掩膜板及其制作方法技术

本发明专利技术提出了掩膜板及其制作方法，该掩膜板包括：掩膜板框架，该掩膜板框架为四边形，且掩膜板框架的四个角都设置有对位圆孔。本发明专利技术所提出的掩膜板，其掩膜板框架的变形量最小的四个角上都设置有对位圆孔，所以在制作掩膜板的过程中，以这四个对位圆孔建立的坐标系的位置偏差更小，如此，在该坐标系基础上焊接的遮挡条和支撑条等结构的位置准确率更高，从而可使掩膜板的制作精度和良品率都获得提高，进而有利于后续以该掩膜板蒸镀制作的阵列基板的制作精度和良品率都更高。

Mask and its fabrication method

The invention provides a mask plate and its manufacturing method, the mask includes a mask frame, the mask frame for the quadrilateral, and cover the four corners film plate frame is arranged on the positioning hole. The mask provided by the invention, the mask frame deformation minimum four corners are provided with contraposition hole, so the film plate mask in the production, the position deviation is smaller, to establish the four para circular coordinate system so that welding in the coordinate system on the basis of bar and support structure of the position of higher accuracy, which can make the mask making precision and yield are improved, which is conducive to the follow-up to the mask plate array substrate produced by the steam plating production precision and yield are higher.

【技术实现步骤摘要】
掩膜板及其制作方法
本专利技术涉及显示装置制造
，具体的，本专利技术涉及掩膜板及其制作方法。
技术介绍
目前，OLED(有机发光二极管)显示装置在制造过程中，通常采用高精度金属掩模板(FineMetalMask，缩写FMM)作为蒸镀掩模板，从而将发光材料蒸镀在阵列基板上对应的开口区域。但是，如果掩模板出现精度偏差过大的问题，就会容易导致蒸镀区域偏离造成产品混色不良，尤其是对于高像素密度(PPI)产品，所以，对掩模板(Mask)的制作精度的要就更加严格。其中，FMM的mask在制作过程中，首先需要根据其边框(Frame)上的对位圆孔建立坐标系，然后基于此坐标系再将遮挡条(coversheet)、支撑条(howlingsheet)等调整到设计坐标后进行焊接。而高PPI的OLED产品对coversheet、howlingsheet等的位置精度要求会更高，由于整个张网过程中需要多次建立坐标系进行调整并进行位置精度确认，如果Frame上的对位孔设计不佳，就容易导致基于对位孔建立的坐标系之间偏差较大，甚至出现误差叠加现象，进而影响到整个mask的制作精度，如此最终会造成OLED的蒸镀不良问题。所以，现阶段的掩膜板的设计及其制作方法仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。本专利技术是基于专利技术人的下列发现而完成的：本专利技术人在研究过程中发现，参考图1，现阶段的掩膜板边框100上的对位圆孔110被设计在掩膜板边框100中点位置的两个垂直开孔，然而掩膜板边框100中点位置最容易出现变形的问题。而且，当有光从孔上方射向下照射对位圆孔110时，参考图2，孔的底部总会有反光现象，从而造成孔内、孔边缘及孔周围平面的光线对比度很差，并且孔周围的边框表面上总会有凹凸不平的痕迹也影响色彩对比度，以上原因容易造成图像传感器(CCD)在抓取掩膜板边框上的对位圆孔时总会抓取失败，即便能抓取也会有非常大的精度偏差，也容易出现掩膜板边框无法应用的情况。另外，通过传统方式在掩膜板边框100上形成的对位圆孔110，参考图3，其孔边缘会呈锯齿状，严重的甚至造成对位圆孔的真圆度下降，这都会进一步增大抓取掩膜板的精度偏差。因此，本专利技术的专利技术人经过深入研究，设计并制造出一种掩膜板，其四边形掩膜板框架的对位圆孔分别设置在变形量最小的四个角上，如此可减低以这四个对位圆孔建立的坐标系的偏差，从而可提高遮挡条和支撑条的位置精度，进而有利于提高掩膜板的制作精度和良品率，最终可提高用掩膜板蒸镀出的OLED器件的制作精度和良品率。有鉴于此，本专利技术的一个目的在于提出一种制作精度偏差更低、制作良品率更高或者能使其制造的OLED器件的蒸镀精度更高的掩膜板。在本专利技术的第一方面，本专利技术提出了一种掩膜板。根据本专利技术的实施例，所述掩膜板包括：掩膜板框架，所述掩膜板框架为四边形，且所述掩膜板框架的四个角都设置有对位圆孔。专利技术人意外地发现，本专利技术实施例的掩膜板，其四边形掩膜板框架的变形量最小的四个角上都设置有对位圆孔，所以在制作掩膜板的过程中，以这四个对位圆孔建立的坐标系的位置偏差更小，如此，在该坐标系基础上焊接的遮挡条和支撑条等结构的位置准确率更高，从而可使掩膜板的制作精度和良品率都获得提高，进而有利于后续以该掩膜板蒸镀制作的OLED器件的制作精度和良品率都更高。另外，根据本专利技术上述实施例的掩膜板，还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的实施例，所述掩膜板边框进一步包括：反光层，所述反光层设置在所述对位圆孔的内壁；吸光层，所述吸光层设置在所述反光层的外表面上，且位于所述对位圆孔的底部。根据本专利技术的实施例，所述反光层覆盖所述对位圆孔内壁并延伸至所述对位圆孔的外部。根据本专利技术的实施例，所述反光层由金属材料或金属合金材料形成；其中，所述金属材料选自银、铝、钼、锌和镍，所述金属合金材料选自镁银合金、镁铝合金和钼铝合金。根据本专利技术的实施例，所述反光层的厚度为根据本专利技术的实施例，所述吸光层由吸光材料形成。在本专利技术的第二方面，本专利技术提出了一种制作掩膜板的方法。根据本专利技术的实施例，所述方法包括：提供四边形的掩膜板框架，并在所述掩膜板框架的四个角都形成对位圆孔。专利技术人意外地发现，采用本专利技术实施例的制作方法，在四边形掩膜板框架的变形量最小的四个角上都形成对位圆孔，如此，后续以这四个对位圆孔建立坐标系再焊接遮挡条和支撑条的位置准确度就会更高，从而采用该制作方法可获得制作精度和良品率都更高的掩膜板。另外，根据本专利技术上述实施例的制作方法，还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的实施例，所述方法进一步包括：在所述对位圆孔的内壁形成反光层。根据本专利技术的实施例，所述方法进一步包括：在所述反光层的外表面上形成的吸光层，且所述吸光层位于所述对位圆孔的底部。根据本专利技术的实施例，所述形成吸光层的步骤进一步包括：向所述对位圆孔内注入吸光材料溶液，以便在所述对位圆孔的底部形成吸光层；其中，所述吸光材料溶液包括强疏水剂、分散剂和黑色材料。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是现有技术的以掩膜板边框上对位圆孔位置建立的坐标系的示意图；图2是现有技术的掩膜板边框上左右两个对位圆孔的发光效果的照片；图3是现有技术的掩膜板边框上对位圆孔锯齿状边缘的照片；图4是本专利技术一个实施例的掩膜板边框的结构示意图；图5是本专利技术一个实施例的对位圆孔的剖面结构示意图；图6是本专利技术另一个实施例的对位圆孔的剖面结构示意图；图7是本专利技术另一个实施例的对位圆孔的俯视示意图图8是本专利技术一个实施例的制作掩膜板的方法流程示意图；图9是本专利技术一个实施例的制作方法步骤S300的过程示意图；图10是本专利技术一个实施例的对位圆孔的光照效果的照片。附图标记100掩膜板边框110对位圆孔120反光层130吸光层131吸光材料溶液具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，本
人员会理解，下面实施例旨在用于解释本专利技术，而不应视为对本专利技术的限制。除非特别说明，在下面实施例中没有明确描述具体技术或条件的，本领域技术人员可以按照本领域内的常用的技术或条件或按照产品说明书进行。在本专利技术的一个方面，本专利技术提出了一种掩膜板。参照图4～7，对本专利技术的掩膜板进行详细的描述。根据本专利技术的实施例，该掩膜板包括掩膜板框架100，其中参照图4，掩膜板框架100为四边形且其四个角都设置有对位圆孔110。如此，四个对位圆孔110设置在掩膜板框架100的变形量最小的四个角上，可有效地提高以这四个对位圆孔110建立的坐标系的位置精准度，并且相对于只在掩膜板框架100中点位置上设置的两个对位圆孔110，建立坐标系时四个对位圆孔110可进一步提高坐标系的位置精准度，从而有利于提高掩膜板的制作精度。根据本专利技术的实施例，对位圆孔110的内壁可设置有反光层120。如此，可有效地使对位圆孔110的孔内与孔边缘的反光效果一致，即使对位圆孔100出现打斜情况也不会影响到CCD抓取对位圆孔100的孔口边缘的抓取结果的位置准确性。在本专利技术的一些实施例中，参照图5，反光层120不仅覆盖对位圆孔110的内壁，还可延伸至对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，其特征在于，包括：掩膜板框架，所述掩膜板框架为四边形，且所述掩膜板框架的四个角都设置有对位圆孔。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：掩膜板框架，所述掩膜板框架为四边形，且所述掩膜板框架的四个角都设置有对位圆孔。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板边框进一步包括：反光层，所述反光层设置在所述对位圆孔的内壁；吸光层，所述吸光层设置在所述反光层的外表面上，且位于所述对位圆孔的底部。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述反光层覆盖所述对位圆孔的内壁并延伸至所述对位圆孔的外部。4.根据权利要求2或3所述的掩膜板，其特征在于，所述反光层由金属材料或金属合金材料形成；其中，所述金属材料选自银、铝、钼、锌和镍，所述金属合金材料选自镁银合金、镁铝合金和钼铝合金。5.根据权利要求2或3所述的掩膜板，...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱海彬，王伟杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11