A mask, which comprises a support plate and is arranged on the support plate on the surface of a mask unit, the support plate is provided with a plurality of through holes, a mask every unit completely covers the plurality of through holes, each unit is arranged on the mask through a plurality of openings of each opening is communicated with the mask unit covering the through hole, each mask unit is divided into a central region and a peripheral edge region, wherein the edge area is located in the central area and around the central region; in each mask unit, to the area from the center along the edge direction, the plurality of openings size becomes smaller. The mask for deposition of OLED display panel, can reduce or avoid Shadow Effect.
【技术实现步骤摘要】
用于沉积OLED显示面板的掩膜
本专利技术涉及用于沉积OLED显示面板的一种掩膜。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)显示面板的制备通常包括采用气相沉积的方式在衬底(如薄膜晶体管衬底)上形成有机发光材料层的步骤。而沉积有机发光材料层的步骤需要使用一掩膜,所述掩膜设置在衬底(如薄膜晶体管衬底)上,掩膜上开设有多个通孔,蒸发源蒸发的材料通过掩膜上的通孔沉积到衬底(如薄膜晶体管衬底)上。每一个通孔处沉积的材料对应形成OLED显示面板的一个子像素。通常每个通孔的尺寸设计成与每一个子像素的尺寸相当。然而,最终使用该掩膜沉积形成的子像素常常大于设定的子像素的尺寸。例如,当设定的子像素图案的宽度为x,长度为y,若设置掩膜上的通孔的尺寸与子像素图案的尺寸相同,由于使用掩膜和蒸镀工艺在衬底上形成的子像素图案的过程中形成掩膜与衬底之间存在间隙,使得实际制得的子像素图案的宽度会大于x,长度会大于y;此现象称之为shadoweffect。因此,掩膜对OLED显示面板的生产精度以及性能有重要影响。
技术实现思路
鉴于以上内容,有必要提供一种能够降低shadoweffect的掩膜及其制备方法。一种掩膜,其包括一支撑板及设置于该支撑板一表面上的多个掩膜单元,该支撑板上开设有多个通孔,每一个掩膜单元完全覆盖所述多个通孔中的一个,每一个掩膜单元上开设有贯穿其的多个开口,每一个开口与该掩膜单元覆盖的通孔相连通,每一个掩模单元被划分为一中心区域和一边缘区域,其中该边缘区域位于该中心区域的周边并围绕该中心区域,在每一个掩模单元中,沿着从该边缘区域指向该中心区域的方向,所述多个开口的尺寸逐渐变小。优 ...
【技术保护点】
一种掩膜,其包括一支撑板及设置于该支撑板一表面上的多个掩膜单元,该支撑板上开设有多个通孔,每一个掩膜单元完全覆盖所述多个通孔中的一个,每一个掩膜单元上开设有贯穿其的多个开口,每一个开口与该掩膜单元覆盖的通孔相连通,每一个掩模单元被划分为一中心区域和一边缘区域,其中该边缘区域位于该中心区域的周边并围绕该中心区域,其特征在于:在每一个掩模单元中,沿着从该边缘区域指向该中心区域的方向,所述多个开口的尺寸逐渐变小。
【技术特征摘要】
2016.08.04 US 62/3707291.一种掩膜,其包括一支撑板及设置于该支撑板一表面上的多个掩膜单元,该支撑板上开设有多个通孔,每一个掩膜单元完全覆盖所述多个通孔中的一个,每一个掩膜单元上开设有贯穿其的多个开口,每一个开口与该掩膜单元覆盖的通孔相连通,每一个掩模单元被划分为一中心区域和一边缘区域,其中该边缘区域位于该中心区域的周边并围绕该中心区域,其特征在于:在每一个掩模单元中,沿着从该边缘区域指向该中心区域的方向,所述多个开口的尺寸逐渐变小。2.如权利要求1所述的掩膜,其特征在于:该支撑板的材质为金属或合金。3.如权利要求2所述的掩膜,其特征在于:该支撑板的材质为具有磁性的金属或合金。4.如权利要求1所述的掩膜,其特征在于:每一个掩膜单元的材质为塑料。5.如权利要求1所述的掩膜,其特...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈仁杰,
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司,鸿海精密工业股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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