PSVA液晶面板的制作方法技术

本发明专利技术提供一种PSVA液晶面板的制作方法，形成配向膜的材料包含聚酰亚胺类聚合物，该聚酰亚胺类聚合物的分子包括聚酰亚胺主链及侧链的可聚合的反应型基团，通过一次紫外光照射使配向膜内聚酰亚胺类聚合物侧链上的反应型基团发生聚合反应即可实现对液晶分子的配向，相较于现有的PSVA液晶面板的制作方法，通过聚合使液晶分子产生预倾角的反应型单体，作为侧链基团直接接枝于配向膜的主体材料上形成聚酰亚胺类聚合物上的反应型基团，而非混合于液晶材料中，液晶层中无游离的反应型单体，因此无需进行第二紫外光照射制程以消除混杂于液晶层中的反应型单体，同时避免了液晶面板的滴落Mura、碎亮点等问题，从而降低了生产成本，提高了液晶面板品质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示领域，尤其涉及一种PSVA液晶面板的制作方法。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)由于色彩度高、体积小、功耗低等优势，在目前平板显示领域中占主流位置。就目前主流市场上的TFT-LCD显示面板而言，可分为三种类型，分别是扭曲向列(TwistedNematic，TN)或超扭曲向列(SuperTwistedNematic，STN)型，平面转换(In-PlaneSwitching，IPS)型、及垂直配向(VerticalAlignment，VA)型。其中VA型液晶显示器相对其他种类的液晶显示器具有极高的对比度，在大尺寸显示，如电视等方面具有非常广的应用。其中，聚合物稳定垂直配向(PolymerStabilized-VerticalAlignment，PSVA)技术能够使液晶显示面板具有较快的响应时间、穿透率高等优点，其特点是在配向膜表面形成聚合物突起，从而使液晶分子具有预倾角。传统的PSVA面板的制作过程大致包括如下步骤：步骤1、提供上基板100和下基板200，在上基板100和下基板200上设置PI(聚酰亚胺)配向膜300；步骤2、在上基板100或下基板200侧滴入液晶组合物，该液晶组合物包含液晶材料410、和混合于液晶材料410中的反应型单体(Reactivemonomer，RM)420，然后将上基板100和下基板200对组，形成上基板100和下基板200之间的液晶层400，得到液晶盒；步骤3、如图1所示，对液晶盒进行第一次紫外光(UV)照射，并对上基板100和下基板200施加一定的电压，通过照射UV光的方式使液晶组合物中的反应型单体420发生反应，在上基板100和下基板200上形成聚合物突起，从而使液晶材料410形成预倾角，这一制程称为紫外光配向；步骤4、如图2所示，对液晶盒进行第二次紫外光(UV)照射，因为在第一次紫外光照射中反应型单体420是没办法反应完全的，还有一些残留在液晶材料410里，为了除去这部分反应型单体420，通过第二次紫外光照射制程，用比较弱的UV光使反应型单体420反应完全。从而如图3所示，经过两次UV光照射制程后，完成了紫外光配向并使液晶层400内无残留的反应型单体420。然而在实际生产中，第二紫外光配向制程的时间很长，一般在两个小时左右，因此耗能较高。另外，液晶材料410的配向是通过在液晶材料410里游离的反应型单体420发生反应实现的，在紫外光配向时，游离的反应型单体420的浓度分布和紫外光的强弱都会影响配向的好坏，例如，当游离的反应型单体420分布不均匀时，液晶面板会产生滴落Mura问题，即面板存在规则分布的黑点缺陷，从而降低面板的品质；再如，当紫外光强度较大、反应型单体420浓度较高时，反应型单体会发生爆聚反应，则液晶面板在显示时会产生碎亮点，从而严重影响面板品质。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种PSVA液晶面板的制作方法，无需进行第二紫外光照射制程以消除混杂于液晶中的反应型单体，同时避免了液晶面板的滴落Mura、碎亮点等问题，从而降低生产成本，提高液晶面板品质。为实现上述目的，本专利技术提供一种PSVA液晶面板的制作方法，包括如下步骤：步骤1、提供上基板和下基板，在所述上基板和下基板的一侧上分别涂布一层配向膜材料，形成配向膜；所述配向膜材料包含聚酰亚胺类聚合物，该聚酰亚胺类聚合物的分子包括聚酰亚胺主链及侧链的可聚合的反应型基团；步骤2、在上基板或下基板设有配向膜的一侧上注入包括液晶分子的液晶组合物，然后使上基板和下基板设有配向膜的一侧相面对，将上基板和下基板对组成盒，形成上基板和下基板之间的液晶层，得到液晶盒；步骤3、对上基板和下基板施加一定的电压，并对液晶盒进行紫外光照射，上基板和下基板相对一侧上的配向膜内聚酰亚胺类聚合物侧链上的反应型基团在紫外光照射下发生聚合反应，使液晶层内的液晶分子形成预倾角。所述步骤3中对液晶盒照射的紫外光的波长在300纳米到400纳米之间。所述步骤3中对液晶盒进行紫外光照射的紫外光的照射强度为0.08mW/cm2到110mW/cm2之间所述步骤3中对液晶盒照射的紫外光的波长为313纳米，照射强度为0.08mW/cm2到10mW/cm2之间。所述步骤3中对液晶盒进行紫外光照射的时间为50秒至600秒。所述步骤2中采用液晶滴下注入的方式在上基板或下基板的一侧上注入液晶组合物。所述步骤3中使液晶分子形成的预倾角为88°至89°。所述上基板为彩膜基板，所述下基板为TFT阵列基板。所述步骤1中还包括在所述上基板和下基板的一侧上分别涂布一层配向膜材料后，进行预烘烤制程和高温烘烤制程，形成配向膜。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的一种PSVA液晶面板的制作方法，形成配向膜的配向膜材料包含聚酰亚胺类聚合物，该聚酰亚胺类聚合物的分子包括聚酰亚胺主链及侧链的可聚合的反应型基团，通过一次紫外光照射使配向膜内聚酰亚胺类聚合物侧链上的反应型基团发生聚合反应即可实现对液晶分子的配向，相较于现有的PSVA液晶面板的制作方法，通过聚合使液晶分子产生预倾角的反应型单体，作为侧链基团直接接枝于配向膜的主体材料上形成聚酰亚胺类聚合物上的反应型基团，而非混合于液晶材料中，液晶层中无游离的反应型单体，因此无需进行第二紫外光照射制程以消除混杂于液晶层中的反应型单体，同时避免了液晶面板的滴落Mura、碎亮点等问题，从而降低了生产成本，提高了液晶面板品质。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为现有PSVA液晶面板的制作过程中通过第一次紫外光照射进行紫外光配向的示意图；图2为现有PSVA液晶面板的制作过程中通过第二次紫外光照射以去除液晶材料内残留的反应性单体的示意图；图3为现有PSVA液晶面板的制作过程中通过两次紫外光照射后液晶材料内无反应性单体残留的示意图。图4为本专利技术的PSVA液晶面板的制作方法的示意流程图；图5为本专利技术的PSVA液晶面板的制作方法的步骤1的示意图；图6为本专利技术的PSVA液晶面板的制作方法的步骤2的示意图；图7为本专利技术的PSVA液晶面板的制作方法的步骤3的示意图；图8为本专利技术的PSVA液晶面板的制作方法的步骤3中得到的PSVA液晶面板的结构示意图。具体实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种PSVA液晶面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供上基板(10)和下基板(20)，在所述上基板(10)和下基板(20)的一侧上分别涂布一层配向膜材料，形成配向膜(30)；所述配向膜材料包含聚酰亚胺类聚合物，该聚酰亚胺类聚合物的分子包括聚酰亚胺主链(31)及侧链的可聚合的反应型基团(32)；步骤2、在上基板(10)或下基板(20)设有配向膜(30)的一侧上注入包括液晶分子(41)的液晶组合物，然后使上基板(10)和下基板(20)设有配向膜(30)的一侧相面对，将上基板(10)和下基板(20)对组成盒，形成上基板(10)和下基板(20)之间的液晶层(40)，得到液晶盒；步骤3、对上基板(10)和下基板(20)施加一定的电压，并对液晶盒进行紫外光照射，上基板(10)和下基板(20)相对一侧上的配向膜(30)内聚酰亚胺类聚合物侧链上的反应型基团(32)在紫外光照射下发生聚合反应，使液晶层(40)内的液晶分子(41)形成预倾角。

【技术特征摘要】
1.一种PSVA液晶面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供上基板(10)和下基板(20)，在所述上基板(10)和下基板(20)的一侧上分别
涂布一层配向膜材料，形成配向膜(30)；
所述配向膜材料包含聚酰亚胺类聚合物，该聚酰亚胺类聚合物的分子包括聚酰亚胺主
链(31)及侧链的可聚合的反应型基团(32)；
步骤2、在上基板(10)或下基板(20)设有配向膜(30)的一侧上注入包括液晶分子(41)
的液晶组合物，然后使上基板(10)和下基板(20)设有配向膜(30)的一侧相面对，将上基板
(10)和下基板(20)对组成盒，形成上基板(10)和下基板(20)之间的液晶层(40)，得到液晶
盒；
步骤3、对上基板(10)和下基板(20)施加一定的电压，并对液晶盒进行紫外光照射，上
基板(10)和下基板(20)相对一侧上的配向膜(30)内聚酰亚胺类聚合物侧链上的反应型基
团(32)在紫外光照射下发生聚合反应，使液晶层(40)内的液晶分子(41)形成预倾角。
2.如权利要求1所述的PSVA液晶面板的制作方法，其特征在于，所述步骤3中对液晶盒
照射的紫外光的波长在300纳米到400纳米之间。
3.如权利要求2所述的PSVA液晶面板的制作方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵仁堂，谢忠憬，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44