基板处理装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及用液体处理基板的装置及方法。一种基板处理装置，包括：基板支撑单元，其包括用于支撑基板的支撑板；和底部液体供给单元，其用于将液体供给到由支撑板支撑的基板的底部；其中底部液体供给单元包括本体和用于将处理液排出到基板的底部并与本体联接的液体排出喷嘴，且其中所述本体的上表面包括用于将残留在本体中的液体排出的排放孔。因此，可通过所述排放孔将残留在本体内的液体排出。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及方法
技术介绍
本文公开的本专利技术涉及用液体处理基板的装置和方法。在半导体器件的制造工艺中会进行各种工艺，例如光刻、沉积、灰化、蚀刻和离子注入等。此外，在上述工艺之前和之后进行用于清洁残留在基板中的颗粒的清洁工艺。通过将清洁液供给到由旋转头支撑的基板的两侧来进行清洁工艺。通过位于旋转头和基板之间的喷嘴构件采用清洁工艺来处理基板底部。参考图1和图2，喷嘴组件4包括多个喷嘴构件6和本体8。多个喷嘴6与本体8联接并且包括朝上的出口。每个喷嘴彼此相邻地设置，以将液体排出到基板W的中心。从喷嘴排出到基板W的中心的液体通过离心力扩散到基板W的边缘。然而，所排出液体中的一些从基板散落至本体并残留在本体中。特别地，在喷嘴之间的空间中的残留液体不容易排出。随着时间的流逝，残留液体的量变大，而当其变为一定的量时，其突然爆开并附着到基板的底部。这可能引起对基板的干燥误差。此外，残留在本体中且彼此具有不同性质的液体彼此反应并产生会污染基板的烟气。
技术实现思路
本专利技术提供了一种用于去除残留在用于向基板的底部排放液体的喷嘴构件中的液体的装置和方法。本专利技术的实施方式提供用液体处理基板的方法和装置。一种基板处理装置，包括：基板支撑单元，其包括用于支撑基板的支撑板；和底部液体供给单元，其用于将液体供给到由所述支撑板支撑的所述基板的底部；其中所述底部液体供给单元可以包括本体和用于将处理液排出到所述基板的所述底部并与所述本体联接的液体排出喷嘴，且其中在所述本体的上表面处形成有用于将残留在所述本体中的液体排出的排放孔。所述底部液体供给单元还可以包括用于向所述排放孔提供负压的抽吸构件。所述液体排出喷嘴可以设置有多个，并且所述排放孔可以位于两个相邻的液体排出喷嘴之间。此外，所述液体排出喷嘴可以设置有多个，并且所述排放孔可以位于所述本体的中心轴线与所述液体排出喷嘴之间。此外，所述液体排出喷嘴可以设置有多个，并且所述排放孔可以比所述液体排出喷嘴更远离所述本体的中心设置。所述液体排出喷嘴的出口可以高于所述排放孔设置。所述本体可以插入所述支撑板中使得所述本体的上表面可从所述支撑板向上突出，并且所述本体可以独立于所述支撑板设置。可以在所述本体的上表面中形成顶部凹槽，所述液体排出喷嘴可以位于所述顶部凹槽中，并且所述排放孔可以形成在所述顶部凹槽的底部中。所述底部液体供给单元可还包括气体喷嘴，所述气体喷嘴包含用于侧向地和/或倾斜地(向下)排放气体的侧向排出管线并且与所述本体联接，其中所述侧向排出管线可以被设置成贯穿所述气体喷嘴的侧壁。所述气体喷嘴还可以包括顶部排出管线，其用于将气体向上排放到所述基板的底部。所述侧向排出管线可以是从所述顶部排出管线分支出来的。当俯视时，所述气体喷嘴可以比所述液体排出喷嘴更靠近所述本体的中心轴线设置，并且其中所述侧向排出管线沿所述气体喷嘴的外周间隔开地设置有多个。当俯视时，所述液体排出喷嘴可以围绕所述气体喷嘴设置。所述侧向排出管线可以被设置成接近所述本体的上表面的高度，并且可以被设置成沿与所述本体的上表面平行的方向注射气体。此外，所述侧向排出管线可以被设置成具有下降斜坡，以使气体从所述本体的上侧排出到所述气体喷嘴和所述排放孔之间的间隙。此外，一种基板处理装置，包括：基板支撑单元，其包括用于支撑基板的支撑板；和底部液体供给单元，其用于将液体供给到由所述支撑板支撑的所述基板的底部；其中所述底部液体供给单元还包括本体、用于将处理液排出到所述基板的底部并且与所述本体联接的液体排出喷嘴、以及包含排出气体的侧向排出管线且与所述本体联接的气体喷嘴，且其中所述侧向排出管线被设置成贯穿所述气体喷嘴的侧壁。当俯视时，所述气体喷嘴可以比所述液体排出喷嘴更靠近所述本体的中心轴线设置，并且其中所述侧向排出管线沿所述气体喷嘴的外周间隔开地设置有多个。可以在所述本体的上表面中形成用于将残留在所述本体处的液体排出的排放孔。所述底部液体供给单元还可以包括用于向所述排放孔提供负压的抽吸构件。所述液体排出喷嘴可以设置有多个，并且所述排放孔可以位于两个相邻的液体排出喷嘴之间。此外，所述液体排出喷嘴可以设置有多个，并且所述排放孔可以位于所述气体喷嘴和所述液体排出喷嘴之间。此外，所述液体排出喷嘴可以设置有多个，并且所述排放孔可以比所述液体排出喷嘴更远离所述气体喷嘴设置。通过使用所述基板处理装置来处理基板的方法包括将液体排放到所述基板的底部并从所述气体喷嘴排出气体以去除主体中的残留液体。从所述气体喷嘴排出气体可以包括从所述气体喷嘴排出气体以吹除残留的液体并将残留的液体排出到排放孔。残留的液体可以通过设置在所述排放孔中的负压被吸入。根据本专利技术的实施方式，在设置到支撑板从而支撑用于清洁基板的底部的喷嘴的本体中形成有排放孔，从而可以将残留在本体中的液体通过排放孔排出。此外，根据本专利技术的实施方式，可以通过使气体从在本体中支撑的气体喷嘴排放到本体的上表面来去除残留在本体中的液体。附图说明图1是传统清洁部件的横截面图。图2是图1的清洁部件的立体图。图3是根据本专利技术的实施方式的基板处理装置的平面图。图4是图3的基板处理装置的横截面图。图5是图4的底部液体供给单元的横截面图。图6是图5的底部液体供给单元的平面图。图7和图8示出了通过从侧向排出管线排出的气体除去残留在图5的本体中的液体的工艺。图9和图10示出了通过从排放孔排出的气体去除残留在图5的本体中的液体的工艺。图11是图5的本体的另一实施方式的横截面图。图12是图6的排放孔的另一实施方式的平面图。图13是图6的排放孔的其它实施方式的平面图。具体实施方式在下文中将参考附图更全面地描述各种示例性实施方式，在附图中示出了一些示例实施方式。然而，本专利技术可以以不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文所阐述的实施方式。而是，这些实施方式被提供以使得本公开将是彻底和完全的，并且将向本领域技术人员充分地传达本专利技术的范围。因此，夸大附图的特征以突出明确的解释。在下文中，参照图3至图13详细说明本专利技术的实施方式。图3是根据本专利技术的实施方式的基板处理装置的平面图。参考图3，基板处理装置1包括转位模块10和工艺处理模块20。转位模块10包括装载端口120和传送框架140。装载端口120、传送框架140和工艺处理模块20依次成行布置。在下文中，将装载端口120、传送框架140和工艺处理模块20布置的方向称为第一方向12。且当俯视时，将与第一方向12垂直的方向称为第二方向14，并将与包括第一方向12和第二方向14的平面垂直的方向称为第三方向16。存放基板W的载具130位于装载端口120上。装载端口120设置有多个，并且它们沿第二方向14成行布置。装载端口120的数量可以根据例如工艺效率和工艺处理模块20的占空的要求而增加或减少。在载具130中提供有多个槽(未示出)以支撑基板W的边缘。作为载具130，可以使用正面开口标准箱(FOUP)。工艺处理模块20包括缓冲单元220、传送单元240和处理室260。传送单元240被设置成使得其纵向方向与第一方向12平行。处理室260沿第二方向14设置在传送单元240的一侧和另一侧。放置在传送单元240的一侧和另一侧的处理室260基于传送单元240彼此对称地设置。处理室260中的一些沿传送单元240的纵向方向设置。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，包括：基板支撑单元，其包括用于支撑基板的支撑板；和底部液体供给单元，其用于将液体供给到由所述支撑板支撑的所述基板的底部；其中所述底部液体供给单元包括本体和与所述本体联接并用于将处理液排出到所述基板的所述底部的液体排出喷嘴，其中在所述本体中形成用于将残留在所述本体中的液体排出的排放孔。

【技术特征摘要】
2015.11.30 KR 10-2015-01693371.一种基板处理装置，包括：基板支撑单元，其包括用于支撑基板的支撑板；和底部液体供给单元，其用于将液体供给到由所述支撑板支撑的所述基板的底部；其中所述底部液体供给单元包括本体和与所述本体联接并用于将处理液排出到所述基板的所述底部的液体排出喷嘴，其中在所述本体中形成用于将残留在所述本体中的液体排出的排放孔。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述底部液体供给单元还包括用于向所述排放孔提供负压的抽吸构件。3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述液体排出喷嘴设置有多个，并且所述排放孔位于两个相邻的液体排出喷嘴之间。4.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述液体排出喷嘴设置有多个，并且所述排放孔位于所述本体的中心轴线与所述液体排出喷嘴之间。5.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述液体排出喷嘴设置有多个，并且所述排放孔比所述液体排出喷嘴更远离所述本体的中心设置。6.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述液体排出喷嘴的出口高于所述排放孔设置。7.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述本体插入所述支撑板中使得所述本体的上侧从所述支撑板向上突出，并且所述本体独立于所述支撑板设置。8.根据权利要求1或2所述的装置，其中在所述本体的上侧中形成顶部凹槽，其中所述液体排出喷嘴位于所述顶部凹槽中，并且所述排放孔形成在所述顶部凹槽的底部中。9.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述底部液体供给单元还包括气体喷嘴，所述气体喷嘴包含用于侧向地和/或倾斜地排放气体的侧向排出管线并且与所述本体联接，并且其中所述侧向排出管线被设置成贯穿所述气体喷嘴的侧壁。10.根据权利要求9所述的设备，其中所述气体喷嘴还包括顶部排出管线，其用于将气体向上排放到所述基板的底部。11.根据权利要求10所述的装置，其中所述侧向排出管线是从所述顶部排出管线分支出来的。12.根据权利要求11所述的装置，其中当俯视时所述气体喷嘴比所述液体排出喷嘴更靠近所述本体的中心轴线设置，并且其中所述侧向排出管线沿所述气体喷嘴的外周间隔开地设置有多个。13.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：金载容，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR