑结构与所述第三支撑结构之间；所述第一支撑结构具有第一真空吸盘、所述第二支撑结构具有第二真空吸盘且所述第三支撑结构具有第三真空吸盘；且所述第二真空吸盘较所述第一真空吸盘或所述第三真空吸盘远离所述壳体。本技术的另一实施例提供一种转载治具。所述转载治具包含：承载部件，所述承载部件包含：第一支撑结构；第二支撑结构；第三支撑结构；以及连接件，其连接所述第一支撑结构、所述第二支撑结构及所述第三支撑结构，其中所述第一支撑结构、所述第二支撑结构及所述第三支撑结构互相平行，且所述第二支撑结构位于所述第一支撑结构与所述第三支撑结构之间；第一吸盘，其位于所述第一支撑结构上；第二吸盘，其位于所述第二支撑结构上；以及第三吸盘，其位于所述第三支撑结构上，其中所述第二吸盘较所述第一吸盘或所述第三吸盘靠近所述连接件。在一或多个实施例中，所述第二支撑结构的长度小于所述第一支撑结构或所述第三支撑结构的长度。在一或多个实施例中，所述第二吸盘经配置以邻近于或位于待转载物体的中心。本技术的另一实施例提供一种操作转载治具的方法。所述方法包含：朝承载部件移动用以容纳矩形衬底的第一壳体，使所述矩形衬底位于所述承载部件的上方；移动所述承载部件，使所述承载部件抬起所述矩形衬底；以及移动所述第一壳体，使其远离所述承载部件。在一或多个实施例中，所述方法进一步包含：朝所述承载部件移动第二壳体，使所述矩形衬底位于所述第二壳体内；移动所述承载部件，使所述承载部件下移所述矩形衬底，以将所述矩形衬底放置于所述第二壳体内用以支撑所述矩形衬底的支撑结构上；以及移动所述第二壳体，使其远离所述承载部件。在一或多个实施例中，移动所述承载部件，使所述承载部件抬起所述矩形衬底的步骤进一步包含使设于所述承载部件上的至少一真空吸盘贴附于所述矩形衬底的下表面，并通过所述至少一真空吸盘对所述矩形衬底提供吸附力。在一或多个实施例中，所述方法进一步包含：于所述第一壳体内的远离所述承载部件的一端底部提供气体；以及于所述第一壳体内的靠近所述承载部件的一端底部抽出所述气体。在一或多个实施例中，所述气体为氮气，且所述气体是以10L/min到30L/min的流量提供。在一或多个实施例中，所述气体是以20L/min到30L/min的流量提供。在一或多个实施例中，提供所述气体的流速大于抽出所述气体的流速。附图说明由以下详细说明与附随图式得以最佳了解本申请案揭示内容的各方面。注意，根据产业的标准实施方式，各种特征并非依比例绘示。实际上，为了清楚讨论，可任意增大或缩小各种特征的尺寸。图1绘示本技术的一实施例的转载治具的立体图。图2绘示本技术的一实施例的转载治具的壳体的底视立体图。图3A到图3D绘示本技术的一实施例的操作转载治具的方法。具体实施方式本技术提供了数个不同的实施方法或实施例，可用于实现本技术的不同特征。为简化说明起见，本技术还同时描述了特定组件与布置的范例。请注意，提供这些特定范例的目的仅在于示范，而非予以任何限制。举例来说，在以下说明第一特征如何在第二特征上或上方的叙述中，可能会包括某些实施例，其中第一特征与第二特征直接接触，而叙述中也可能包括其它不同实施例，其中第一特征与第二特征中间另有其它特征，以致于第一特征与第二特征并不直接接触。此外，本技术中的各种范例可能使用重复的参考数字和/或文字注记，以使文件更加简单化和明确，这些重复的参考数字与注记不代表不同的实施例与配置之间的关联性。另外，本技术在使用与空间相关的叙述词汇，如“在…之下”、“低”、“下”、“上方”、“上”、“在…之上”及类似词汇时，为便于叙述，其用法均在于描述图示中一个元件或特征与另一个(或多个)元件或特征的相对关系。除了图示中所展示的角度方向外，这些空间相对词汇也用来描述所述装置在使用中以及操作时的可能角度和方向。所述装置的角度方向可能不同(旋转90度或其它方位)，而在本技术所使用的这些空间相关叙述可以同样方式加以解释。在本文中所使用的“第一”、“第二”、“第三”以及“第四”语词描述各种元件、组件、区域、层、以及/或区段，这些元件、组件、区域、层、以及/或区段应不受限于这些语词。这些语词可仅用于一元件、组件、区域、层、或区段与另一元件、组件、区域、层、或区段。除非内文中清楚指明，否则当于本文中使用例如“第一”、“第二”、“第三”以及“第四”语词时，并非意指序列或顺序。本技术所描述的转载治具可以在被转载物(例如晶片或衬底)进行换盒转载过程中提供稳固支撑，避免被转载物滑动或偏移而造成损伤，且可应用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转载治具，其包含：第一承载部件，其包含三个支撑结构以支撑待转载物体，所述三个支撑结构实质上互相平行；以及壳体，其用于容纳所述待转载物体。

【技术特征摘要】
1.一种转载治具，其包含：第一承载部件，其包含三个支撑结构以支撑待转载物体，所述三个支撑结构实质上互相平行；以及壳体，其用于容纳所述待转载物体。2.根据权利要求1所述的转载治具，其进一步包含升降部，其连接到所述第一承载部件以控制所述第一承载部件沿第一方向移动，其中所述第一方向与所述三个支撑结构的延伸方向实质上垂直。3.根据权利要求1所述的转载治具，其中所述壳体经配置以沿着第二方向朝向所述第一承载部件或远离所述第一承载部件移动。4.根据权利要求1所述的转载治具，其进一步包含至少一真空吸盘，所述真空吸盘设于所述支撑结构的至少一支撑结构上以支撑所述待转载物体。5.根据权利要求1所述的转载治具，其进一步包含多个真空吸盘，所述真空吸盘分别设于所述三个支撑结构上以支撑所述待转载物体。6.根据权利要求4或5所述的转载治具，其进一步包含连接到所述真空吸盘的抽气马达或吹气马达，所述抽气马达或吹气马达经配置以对所述待转载物体提供吸附力。7.根据权利要求1所述的转载治具，其进一步包含：吹气部，其设于所述壳体内的第一端，所述吹气部用以对所述壳体内部提供气体；以及回气部，其设于所述壳体内的第二端，所述回气部用以对所述壳体内的气体提供回吸力。8.根据权利要求7所述的转载治具，其中所述壳体用以容纳多个矩形衬底，所述矩形衬底在第一方向上互相平行且彼此分离，且其中所述吹气部与所述矩形衬底在所述第一方向上不重叠。9...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕铭汉，
申请(专利权)人：日月光半导体制造股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71