A method for producing a display substrate, a display substrate and a display device are provided. Including the display substrate manufacturing method, an insulating layer is formed on a substrate, a substrate including a display area and a peripheral area; a flat film is formed on the insulating layer; patterning process of flat membrane, forming a first display area in the thickness of the flat layer, the thickness of the flat layer second is formed in the surrounding area, and the first. The thickness of the flat hole is formed in the second layer, second thickness is less than the first thickness; on the surrounding area etching processing, so that the second thickness of the flat layer is thinning or removal, and with the first through hole corresponding to the second holes formed in the insulating layer. The display substrate production method, to reduce the thickness of the flat layer surrounding the area, to connect between the first conductive element and the second conductive elements, and to the second conductive unit is connected with the driving circuit, the contact area is large, small contact resistance, good connectivity.
【技术实现步骤摘要】
显示基板的制作方法、显示基板和显示装置
本公开至少一实施例涉及一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置。
技术介绍
在薄膜晶体管液晶显示器(Thin-Film-TransistorLiquidCrystalDisplay,TFT-LCD)产品中,常采用平坦层(Organiclayer,ORG)平坦膜层和降低负载。
技术实现思路
本公开的至少一实施例涉及一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置,利于减小周边区的平坦层的厚度或去除周边区的平坦层,利于第一导电单元和第二导电单元之间的连接,并利于第二导电单元与驱动电路连接,接触面积大,接触电阻小,连接性好。本公开的至少一实施例提供一种显示基板的制作方法,包括:在衬底基板上形成绝缘层,所述衬底基板包括显示区和周边区;在所述绝缘层上形成平坦膜;对所述平坦膜进行图案化工艺,在所述显示区形成第一厚度的平坦层,在所述周边区形成第二厚度的平坦层,且在所述第二厚度的平坦层中形成第一过孔,所述第二厚度小于所述第一厚度;对所述周边区进行刻蚀处理,以使所述第二厚度的平坦层被减薄或去除,且在所述绝缘层中形成与所述第一过孔对应的第二过孔。本公开的至少一实施例还提供一种显示基板,包括:衬底基板,所述衬底基板包括显示区和周边区;绝缘层,设置在所述衬底基板上;平坦层,设置在所述绝缘层上,所述平坦层包括设置在所述显示区的显示区平坦层和设置在所述周边区的周边区平坦层,所述周边区平坦层的厚度小于所述显示区平坦层的厚度,在所述周边区设有贯穿所述平坦层和所述绝缘层的过孔。本公开的至少一实施例还提供一种显示基板,包括:衬底基板,所述衬底基板包括显示区和周 ...
【技术保护点】
一种显示基板的制作方法,包括:在衬底基板上形成绝缘层,所述衬底基板包括显示区和周边区;在所述绝缘层上形成平坦膜;对所述平坦膜进行图案化工艺,在所述显示区形成第一厚度的平坦层,在所述周边区形成第二厚度的平坦层,且在所述第二厚度的平坦层中形成第一过孔,所述第二厚度小于所述第一厚度;对所述周边区进行刻蚀处理,以使所述第二厚度的平坦层被减薄或去除,且在所述绝缘层中形成与所述第一过孔对应的第二过孔。
【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法,包括:在衬底基板上形成绝缘层,所述衬底基板包括显示区和周边区;在所述绝缘层上形成平坦膜;对所述平坦膜进行图案化工艺,在所述显示区形成第一厚度的平坦层,在所述周边区形成第二厚度的平坦层,且在所述第二厚度的平坦层中形成第一过孔,所述第二厚度小于所述第一厚度;对所述周边区进行刻蚀处理,以使所述第二厚度的平坦层被减薄或去除,且在所述绝缘层中形成与所述第一过孔对应的第二过孔。2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其中,所述第二厚度的平坦层小于或等于所述绝缘层的厚度。3.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其中,在所述衬底基板上形成所述绝缘层之前,还包括在所述周边区形成第一导电单元。4.根据权利要求3所述的显示基板的制作方法,其中,在形成所述第二过孔后,还包括在所述周边区形成第二导电单元,所述第二导电单元通过所述第二过孔与所述第一导电单元电连接。5.根据权利要求4所述的显示基板的制作方法,其中,在减薄时所述第二厚度的平坦层被完全去除,并且,所述绝缘层被去除部分厚度,在余下的所述绝缘层中形成与所述第一过孔对应的第二过孔。6.根据权利要求1-5任一项所述的显示基板的制作方法,其中,所述绝缘层包括钝化层,或者,所述绝缘层包括栅极绝缘层和钝化层,其中,所述栅极绝缘层比所述钝化层更靠近所述衬底基板。7.根据权利要求1-5任一项所述的显示基板的制作方法,其中,所述图案化工艺包括曝光工艺和显影工艺,采用多色调掩模板对所述平坦膜进行曝光。8.根据权利要求1-5任一项所述的显示基板的制作方法,在形成所述平坦膜之前,还包括在所述显示区形成彩色滤光层。...
【专利技术属性】
技术研发人员:王小元,方琰,张逵,许志财,邓鸣,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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