【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微加工领域,具体涉及一种纳米印章的制备工艺。
技术介绍
传统的电子束加工纳米压印印章,刻蚀时去除速率慢,样品会受到一定程度的损伤,同时产率低,制备出来的产品不理想。
技术实现思路
专利技术目的:本专利技术的目的是为了解决现有技术中的不足,提供一种纳米印章的制备工艺,具有工艺简单,效率高,能对母板上的图案进行高保真复制的优点。技术方案:一种纳米印章的制备工艺,包括以下步骤:(1)对母板进行表面处理:将母板放入丙酮中,在超声池中振动4-6min,将母板取出,放入乙醇中,在超声池中再振动4-6min,将母板取出,最后放入去离子水中,在超声池中再振动2-4min,取出母板;(2)在母板上进行聚二甲基硅氧烷复合片的制备:在母板上刷上脱模剂,待脱模剂成膜后,将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3-6min,脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20-26h;聚二甲基硅氧烷与固化剂按8-12:1的质量比混合,搅拌均匀,在真空条件下脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在聚二甲基硅氧烷纳米片上形成聚二甲基硅氧烷预聚体,固化40-45h;将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3-6min,脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,在聚二甲基硅氧烷片上再次形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20-26h,形成聚二甲基硅氧烷复合片;(3)聚二甲 ...
【技术保护点】
一种纳米印章的制备工艺,其特征在于:包括以下步骤:(1)对母板进行表面处理:将母板放入丙酮中,在超声池中振动4‑6min,将母板取出,放入乙醇中,在超声池中再振动4‑6min,将母板取出,最后放入去离子水中,在超声池中再振动2‑4min,取出母板;(2)在母板上进行聚二甲基硅氧烷复合片的制备:在母板上刷上脱模剂,待脱模剂成膜后,将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3‑6min,脱气25‑35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20‑26h;聚二甲基硅氧烷与固化剂按8‑12:1的质量比混合,搅拌均匀,在真空条件下脱气25‑35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在聚二甲基硅氧烷纳米片上形成聚二甲基硅氧烷预聚体,固化40‑45h;将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3‑6min,脱气25‑35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,在聚二甲基硅氧烷片上再次形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20‑26 ...
【技术特征摘要】
1.一种纳米印章的制备工艺,其特征在于:包括以下步骤:(1)对母板进行表面处理:将母板放入丙酮中,在超声池中振动4-6min,将母板取出,放入乙醇中,在超声池中再振动4-6min,将母板取出,最后放入去离子水中,在超声池中再振动2-4min,取出母板;(2)在母板上进行聚二甲基硅氧烷复合片的制备:在母板上刷上脱模剂,待脱模剂成膜后,将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3-6min,脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20-26h;聚二甲基硅氧烷与固化剂按8-12:1的质量比混合,搅拌均匀,在真空条件下脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转...
【专利技术属性】
技术研发人员:王晶,
申请(专利权)人:无锡英普林纳米科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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