有杀有害生物活性的具有含硫取代基的二环或三环杂环制造技术

可被用作杀虫剂并且可以按本身已知方式进行制备的、有杀有害生物活性的具有含硫取代基的二环或三环杂环，其立体异构体和互变异构形式。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有杀有害生物活性的具有含硫取代基的二环或三环杂环本专利技术涉及具有杀虫活性的含硫杂环衍生物、涉及用于制备它们的方法、涉及包含这些化合物的组合物、并且涉及它们的用于控制动物有害生物(包括节肢动物并且尤其是昆虫或蜱螨目的代表)的用途。具有杀有害生物作用的杂环化合物是已知的并且在例如WO2009/131237、WO2011/043404、WO2011/040629、WO2010/125985、WO2012/086848、WO2013/018928、WO2013/191113、WO2013/180193和WO2013/180194中描述。现在已经发现具有杀有害生物特性的多种新的杂环衍生物。本专利技术因此涉及具有化学式I的化合物，A-B(I)，其中A是一个选自下组的基团，该组由化学式A1至A8组成：其中箭头表示附接至基团B的点；并且B是一个选自下组的基团，该组由化学式B1至B11组成：其中箭头表示附接至基团A的点；其中L1是亚甲基或一个直接键；V0氮或CR5；V1是氮或CR20；V2是氮或CR21；V3是氮或CR22；V4是氮或CR23；V5是氮或CR24；V6是氮或CR25；V7是氮或CR26；V8是氮或CR27；V9是氮，或CR28；V10是氮或CR29；V11是氮或CR30；G1是氮或CR31；G2是氮或CR32；G3是-NR35、一个氧原子或一个硫原子；G4是氮或CR33；G5是氮或CR34；J1、J2、J3一起形成一个5元杂环，该杂环可以是饱和的或不饱和的，包含选自下组的一个或两个原子，该组由氮、氧和硫组成，该环可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由C1-C6烷基、卤素和或C1-C6卤代烷基组成，其条件是如果该环包含两个氧原子或两个硫原子，它们被一个碳原子分开；R1和R2是相同的或不同的并且每个表示氢、卤素、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；R3是一个可以被选自下组的取代基单取代或多取代的C1-C6烷基、C2-C6烯基或C2-C6炔基基团，该组由C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6烯氧基、C2-C6卤代烯氧基、C2-C6炔氧基、C2-C6卤代炔氧基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C2-C6卤代烷氧基羰基、氰基、羟基、卤素、C3-C6环烷基组成，所述C3-C6环烷基本身可被选自卤素和C1-C3烷基的取代基单取代或多取代；以及被一个5-或6-元杂环基团单取代或多取代，该杂环基团可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C2-C6卤代烷氧基羰基、C1-C6烷基氨基、C1-C6卤代烷基氨基、C2-C8二烷基氨基、C2-C8卤代二烷基氨基、卤素、氰基和硝基组成；或R3是-CO2R36、-C(O)R36或氢；或R3是可以被选自下组的取代基单取代或多取代的C3-C6环烷基，该组由C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6烯氧基、C2-C6卤代烯氧基、C2-C6炔氧基、C2-C6卤代炔氧基和卤素组成；或R3是一个可以被选自下组的取代基单取代或多取代的5-或6-元杂环基团，该组由C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C2-C6卤代烷氧基羰基、C1-C6烷基氨基、C1-C6卤代烷基氨基、C2-C8二烷基氨基、C2-C8卤代二烷基氨基、卤素、氰基和硝基组成；R35是氢、可以被选自下组的取代基单取代或多取代的C1-C6烷基，该组由C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6烯氧基、C2-C6卤代烯氧基、C2-C6炔氧基、C2-C6卤代炔氧基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C2-C6烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、氰基、羟基、卤素和C3-C6环烷基组成，所述的C3-C6环烷基本身可被选自卤素和C1-C3烷基的取代基单取代或多取代；或其一种N-氧化物；R4、R5、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29以及R30是相同的或不同的，并且表示氰基、硝基、卤素、羟基、C1-C6烯氧基、C1-C6-卤代烷氧基、-C(O)R36-C(O)R36或氢；或可以被选自下组的取代基单取代或多取代的C1-C6烷基，该组由氰基、卤素、羟基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6烯氧基、C2-C6卤代烯氧基、C2-C6炔氧基、C2-C6卤代炔氧基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C2-C6卤代烷氧基羰基、氰基、羟基、卤素和C3-C6环烷基组成，所述环烷基本身可以被选自下组的取代基取代，该组由卤素和Cl-C3烷基组成；或表示一个可以被选自下组的取代基单取代或多取代的苯基基团，该组由C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C2-C6卤代烷氧基羰基、C1-C6烷基氨基、C1-C6卤代烷基氨基、C2-C8二烷基氨基、C2-C8卤代二烷基氨基、卤素、氰基、和硝基组成；R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18和R19是相同的或不同的，并且表示C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或氢，并且此外基团CR13R14可以是一个羰基基团C＝O；R31、R32、R33、R34和R40是相同的或不同的，并且表示C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、-OR7、-S(O)nR36、-NR36R37、-CO2R36、-C(O)R36、氰基、硝基、卤素或氢；R36和R37是相同的或不同的，并且表示氢、可被选自以下的取代基单取代或多取代的C1-C6烷基：C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6烯氧基、C2-C6卤代烯氧基、C2-C6炔氧基、C2-C6卤代炔氧基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有化学式I的化合物，A‑B(I)，其中A是一个选自下组的基团，该组由化学式A1至A8组成：其中箭头表示附接至基团B的点；并且B是一个选自下组的基团，该组由化学式B1至B11组成：其中箭头表示附接至基团A的点；其中L1是亚甲基或一个直接键；V0氮或CR5；V1是氮或CR20；V2是氮或CR21；V3是氮或CR22；V4是氮或CR23；V5是氮或CR24；V6是氮或CR25；V7是氮或CR26；V8是氮或CR27；V9是氮，或CR28；V10是氮或CR29；V11是氮或CR30；G1是氮或CR31；G2是氮或CR32；G3是‑NR35、一个氧原子或一个硫原子；G4是氮或CR33；G5是氮或CR34；J1、J2、J3一起形成一个5元杂环，该杂环可以是饱和的或不饱和的，包含选自下组的一个或两个原子，该组由氮、氧和硫组成，该环可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由C1‑C6烷基、卤素和或C1‑C6卤代烷基组成，其条件是如果该环包含两个氧原子或两个硫原子，它们被一个碳原子分开；R1和R2是相同的或不同的并且每个表示氢、卤素、C1‑C6烷基或C1‑C6卤代烷基；R3是一个可以被选自下组的取代基单取代或多取代的C1‑C6烷基、C2‑C6烯基或C2‑C6炔基基团，该组由C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C2‑C6烯氧基、C2‑C6卤代烯氧基、C2‑C6炔氧基、C2‑C6卤代炔氧基、C1‑C6烷基硫烷基、C1‑C6卤代烷基硫烷基、C1‑C6烷基亚磺酰基、C1‑C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑C6烷基磺酰基、C1‑C6卤代烷基磺酰基、C2‑C6烷基羰基、C2‑C6卤代烷基羰基、C2‑C6烷氧基羰基、C2‑C6卤代烷氧基羰基、氰基、羟基、卤素、C3‑C6环烷基组成，所述C3‑C6环烷基本身可被选自卤素和C1‑C3烷基的取代基单取代或多取代；以及被一个5‑或6‑元杂环基团单取代或多取代，该杂环基团可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷基硫烷基、C1‑C6卤代烷基硫烷基、C1‑C6烷基亚磺酰基、C1‑C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑C6烷基磺酰基、C1‑C6卤代烷基磺酰基、C2‑C6烷基羰基、C2‑C6卤代烷基羰基、C2‑C6烷氧基羰基、C2‑C6卤代烷氧基羰基、C1‑C6烷基氨基、C1‑C6卤代烷基氨基、C2‑C8二烷基氨基、C2‑C8卤代二烷基氨基、卤素、氰基和硝基组成；或R3是可以被选自下组的取代基单取代或多取代的C3‑C6环烷基，该组由C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C2‑C6烯氧基、C2‑C6卤代烯氧基、C2‑C6炔氧基、C2‑C6卤代炔氧基和卤素组成；或R3是一个可以被选自下组的取代基单取代或多取代的5‑或6‑元杂环基团，该组由C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷基硫烷基、C1‑C6卤代烷基硫烷基、C1‑C6烷基亚磺酰基、C1‑C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑C6烷基磺酰基、C1‑C6卤代烷基磺酰基、C2‑C6烷基羰基、C2‑C6卤代烷基羰基、C2‑C6烷氧基羰基、C2‑C6卤代烷氧基羰基、C1‑C6烷基氨基、C1‑C6卤代烷基氨基、C2‑C8二烷基氨基、C2‑C8卤代二烷基氨基、卤素、氰基和硝基组成；或R3是‑CO2R36、‑C(O)R36或氢；R35是氢、可以被选自下组的取代基单取代或多取代的C1‑C6烷基，该组由C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C2‑C6烯氧基、C2‑C6卤代烯氧基、C2‑C6炔氧基、C2‑C6卤代炔氧基、C1‑C6烷基硫烷基、C1‑C6卤代烷基硫烷基、C1‑C6烷基亚磺酰基、C1‑C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑C6烷基磺酰基、C1‑C6卤代烷基磺酰基、C2‑C6烷基羰基、C2‑C6烷氧基羰基、氰基、羟基、卤素和C3‑C6环烷基组成，所述C3‑C6环烷基本身可被选自卤素和C1‑C3烷基的取代基单取代或多取代；或其一种N‑氧化物；R4、R5、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、以及R30是相同的或不同的，并且表示氰基、硝基、卤素、羟基、C1‑C6烯氧基、C1‑C6‑卤代烷氧基、‑C(O)R36或氢；或可以被选自下组的取代基单取代或多取代的C1‑C6烷基，该组由氰基、卤素、羟基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C2‑C6烯氧基、C2‑C6卤代烯氧基、C2‑C6炔氧基、C2‑C6卤代炔氧基、C1‑C6烷基硫烷基、C1‑C6卤代烷基硫烷基、C1‑C6烷基亚磺酰基、C1‑C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑C6烷基磺酰基、C1‑C6卤代烷基磺酰基、C2‑C6烷基羰基、C2‑C6卤代烷基羰基...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.07.02 EP 13174698.4;2013.07.12 EP 13176263.5;1.一种具有化学式I的化合物，A-B(I)，其中A是基团A6.1其中G36是N-R55、氧或硫；R55是C1-C4烷基；G26是氮或次甲基；并且R54是卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4卤代烷基磺酰基、O(C1-C4卤代烷基)、SF5、苯基羰基硫基、巯基或C1-C4烷氧基羰基；其中箭头表示附接至基团B的点；并且B是基团B7.1、B9.1和B11.1其中m是0、1或2；V82是氮或次甲基；R41是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基、C3-C6卤代环烷基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；并且R42是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基、C3-C6卤代环烷基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；其中m是0、1或2；V81是氮或次甲基，R43是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基、C3-C6卤代环烷基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；并且R44是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基、C3-C6卤代环烷基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；并且其中m是0、1或2；R45是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·埃德蒙兹，M·米尔巴赫，A·斯托勒，O·罗瑟勒尔，A·布驰赫尔兹，O·F·胡特，A·比格特，R·G·豪尔，D·埃默里，P·J·M·容，吕龙，吴亚明，陈瑞芳，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士;CH