导电性组合物、抗静电膜、层叠体及其制造方法以及光掩膜的制造方法技术

本发明专利技术的导电性组合物含有：具有磺酸基和/或羧基的导电性聚合物(a)、具有至少一个含氮杂环和氨基的碱性化合物(b)、具有羟基的水溶性聚合物(c)(其中，不包括所述导电性聚合物(a))、亲水性有机溶剂(d)、水(e)。

Conductive composition, antistatic film, laminate and method of manufacturing the same, and method for manufacturing photomask

A conductive composition comprises: a conductive polymer having sulfonic acid and / or carboxyl (a), with at least one heterocyclic nitrogen and amino compounds (b), a water-soluble polymer having a hydroxyl group (c) (which does not include the conductive polymer (a)), hydrophilic organic solvent (d), water (e).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及导电性组合物、抗静电膜、层叠体及其制造方法以及光掩膜的制造方法。本申请基于2014年5月14日在日本申请的日本专利特愿2014-100686号主张优先权，并在本文中援引其内容。
技术介绍
具有磺酸基或羧基等酸性基团的水溶性导电性聚合物由于其酸性基团的亲水性作用而在水或有机溶剂中表现出优异的溶解性，因此人们对其各种合成方法进行了研究。例如，提出了不添加掺杂剂即可表现出导电性的自掺杂性酸性基团取代的聚苯胺。作为其合成方法，提出了在碱性反应助剂的存在下，通过氧化剂使磺酸基取代苯胺或羧基取代苯胺等酸性基团取代的苯胺进行聚合的方法。此外，对具备以具有酸性基团的水溶性导电性聚合物作为主成分的抗静电膜等导电性聚合物膜的导电体及其制造方法进行了多起报道(例如，参考专利文献1)。然而，由于具有酸性基团的水溶性导电性聚合物对水具有溶解性，因此由其形成的抗静电膜等导电性聚合物膜的耐水性不充分。因此，具备上述抗静电膜的导电体在用途上有限制，不适用于需要耐水性的用途。为赋予抗静电膜耐水性，也提出了在具有酸性基团的水溶性导电性聚合物中混合高分子化合物的方法，但并非总能满足所需要的耐水性。作为解决有关耐水性课题的方法，提出了一种导电性组合物，其含有：具有磺酸基和/或羧酸基的水溶性导电性聚合物和具有至少2个能够与水溶性导电性聚合物的磺酸基和/或羧酸基反应的官能团的化合物(也称为交联性化合物)(例如，参考专利文献2)。依照该导电性组合物，通过将添加有聚乙烯醇等交联性化合物的组合物在100℃以上进行加热，可以形成表现出耐水性、耐丙酮性的导电体。此外，提出了通过将具有磺酸基和/或羧酸基的水溶性导电性聚合物在150℃以上的高温下进行加热，使其不溶化的方法(例如，参考专利文献3)。此外，提出了一种导电性组合物，其除了含有具有磺酸基和/或羧酸基的水溶性导电性聚合物以及具有至少2个能够与水溶性导电性聚合物的磺酸基和/或羧酸基反应的官能团的化合物之外，还含有增稠剂、溶解或分散水溶性导电性聚合物的有机溶剂、水(例如，参考专利文献4)。依照该导电性组合物，可形成不易产生基材上的流挂、干燥性优异的导电性组合物层。进一步地，通过混合表面活性剂，可形成提高基材上的涂布性、防止基材上的覆盖不匀(crawling)的导电体。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特开平7-196791号公报专利文献2：国际公开第97/07167号单行本专利文献3：日本专利特开2001-98069号公报专利文献4：日本专利特开2003-213148号公报
技术实现思路
专利技术所解决的课题以专利文献1～4中记载的水溶性导电性聚合物作为主成分的抗静电膜等导电性聚合物膜相对特定溶剂的耐性或相对特定基材的附着性优异。然而，这些抗静电膜在用作抗蚀剂层的下层膜时所要求的相对碱性溶液的耐性、相对电子领域等中广泛使用的玻璃基材或钽基材等基材的附着性方面，则并非总能满足需要。本专利技术为鉴于上述事项完成，目的为提供一种导电性组合物，其可形成具有优异的相对水和碱性溶液等溶剂的耐性以及相对玻璃基材和钽基材等基材的附着性的抗静电膜，并提供由所述导电性组合物形成的抗静电膜、具备所述抗静电膜的层叠体及其制造方法以及光掩膜的制造方法。解决课题的手段本专利技术具有以下的实施方式。[1]一种导电性组合物，其含有：具有磺酸基和/或羧基的导电性聚合物(a)、具有至少一个含氮杂环并具有氨基的碱性化合物(b)、具有羟基的水溶性聚合物(c)(其中，不包括所述导电性聚合物(a))、亲水性有机溶剂(d)、水(e)。[2]根据[1]所述的导电性组合物，其中，所述碱性化合物(b)具有共轭结构。[3]根据[1]或[2]所述的导电性组合物，其中，所述含氮杂环为吡啶环。[4]根据[1]～[3]中任意一项所述的导电性组合物，其中，所述水溶性聚合物(c)为聚乙烯醇。[5]根据[4]所述的导电性组合物，其中，所述聚乙烯醇的皂化度为85％以上。[6]根据[1]～[5]中任意一项所述的导电性组合物，其中，所述亲水性有机溶剂(d)为碳原子数1～3的一元醇。[7]根据[1]～[6]中任意一项所述的导电性组合物，其中，相对于所述导电性组合物的总质量，所述亲水性有机溶剂(d)的含量为1～15质量％。[8]根据[1]～[7]中任意一项所述的导电性组合物，其中，所述导电性聚合物(a)具有下述通式(1)所表示的单元。[化1]式(1)中，R1～R4各自独立地为氢原子、碳原子数1～24的直链或者支链的烷基、碳原子数1～24的直链或者支链的烷氧基、酸性基团、羟基、硝基或卤素原子，R1～R4中的至少一个为酸性基团，所述酸性基团为磺酸基或羧基。[9]一种抗静电膜，其为由[1]～[8]中任意一项所述的导电性组合物形成的抗静电膜，其在350～900nm的紫外-可见吸收光谱中，在450～500nm的波长区域具有吸收的最大值。[10]一种层叠体，其为具备基材、在所述基材的至少一个面上由[1]～[8]中任意一项所述的导电性组合物形成的抗静电膜的层叠体，所述抗静电膜在350～900nm的紫外-可见吸收光谱中，在450～500nm的波长区域具有吸收的最大值。[11]根据[10]所述的层叠体，其进一步在所述抗静电膜上具备抗蚀剂层。[12]根据[11]所述的层叠体，其进一步在所述抗蚀剂层上具备导电性层。[13]根据[10]～[12]中任意一项所述的层叠体，其中，所述抗静电膜侧最表层的表面粗糙度(Ra)为1.5nm以下。[14]一种层叠体的制造方法，其包括在基材的至少一个面上涂布或含浸[1]～[8]中任意一项所述的导电性组合物之后，在80℃以上进行加热处理，形成抗静电膜的工序。[15]根据[14]所述的制造方法，其进一步包括在所述抗静电膜上形成抗蚀剂层的工序。[16]根据[15]所述的制造方法，其进一步包括在所述抗蚀剂层上形成导电性层的工序。[17]一种光掩膜的制造方法，其包括：在基材的至少一个面上涂布或含浸权[1]～[8]中任意一项所述的导电性组合物之后，在80℃以上进行加热处理，形成抗静电膜的工序；在抗静电膜上形成抗蚀剂层的工序；对抗蚀剂层的表面照射电离辐射线，进行图案绘制的工序；绘制图案后，对抗蚀剂层进行显影，形成抗蚀图案的工序；以所述抗蚀图案作为掩模，对抗静电膜进行蚀刻的工序；蚀刻后，除去基材上残留的抗蚀图案的工序。[18]一种光掩膜的制造方法，其包括：在基材的至少一个面上涂布或含浸[1]～[8]中任意一项所述的导电性组合物之后，在80℃以上进行加热处理，形成抗静电膜的工序；在抗静电膜上形成抗蚀剂层的工序；在抗蚀剂层上形成导电性层的工序；从导电性层侧对抗蚀剂层的表面照射电离辐射线，进行图案绘制的工序；绘制图案后，除去导电性层，对抗蚀剂层进行显影，形成抗蚀图案的工序；以所述抗蚀图案作为掩模，对抗静电膜进行蚀刻的工序；蚀刻后，除去基材上残留的抗蚀图案的工序。[19]根据[17]或[18]所述的制造方法，其中，所述基材在所述基材与所述抗静电膜的界面侧具有遮光层，所述进行蚀刻的工序中进一步包括蚀刻遮光层的工序。专利技术效果依照本专利技术，可提供一种导电性组合物，其可形成相对水和碱性溶液等溶剂的耐性以及相对玻璃基材或钽基材等基材的附着性优异的抗静电膜，并提供由所述导电性组合本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导电性组合物，其特征在于，其含有：具有磺酸基和/或羧基的导电性聚合物(a)、具有至少一个含氮杂环并具有氨基的碱性化合物(b)、具有羟基的水溶性聚合物(c)、亲水性有机溶剂(d)、水(e)，其中，所述具有羟基的水溶性聚合物(c)不包括所述导电性聚合物(a)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.14 JP 2014-1006861.一种导电性组合物，其特征在于，其含有：具有磺酸基和/或羧基的导电性聚合物(a)、具有至少一个含氮杂环并具有氨基的碱性化合物(b)、具有羟基的水溶性聚合物(c)、亲水性有机溶剂(d)、水(e)，其中，所述具有羟基的水溶性聚合物(c)不包括所述导电性聚合物(a)。2.根据权利要求1所述的导电性组合物，其中，所述碱性化合物(b)具有共轭结构。3.根据权利要求1或2所述的导电性组合物，其中，所述含氮杂环为吡啶环。4.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性组合物，其中，所述水溶性聚合物(c)为聚乙烯醇。5.根据权利要求4所述的导电性组合物，其中，所述聚乙烯醇的皂化度为85％以上。6.根据权利要求1～5中任意一项所述的导电性组合物，其中，所述亲水性有机溶剂(d)为碳原子数1～3的一元醇。7.根据权利要求1～6中任意一项所述的导电性组合物，其中，相对于所述导电性组合物的总质量，所述亲水性有机溶剂(d)的含量为1～15质量％。8.根据权利要求1～7中任意一项所述的导电性组合物，其中，所述导电性聚合物(a)具有下述通式(1)所表示的单元，[化1]式(1)中，R1～R4各自独立地为氢原子、碳原子数1～24的直链或者含支链的烷基、碳原子数1～24的直链或者含支链的烷氧基、酸性基团、羟基、硝基或卤素原子，R1～R4中的至少一个为酸性基团，所述酸性基团为磺酸基或羧基。9.一种抗静电膜，其为由权利要求1～8中任意一项所述的导电性组合物形成的抗静电膜，其特征在于，所述抗静电膜在350～900nm的紫外-可见吸收光谱中，在450～500nm的波长区域具有吸收的最大值。10.一种层叠体，其为具备基材和在所述基材的至少一个面上由权利要求1～8中任意一项所述的导电性组合物形成的抗静电膜的层叠体，其特征在于，所述抗静电膜在350～900nm的紫外-可见吸收光谱中...

【专利技术属性】
技术研发人员：山嵜明，鹈泽正志，福田纮也，
申请(专利权)人：三菱丽阳株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP