The invention relates to a coarse low-energy ion beam method for broadband uniformity, which comprises the following steps: download menu data, detect and set the pattern of energy; initialize all parameters, adjusting the ion source, leads and focusing parameters, ensure the maximum beam setcup cup setcup cup; back, step by step Faraday array measuring beam ends cup beam, parallel lens current regulation, to ensure the broadband beam in the central Faraday Faraday array; real-time detection array uniformity, regulation of ion source, extraction, horizontal and vertical focusing parameters; adjusting the local magnetic field or electric field control unit, mobile Faraday measurement of beam profile, iteratively until the standards. Because of the invention through the real-time detection of Faraday array uniformity to adjust to the target and the beam uniformity in Faraday array uniformity after reaching the target before the implementation of mobile Faraday measurement can improve the broadband beam profile, so the ion beam to the target uniform regulatory efficiency, and improve the reliability.
【技术实现步骤摘要】
一种粗调低能宽带离子束均匀性的方法
本专利技术涉及一种半导体器件制造控制系统,尤其涉及一种粗调低能宽带离子束均匀性的方法。
技术介绍
现有半导体集成电路制造技术中,随着半导体集成电路技术的发展,且随着特质线宽的缩小,电路中单元器件尺寸越来越小,工艺复杂程度的提高,对各半导体工艺设备提出了更高的要求。离子注入机作为半导体离子掺杂工艺线的关键设备之一。束流的均匀性和整机可靠性对于离子注入系统愈发重要,已成为器件成败与否的关键。在宽带离子注入机引出束流能量很低、束流很大时,由于空间电荷效应的影响,离子束发散严重,导致到靶束剖面均匀性较差。而低能宽带离子束从离子源产生离子,引出电极引出离子、分析器筛选离子,以及水平和垂直聚焦透镜聚焦离子过程中,离子源、引出电极、分析器、水平及垂直聚焦透镜参数对到靶束流剖面均匀性的影响覆盖整个束剖面,导致宽带离子束到靶均匀性调节更加困难。但在目前大部分宽带离子注入系统中,到靶均匀性调节,从离子源、引出电极、水平及垂直聚焦透镜和减速器参数是否调节到位,全部通过终端移动法拉第采集束流水平剖面数据来获得,导致低能时宽带离子束到靶均匀性调节时间很长,导致低能宽带离子束到靶均匀性调节效率低;同时移动法拉第频繁运动,降低了移动法拉第使用寿命,从而影响到整机可靠性。因此低能宽带离子注入机迫切需要一种速度快、成功率高、能满足工艺可靠性要求的粗调均匀性的方法。
技术实现思路
针对上述情况,本专利技术介绍了一种粗调低能宽带离子束均匀性的方法。本专利通过以下技术方案实现:一种粗调低能宽带离子束均匀性的方法,包括以下步骤:(a)下载菜单数据,检测和设置能量模式 ...
【技术保护点】
一种粗调低能宽带离子束均匀性的方法,包括以下步骤:(a)下载菜单数据,检测和设置能量模式;(b)初始化所有调节参数,调节离子源、引出及聚焦参数确保setcup杯束流最大;(c)收回setcup杯,通过逐级比较法拉第阵列两端测束杯束流,调节平行透镜电流,确保宽带束在法拉第阵列中央;(d)实时检测法拉第阵列均匀性,调节离子源、引出、水平及垂直聚焦参数;(e)调节局部磁场或电场调节单元,移动法拉第测量束剖面,反复迭代直至达标。
【技术特征摘要】
1.一种粗调低能宽带离子束均匀性的方法,包括以下步骤:(a)下载菜单数据,检测和设置能量模式;(b)初始化所有调节参数,调节离子源、引出及聚焦参数确保setcup杯束流最大;(c)收回setcup杯,通过逐级比较法拉第阵列两端测束杯束流,调节平行透镜电流,确保宽带束在法拉第阵列中央;(...
【专利技术属性】
技术研发人员:彭彬,
申请(专利权)人:北京中科信电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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