一种抛光装置及载体装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种抛光装置及载体装置，涉及机械加工领域。抛光装置，用于抛光产品，包括抛光件、检测装置、调节组件及机架，调节组件连接抛光件及机架，调节组件设置在机架上，调节组件用于调节抛光件相对于产品的位置；抛光件用于抛光产品表面；检测装置用于检测抛光件与产品之间的压力值，以控制调节组件，以使抛光件向远离产品的方向运动。在本实用新型专利技术中，检测装置检测抛光件与产品表面之间的压力值，通过压力值来控制调节组件，使抛光件向远离产品的方向运动，从而避免了抛光件过度抛光产品表面，或者是在没有抛光干净就退刀的情况，从而提高了抛光的质量，同时提高了抛光的效率。

Polishing device and carrier device

The utility model provides a polishing device and a carrier device, which relates to the field of mechanical processing. A polishing device is used for polishing products, including polishing parts, detecting devices, adjusting components and racks, adjusting components connecting polishing parts and racks, adjusting components installed on the racks, adjusting components used to adjust the position of polishing parts relative to the products, polishing parts used to polish the surface of products, detecting devices used to detect polishing parts and racks. The pressure values between the products are used to control the adjustment components so that the polishing parts move towards the direction away from the product. In the utility model, the detecting device detects the pressure value between the polishing part and the product surface, controls the adjusting component by the pressure value, makes the polishing part move away from the product direction, thus avoiding the polishing part to polish the product surface excessively, or withdrawing the knife without polishing, thereby improving the polishing. Meanwhile, the polishing efficiency is improved.

【技术实现步骤摘要】
一种抛光装置及载体装置
本技术涉及机械加工领域，具体而言，涉及一种抛光装置及载体装置。
技术介绍
目前市面上针对塑料件分模线的抛光方式都是依赖于传统的：化学抛光，2、电解抛光，3、超声波抛光，4、流体抛光等方式抛光；这些传统抛光方式都具有一个共同的特点就是不知道产品表面抛掉多少，往往会出现产品过抛、产品没有抛干净的现象出现，在品质端没法保证质的保证，在效率上更是达不到产能的需求，针对此现状也是目前市面上急需改善的困惑。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种抛光装置，能够提高抛光的效率，提高抛光质量。本技术的目的在于提供一种载体装置，能够提高抛光的效率，提高抛光质量。本技术提供一种技术方案：一种抛光装置，用于抛光产品，包括抛光件、检测装置、调节组件及机架，所述调节组件连接所述抛光件及机架，所述调节组件设置在所述机架上，所述调节组件用于调节所述抛光件相对于所述产品的位置；所述抛光件用于抛光所述产品表面；所述检测装置用于检测所述抛光件与所述产品之间的压力值，以控制所述调节组件，以使所述抛光件向远离所述产品的方向运动。进一步地，在本技术较佳的实施例中，所述抛光装置还包括控制装置，所述控制装置与所述检测装置及所述调节组件调节，所述控制装置用于接收所述压力值，并当所述压力值大于预设压力值时，控制所述调节组件，以控制所述抛光件向远离所述产品的方向运动。进一步地，在本技术较佳的实施例中，所述调节组件包括第一调节件及第二调节件，所述第一调节件与所述机架连接，所述第二调节件的一端与所述第一调节件连接，另一端与所述第二调节件连接；所述第一调节件用于调节所述抛光件在第一方向上的移动；所述第二调节件用于调节所述抛光件在第二方向上的移动。进一步地，在本技术较佳的实施例中，所述第一方向与所述产品平行，所述第二方向与所述产品垂直。进一步地，在本技术较佳的实施例中，所述第二调节件包括快调件及精调件，所述精调件与所述第一调节件连接，所述快调件与所述精调件活动连接，所述抛光件设置在所述快调件的一端。进一步地，在本技术较佳的实施例中，所述快调件包括连接座、快调件本体及驱动件，所述连接座与所述精调件活动连接，所述快调件本体及所述驱动件均设置在所述连接座上，所述驱动件与所述快调件本体连接，用于驱动所述快调件本体相对于所述连接座移动，所述抛光件设置在所述快调件本体的一端。进一步地，在本技术较佳的实施例中，所述第二调节件还包括连接件，所述连接件包括滑轨及滑槽，所述滑轨设置在所述精调件上，所述滑槽设置在所述快调件上，所述滑轨与所述滑槽配合，使所述快调件可相对于所述精调件运动。进一步地，在本技术较佳的实施例中，所述第一调节件通过第二连接件与机架连接，所述第二连接件包括卡槽及卡接部，所述卡槽设置在所述机架上，所述卡接部与所述第一调节件连接，所述卡接部与所述卡槽配合，使所述第一调节件可在所述第一方向上移动。进一步地，在本技术较佳的实施例中，所述抛光件为海绵抛光件。一种载体装置，包括装置本体及抛光装置，所述抛光装置设置在所述载体装置上，所述抛光装置，用于抛光产品，包括抛光件、检测装置、调节组件及机架，所述调节组件连接所述抛光件及机架，所述调节组件设置在所述机架上，所述调节组件用于调节所述抛光件相对于所述产品的位置；所述抛光件用于抛光所述产品表面；所述检测装置用于检测所述抛光件与所述产品之间的压力值，以控制所述调节组件，以使所述抛光件向远离所述产品的方向运动。本技术提供的抛光装置及载体装置的有益效果是：在本技术中，抛光装置，用于抛光产品，包括抛光件、检测装置、调节组件及机架，调节组件连接抛光件及机架，调节组件设置在机架上，调节组件用于调节抛光件相对于产品的位置；抛光件用于抛光产品表面；检测装置用于检测抛光件与产品之间的压力值，以控制调节组件，以使抛光件向远离产品的方向运动。在本技术中，检测装置检测抛光件与产品表面之间的压力值，通过压力值来控制调节组件，使抛光件向远离产品的方向运动，从而避免了抛光件过度抛光产品表面，或者是在没有抛光干净就退刀的情况，从而提高了抛光的质量，同时提高了抛光的效率。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本技术实施例一提供的抛光装置的结构示意图。图2为本技术实施例一提供的抛光装置的组成框图。图3为本技术实施例一提供的抛光装置的调节组件的第一调节组件的结构示意图。图4为本技术实施例一提供的抛光装置的调节组件的第一调节组件的快调件的结构示意图。图标：10-抛光装置；100-调节组件；110-第一调节件；112-第二连接件；114-卡槽；116-卡接部；120-第二调节件；122-快调件；1222-连接座；1224-快调件本体；1226-驱动件；124-精调件；126-连接件；1262-滑轨；1264-滑槽；200-抛光件；300-检测装置；400-机架；500-控制装置。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。实施例一请参阅图1及图2，本实施例提供了一种抛光装置10，本实施例提供的抛光装置10能够提高抛光的效率，提高抛光质量。在本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光装置，用于抛光产品，其特征在于，包括抛光件、检测装置、调节组件及机架，所述调节组件连接所述抛光件及机架，所述调节组件设置在所述机架上，所述调节组件用于调节所述抛光件相对于所述产品的位置；所述抛光件用于抛光所述产品表面；所述检测装置用于检测所述抛光件与所述产品之间的压力值，以控制所述调节组件，以使所述抛光件向远离所述产品的方向运动。

【技术特征摘要】
1.一种抛光装置，用于抛光产品，其特征在于，包括抛光件、检测装置、调节组件及机架，所述调节组件连接所述抛光件及机架，所述调节组件设置在所述机架上，所述调节组件用于调节所述抛光件相对于所述产品的位置；所述抛光件用于抛光所述产品表面；所述检测装置用于检测所述抛光件与所述产品之间的压力值，以控制所述调节组件，以使所述抛光件向远离所述产品的方向运动。2.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述抛光装置还包括控制装置，所述控制装置与所述检测装置及所述调节组件调节，所述控制装置用于接收所述压力值，并当所述压力值大于预设压力值时，控制所述调节组件，以控制所述抛光件向远离所述产品的方向运动。3.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述调节组件包括第一调节件及第二调节件，所述第一调节件与所述机架连接，所述第二调节件的一端与所述第一调节件连接，另一端与所述第二调节件连接；所述第一调节件用于调节所述抛光件在第一方向上的移动；所述第二调节件用于调节所述抛光件在第二方向上的移动。4.根据权利要求3所述的抛光装置，其特征在于，所述第一方向与所述产品平行，所述第二方向与所述产品垂直。5.根据权利要求3所述的抛光装置，其特征在于，所述第二调节件包...

【专利技术属性】
技术研发人员：柯涛彬，陈豪杰，
申请(专利权)人：厦门攸信信息技术有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35