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一种纳米印章的制备工艺制造技术
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下载一种纳米印章的制备工艺的技术资料
文档序号:14281874
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本发明公开了一种纳米印章的制备工艺,包括以下步骤:(1)对母板进行表面处理;(2)在母板上进行聚二甲基硅氧烷复合片的制备;(3)聚二甲基硅氧烷复合片的脱模。本发明具有工艺简单,效率高,能对母板上的图案进行高保真复制的优点。...
该专利属于无锡英普林纳米科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡英普林纳米科技有限公司授权不得商用。
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