A circuit board directly form a system, sequentially comprises a coupling bath is provided with a silane coupling agent in the substrate immersed in the coupling bath, which is formed by a silane bonding layer of silane molecules on the substrate; a patterning device, is used to map the selective case the silane layer, the silane layer formed a circuit pattern, and the surface reaction of the circuit pattern forming a silanol layer; and a metal deposition equipment, so that the silanol precursor layer and a bonding layer forming precursor, and metal deposition in the precursor layer, in order to make the silanol layer is directly formed on the surface of a circuit layer. It can concretely realize the formation circuit on the direct substrate.
【技术实现步骤摘要】
基板的电路直接形成系统
本专利技术涉及一种基板的电路形成系统,且特别是有关于一种基板的电路直接形成系统。
技术介绍
目前,大多数印刷电路板为透过微影蚀刻制程所制造,在一般的加工制程中,使用以玻璃纤维或是环氧树酯组成的复合材料作为基板,接着于基板上覆盖一层铜材质等的金属,利用光阻剂覆盖铜,并利用射线将光罩的图案投影在负光阻剂上,光阻剂未曝光的部份被显像出来,之后,曝光的铜被蚀刻,最后移除剩余的光阻剂而在基板上形成电路。制程过程中会大量使用到光阻剂及金属材料,然而金属材料因蚀刻而被移除,相对的在材料上面造成不必要的浪费。另一种印刷电路板的方法为透过激光进行图案化,将覆盖金属层的基板透过激光的热能,按照预定图案在基板烧蚀部分厚度的基板材料,进而形成电路图案。透过激光方法形成电路可制造出精密的线路及间距,然而在烧蚀过程中,仍会造成基板材料的起泡,或是油墨造成图案的污损,仍有其限制在。
技术实现思路
本专利技术提出一种基板的电路直接形成系统,能够在形成精密电路的同时,还能有效降低成本。本专利技术提供一种基板的电路直接形成系统,依序包括:偶联浴槽、图案化设备以及金属沉积设备。其中该图案化设备中依序包括紫外线曝光设备及臭氧源,该金属沉积设备中依序包括前驱物浴槽及化学电镀浴槽,以及本专利技术的系统在该金属沉积设备之后包含红外线设备。偶联浴槽,设置有硅烷偶联剂,用以在基板浸泡于偶联浴槽中时,使基板上形成由硅烷分子键结的硅烷层。图案化设备,包括紫外线曝光设备,提供紫外线,用以照射硅烷层,以移除硅烷层受该紫外光照射的部分,使未移除部分的硅烷层做为电路图案;以及臭氧源,提供臭氧与电路 ...
【技术保护点】
一种基板的电路直接形成系统,其特征在于,依序包括:一偶联浴槽,设置有硅烷偶联剂,用以在基板浸泡于该偶联浴槽中时,使该基板上形成由硅烷分子键结的一硅烷层;一图案化设备,用以选择性地图案化该硅烷层,使该硅烷层形成一电路图案,并使该电路图案的表面反应形成一硅烷醇层;以及一金属沉积设备,用以让该硅烷醇层与一前驱物键结形成一前驱物层,并于该前驱物层上进行金属沉积,以使该前驱物层表面直接形成一电路层。
【技术特征摘要】
1.一种基板的电路直接形成系统,其特征在于,依序包括:一偶联浴槽,设置有硅烷偶联剂,用以在基板浸泡于该偶联浴槽中时,使该基板上形成由硅烷分子键结的一硅烷层;一图案化设备,用以选择性地图案化该硅烷层,使该硅烷层形成一电路图案,并使该电路图案的表面反应形成一硅烷醇层;以及一金属沉积设备,用以让该硅烷醇层与一前驱物键结形成一前驱物层,并于该前驱物层上进行金属沉积,以使该前驱物层表面直接形成一电路层。2.根据权利要求1所述的基板的电路直接形成系统,其特征在于,该基板是由液晶聚合物、聚邻苯二甲酰胺、聚碳酸酯、聚酰亚胺、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、无覆铜玻璃以及环氧树酯的其中之一的材料构成。3.根据权利要求1所述的基板的电路直接形成系统,其特征在于,该硅烷偶联剂包括甲硅烷。4.根据权利要求3所述的基板的电路直接形成系统,其特征在于,该硅烷偶联剂更包括乙烯基硅烷及氨基硅烷两者中的至少一种。5.根据权利要求1所述的基板的电路直接形成系统,其特征在于,该图案化设备包括一紫外线曝光设备,提供一紫外线,用以照射该硅烷层,以移除该硅烷层受该紫外线照射的部分,使未移除部分的该硅烷层做...
【专利技术属性】
技术研发人员:傅新民,上野山卫,黄品椿,刘玉珍,粱翰妮,张春梵,李清勇,范银娇,刘智仁,李惠洲,许远培,
申请(专利权)人:凯基有限公司,
类型:发明
国别省市:塞舌尔,SC
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