低压纳米氧化锌薄膜压敏电阻的制备工艺制造技术

技术编号:13955939 阅读:122 留言:0更新日期:2016-11-02 13:00
本发明专利技术涉及低压纳米氧化锌薄膜压敏电阻的制备工艺,具体步骤为:1)先在ZnO溶胶中,掺杂铋离子Bi3+、锑离子Sb3+、锰离子Mn2+、铬离子Cr3+和钴离子Co3+,升温混合搅拌,加入锆球和无水乙醇,行星式球磨6~8小时;2)然后在60℃~80℃环境下干燥,直至完全烘干,即得到ZnO纳米粉体;3)将步骤2)中烘干的粉体用研钵碾碎,加入质量浓度为5%的聚乙烯醇水溶液,造粒,然后在80℃~100℃烘箱中烘焙,得造粒粉料;4)将步骤3)所得粉料压制成重量为0.98~1.05g的生坯体,再进行烧结;5)将烧结好的瓷片印银、还原、焊接、包封。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及低压纳米氧化锌薄膜压敏电阻的制备工艺
技术介绍
压敏电阻是一种限压型保护器件,具有大电流处理和能量吸收能力,在保护电力设备安全、保障电子设备正常稳定工作方面起着重要作用,广泛应用于航空、航天、电力、邮电、铁路、汽车、家用电器等领域。目前,制备ZnO陶瓷薄膜压敏电阻中,所使用的薄膜膜厚一般为数十至数百nm,因膜厚过小,压敏性能及其稳定性就比较差,使得压敏电阻很难达到实际应用要求。要使其性能优化需增大膜厚,而膜厚增大容易出现裂纹,使薄膜性能降低。
技术实现思路
为了解决现有技术的不足,本专利技术提供了低压纳米氧化锌薄膜压敏电阻的制备工艺,具体技术方案如下:低压纳米氧化锌薄膜压敏电阻的制备工艺,具体步骤为:1)先在ZnO溶胶中,掺入铋离子Bi3+、锑离子Sb3+、锰离子Mn2+、铬离子Cr3+和钴离子Co3+,升温混合搅拌,加入锆球和无水乙醇,行星式球磨6~8小时;2)然后在60~80℃环境下干燥,直至完全烘干,即得到ZnO纳米粉体;3)将步骤2)中烘干的粉体用研钵碾碎,加入质量浓度为5%的聚乙烯醇水溶液,造粒,然后在80~100℃烘箱中烘焙,得造粒粉料;4)将步骤3)所得粉料压制成重量为0.98~1.05g的生坯体,再进行烧结;5)将烧结好的瓷片印银、还原、焊接、包封。所述步骤1)中锆球、无水乙醇的重量比为1:3~5:1。所述步骤2)中ZnO纳米粉体粒径在30nm~70nm之间。所述步骤3)中聚乙烯醇水溶液的重量占烘干粉体总重量的20~30%。所述步骤3)中造粒粉料的含水率为0.45~0.55%。所述步骤4)中烧结温度为1200~1300℃。本专利技术优点在于:本专利技术工艺简单、成本低,专利技术产品具有优良电性能,老化性能好,耐组合波能力强,能量密度大,绿色环保,并能够实现大批量生产。具体实施方式结合具体实施例对本
技术实现思路
作进一步说明。实施例1:1)先在10molZnO溶胶中,掺入8mol铋离子Bi3+、5mol锑离子Sb3+、4mol锰离子Mn2+、6mol铬离子2molCr3+和1mol钴离子Co3+,升温混合搅拌,加入0.5mol锆球和10ml无水乙醇,行星式球磨6小时;2)然后在60℃环境下干燥,直至完全烘干,即得到ZnO纳米粉体;3)将步骤2)中烘干的粉体用研钵碾碎,加入质量浓度为5%的聚乙烯醇水溶液,造粒,然后在80℃烘箱中烘焙,得造粒粉料;4)将步骤3)所得粉料压制成生坯体,再进行烧结;5)将烧结好的瓷片印银、还原、焊接、包封。实施例2:1)先在15molZnO溶胶中,掺入10mol铋离子Bi3+、8mol锑离子Sb3+、6mol锰离子Mn2+、9mol铬离子4molCr3+和2mol钴离子Co3+,升温混合搅
拌,加入1mol锆球和10ml无水乙醇,行星式球磨8小时;2)然后在80℃环境下干燥,直至完全烘干,即得到ZnO纳米粉体;3)将步骤2)中烘干的粉体用研钵碾碎,加入质量浓度为5%的聚乙烯醇水溶液,造粒,然后在100℃烘箱中烘焙,得造粒粉料;4)将步骤3)所得粉料压制成生坯体,再进行烧结;5)将烧结好的瓷片印银、还原、焊接、包封。同现有技术相比,本专利技术工艺简单、成本低,专利技术产品具有优良电性能,老化性能好,耐组合波能力强,能量密度大,绿色环保,并能够实现大批量生产。本文档来自技高网
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【技术保护点】
低压纳米氧化锌薄膜压敏电阻的制备工艺,其特征在于,具体步骤为:1)先在ZnO溶胶中,掺入铋离子Bi3+、锑离子Sb3+、锰离子Mn2+、铬离子Cr3+和钴离子Co3+,升温混合搅拌,加入锆球和无水乙醇,行星式球磨6~8小时;2)然后在60~80℃环境下干燥,直至完全烘干,即得到ZnO纳米粉体;3)将步骤2)中烘干的粉体用研钵碾碎,加入质量浓度为5%的聚乙烯醇水溶液,造粒,然后在80~100℃烘箱中烘焙,得造粒粉料;4)将步骤3)所得粉料压制成重量为0.98~1.05g的生坯体,再进行烧结;5)将烧结好的瓷片印银、还原、焊接、包封。

【技术特征摘要】
1.低压纳米氧化锌薄膜压敏电阻的制备工艺,其特征在于,具体步骤为:1)先在ZnO溶胶中,掺入铋离子Bi3+、锑离子Sb3+、锰离子Mn2+、铬离子Cr3+和钴离子Co3+,升温混合搅拌,加入锆球和无水乙醇,行星式球磨6~8小时;2)然后在60~80℃环境下干燥,直至完全烘干,即得到ZnO纳米粉体;3)将步骤2)中烘干的粉体用研钵碾碎,加入质量浓度为5%的聚乙烯醇水溶液,造粒,然后在80~100℃烘箱中烘焙,得造粒粉料;4)将步骤3)所得粉料压制成重量为0.98~1.05g的生坯体,再进行烧结;5)将烧结好的瓷片印银、还原、焊接、包封。2.根据权利要求1所述的低压纳米氧化锌薄膜压敏电阻的...

【专利技术属性】
技术研发人员:闫宁
申请(专利权)人:西安立伟电子科技有限责任公司
类型:发明
国别省市:陕西;61

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