具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物制造技术

技术编号:18463706 阅读:21 留言:0更新日期:2018-07-18 14:51
具有式(I)的化合物

Harmful biological activity heterocyclic derivatives with sulfur substituents

Compounds with type (I)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物本专利技术涉及含硫取代基的杀有害生物活性(尤其是杀虫活性)杂环衍生物,涉及用于它们的制备的方法,涉及包含那些化合物的组合物,并且涉及它们用于控制动物有害生物(包括节肢动物并且尤其是昆虫或蜱螨目的代表)的用途。具有杀有害生物作用的杂环化合物是已知的并描述于例如WO2010/125985和WO2013/018928中。现在已经发现具有含硫的氨基衍生物取代基的新颖的杀有害生物活性杂环三唑衍生物。因此,本专利技术涉及具有式I的化合物,其中Y是O或S;R2是氢、卤素、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷基;或者R2是C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C4卤代烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、SF5、氰基、C3-C6环烷基C1-C4烷基或–C(O)C1-C6卤代烷基;或者R2是C3-C6环烷基,其可以被选自R6的取代基单取代或多取代;R4是氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、或是可以被R20单取代或多取代的C3-C6环烷基;或是可以被R20单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基;或者R4是被R7取代的C1-C4烷基;或者R4是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、胺或羟基;R4是被R7取代的C2-C6烯基,或是被R7取代的C2-C6炔基;R5是氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或被C1-C4烷基硫烷基取代的C1-C4烷基;R6和R20彼此独立地选自下组,该组由以下组成:氰基、卤素、C1-C6烷基和C1-C4卤代烷基;R7是氰基、卤素、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷氧基或苯基,该苯基本身可以被选自R8的取代基单取代或多取代;R8是卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C4烷氧基;R3是选自下组的基团,该组由以下组成:式Q1、Q2、Q3、Q4、Q5、Q6、Q7、Q8、Q9、Q10、Q11、Q12、Q13和Q14;其中箭头表示附接至咪唑环的点;A表示CH或N;X是S、SO或SO2;R1是C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;或者R1是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R1是C3-C6环烷基-C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;R9是氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、羟基、C1-C6烷氧基或S(O)m1R21;或者R9是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R9是C3-C6环烷基-C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R9是C3-C6环烷基羰基;R10是氢、C1-C6烷基、氰基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6炔基、C2-C6烯基、氨基、NH-CN、N-(C1-C4烷基)氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C1-C4烷基)氨基、N-(C3-C6环烷基)氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C3-C6环烷基)氨基、N-(C1-C4烷基羰基)氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C1-C4烷基羰基)氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C3-C6环烷基羰基)氨基、N-(C3-C6环烷基羰基)氨基、N-(C1-C4烷基羰基)N-(C3-C6环烷基)氨基或-S(O)mR13;或者R10是被独立地选自基团Z的取代基单取代或多取代的C1-C4烷基;或者R10是五至六元芳香族或杂芳香族环系统,所述芳香族或杂芳香族环系统可以含有1至4个选自下组的杂原子,该组由以下组成:氮、氧和硫,其条件是:每个环系统不能包含多于2个氧原子和多于2个硫原子,所述五至六元环系统可以是被取代基单取代或多取代的,所述取代基独立地选自基团V;R11是氢、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、氨基、N-C1-C4烷基氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C3-C6环烷基)氨基、N-(C3-C6环烷基)氨基或N-(C1-C4烷基)N-(C1-C4烷基)氨基;或者R11是被独立地选自基团Z的取代基单取代或多取代的C1-C4烷基;或者R11是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R11是C3-C6环烷基-C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R11是五至六元芳香族或杂芳香族环系统,所述芳香族或杂芳香族环系统可以含有1至4个选自下组的杂原子,该组由以下组成:氮、氧和硫,其条件是:每个环系统不能包含多于2个氧原子和多于2个硫原子,所述五至六元芳香族或杂芳香族环系统可以是被取代基单取代或多取代的,所述取代基独立地选自基团V;R12是氢、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、羟基或C1-C6卤代烷氧基;或者R12是被独立地选自基团Z的取代基单取代或多取代的C1-C4烷基;或者R12是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R12是C3-C6环烷基-C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;R13是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、N-C1-C4烷基氨基、N,N-(C1-C4烷基)2氨基或苯基;所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4烷基、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷氧基;或者R13是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R13是C3-C6环烷基C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;R21是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、N-C1-C4烷基氨基、N,N-(C1-C4烷基)2氨基或苯基;所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4烷基、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷氧基;或者R21是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R21是C本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有式I的化合物

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.11.16 IN 3735/DEL/2015;2016.08.24 IN 201611021.一种具有式I的化合物其中Y是O或S;R2是氢、卤素、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷基;或者R2是C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C4卤代烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、SF5、氰基、C3-C6环烷基C1-C4烷基或–C(O)C1-C6卤代烷基;或者R2是C3-C6环烷基,该C3-C6环烷基可以被选自R6的取代基单取代或多取代;R4是氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、或是可以被R20单取代或多取代的C3-C6环烷基;或是可以被R20单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基;或者R4是被R7取代的C1-C4烷基;或者R4是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、胺或羟基;R4是被R7取代的C2-C6烯基,或是被R7取代的C2-C6炔基;R5是氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或被C1-C4烷基硫烷基取代的C1-C4烷基;R6和R20彼此独立地选自下组,该组由以下组成:氰基、卤素、C1-C6烷基和C1-C4卤代烷基;R7是氰基、卤素、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷氧基或苯基,该苯基本身可以被选自R8的取代基单取代或多取代;R8是卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C4烷氧基;R3是选自下组的基团,该组由以下组成:Q1、Q2、Q3、Q4、Q5、Q6、Q7、Q8、Q9、Q10、Q11、Q12、Q13和Q14;其中箭头表示附接至咪唑环的点;A表示CH或N;X是S、SO或SO2;R1是C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;或者R1是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R1是C3-C6环烷基-C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;R9是氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、羟基、C1-C6烷氧基或S(O)m1R21;或者R9是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R9是C3-C6环烷基-C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R9是C3-C6环烷基羰基;R10是氢、C1-C6烷基、氰基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6炔基、C2-C6烯基、氨基、NH-CN、N-(C1-C4烷基)氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C1-C4烷基)氨基、N-(C3-C6环烷基)氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C3-C6环烷基)氨基、N-(C1-C4烷基羰基)氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C1-C4烷基羰基)氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C3-C6环烷基羰基)氨基、N-(C3-C6环烷基羰基)氨基、N-(C1-C4烷基羰基)N-(C3-C6环烷基)氨基或-S(O)mR13;或R10是被独立地选自基团Z的取代基单取代或多取代的C1-C4烷基;或者R10是五元至六元芳香族或杂芳香族环系统,所述芳香族或杂芳香族环系统可以含有1至4个选自由氮、氧和硫组成的组中的杂原子,条件是每个环系统不能含有多于2个氧原子和多于2个硫原子,所述五元至六元环系统可以被独立地选自基团V的取代基单取代或多取代;R11是氢、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、氨基、N-C1-C4烷基氨基、N-(C1-C4烷基)N-(C3-C6环烷基)氨基、N-(C3-C6环烷基)氨基或N-(C1-C4烷基)N-(C1-C4烷基)氨基;或者R11是被独立地选自基团Z的取代基单取代或多取代的C1-C4烷基;或者R11是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R11是C3-C6环烷基-C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R11是五至六元芳香族或杂芳香族环系统,所述芳香族或杂芳香族环系统可以含有1至4个选自由氮、氧和硫组成的组中的杂原子,其条件是每个环系统不能包含多于2个氧原子和多于2个硫原子,所述五至六元芳香族或杂芳香族环系统可以被独立地选自基团V的取代基单取代或多取代;R12是氢、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、羟基或C1-C6卤代烷氧基;或者R12是被独立地选自基团Z的取代基单取代或多取代的C1-C4烷基;或者R12是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R12是C3-C6环烷基-C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;R13是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、N-C1-C4烷基氨基、N,N-(C1-C4烷基)2氨基或苯基;所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4烷基、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷氧基;或者R13是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R13是C3-C6环烷基C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;R21是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、N-C1-C4烷基氨基、N,N-(C1-C4烷基)2氨基或苯基;所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4烷基、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷氧基;或者R21是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R21是C3-C6环烷基C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;m是0、1或2;m1是0、1或2;R14是氢或C1-C6烷基;R15是氢、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、氨基、N-C1-C4烷基氨基或N,N-(C1-C4烷基)2氨基;或者R15是被独立地选自基团Z的取代基单取代或多取代的C1-C4烷基;或者R15是C3-C6环烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;或者R15是C3-C6环烷基-C1-C4烷基,其可以被选自下组的取代基单取代或多取代,该组由以下组成:卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基;p是0或1;R16是氢或C1-C6烷基;R17是氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基或C1-C6卤代烷氧基;或者R17是被...

【专利技术属性】
技术研发人员:P·J·M·容A·埃德蒙兹M·米尔巴赫A·杰恩格纳特D·埃默里R·G·豪尔V·斯科瓦尔J·帕巴
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司
类型:发明
国别省市:瑞士,CH

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