本发明涉及衬底表面清洗方法、薄膜制造方法、半导体装置及其制法，提供低温形成低电阻的阻障膜及低温下去除半导体衬底表面或金属膜表面的氧化物、氟化物、碳化物及氮化物的技术。真空槽内放置催化物加热，并向真空槽内交互导入原料气体和反应性气体，使吸...

本发明的溅镀装置（１）设有第一～第四靶材（２１ａ～２１ｄ）。第一、第二靶材（２１ａ～２１ｂ）的表面相互对置，第三、第四靶材（２１ｃ～２１ｄ）的表面也相互对置。形成介质膜时，交替地溅射第一、第二靶材（２１ａ～２１ｂ）和第三、第四靶材（２１...

一种用于真空处理装置的真空室（１），其具有能够被自由拆分为以下组件的结构：矩形室主体（２），通过螺栓连接可拆卸而又牢固地连接到室主体（２）的两个侧表面上的三角形侧面机架（３ａ、３ｂ），连接到室主体（２）和具有开口的侧面机架（３ａ、３ｂ）...

本发明提供一种可以抑制放电电压升高的密封面板（１００）。这种密封面板（１００）包括配置在一对基板（１、２）间的整个周围、含有树脂材料的密封材（２０），沿着密封材（２０）的内周连续地或间断地形成有吸气剂（２２），用于吸附由密封材（２０）释...

提供填充率高的ＭｇＯ膜。在真空槽（１２）内配置蒸发源（２３），边导入氧气和气体的水，边照射电子射线（２８）产生ＭｇＯ蒸气。这时通过使水的导入量达到残留在真空槽内部的水分子数为导入真空槽的水分子数的２．９９×１０↑［－１］倍以上，可以得到...

本发明的等离子显示屏（１）的维持电极（１５）与地址电极（１６）上的保护膜（１４）的主成分均含有ＣａＯ和ＳｒＯ，而该保护膜（１４）中的ＣａＯ浓度为２０ｍｏｌ％以上、９０ｍｏｌ％以下。由于此种保护膜（１４）的功函数比以往的ＭｇＯ膜小，故可用...

本发明提供一种真空蒸镀装置的成膜材料供给装置，即使相对于三个以上的熔沟，也能够均匀地供给成膜材料。该真空蒸镀装置使成膜材料在成膜室内的熔沟上蒸发，在上方进行移送的基板上形成膜，所述成膜材料从能承受长期间的连续运转并收容着大量的成膜材料的...

在有效利用作为成膜材料的Ｄｙ、Ｔｂ的同时，通过在具有规定形状的铁－硼－稀土系的磁铁表面高速成膜来提高生产率，能以低成本制造出永磁铁。通过在具有规定形状的铁－硼－稀土系磁铁表面上形成Ｄｙ膜的成膜工序以及通过在规定温度下实施热处理，使在表面...

把含有选自铟、锡、锑、铝及锌的金属微粒，这些金属的二种以上的金属组成的合金微粒，或这些微粒的混合物的分散液涂布在基材上后，在真空气氛、惰性气体气氛、还原性气氛中进行烧成，然后，在氧化性气氛中进行烧成。在该氧化性气氛中烧成后，还可以再在还...

本发明提供一种金属薄膜的形成方法，在由选自Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ和Ｐｔ中的至少１种金属或这些金属中的２种以上组成的合金周围，附着有机物作为分散剂，在含有水、有机酸、或水和有机酸的气体氛围下烧制附着构成的金属纳米离子，得到金属...

提供一种使从发射体发射并到达阳极的电子量（阳极电流）成为所要求的量并能控制驱动电压的电场发射型显示装置及其控制方法。它备有：栅极（３）；通过施加到栅极（３）之间驱动电压发射电子的发射体（２）；有接受从发射体（２）发射的电子而发光的荧光体...

一种基板贴合装置及基板贴合装置的控制方法，以位于互相邻接的支承条（５６）（多个吸附垫５８）之间的形态将粘附机构部（５２）设在上台架（５１）上。粘附机构部（５２）包括：具有多个贯通孔（７２）的加压板（７１）；以及突出到加压板（７１）的下表...

本发明涉及用于将液晶屏所用一对基板间的液晶封入间隙保持恒定的隔件的形成方法。在此方法中，将分散有粒状隔件的墨水（７）经喷墨法滴下到一对基板中的一块基板上的多个隔件形成位置（包围各像素Ｒ．Ｇ．Ｂ的格子状黑色矩阵５的交叉部）上，此时于每个隔...

本发明提供一种面板制造装置及其制造方法。用于解决在面板制造过程中必须要采用带有隔离粒子的密封材料的技术问题。当被上基板保持部（４４）吸附的基板（Ｗ２）与间隔形成块（６１）的上面靠接时，即可控制上基板保持部（４４）的下降。被下基板保持部（...

在第一发明的发明中，由于间隔物分散液的流动是在输送室（２）中发生的，所述输送室（２２）通过内部过滤器（３０）而与排放室（２１）隔开，所以喷嘴片（２６）侧的排放室（２１）不受其影响，从喷出孔（３２）稳定地喷出间隔物分散液。在第二发明中，由...

本发明提供一种可以在力求节电的同时避免部件数量增加，而且相对于密封材的图案独立地对密封材进行光照射的光照射装置。紫外线照射装置（１）的载置台（１３）具有载置通过光硬化树脂所形成的线状密封材粘合而成的２片基板所形成的粘合基板（Ｗ）的载置面...

本发明提供气泡发生较少的涂布装置。使供给侧的循环罐（３１Ｌ）的内部空间压力为比大气压低但比缓冲罐（４１ａ－４１ｃ）内部空间压力高的压力，供给分散液，使作为回收目的地的循环罐（３１Ｒ）的内部压力比大气压低，回收喷出室（４２ａ－４２ｃ）内部...

本发明涉及一种安装在腔室的壁部，对在该腔室内存在的分析对象气体进行分析的质量分析装置，其特征在于，该装置包括：测定部，向所述腔室安装时插入所述腔室内，测定所述分析对象气体中气体成分的每一质荷比的分压；操作部，向所述腔室安装时位于所述壁部...

本发明提供一种皮拉尼真空计，可提高细丝温度对气体压力变动的依存度，以良好的精度测量气体压力。本发明的皮拉尼真空计具备：包封体（２），内部面向被测量空间（ｓ）；细丝（１），收容在该包封体２内部；以及筒（７），在包封体（２）内部包围细丝（１...

一种用于蒸镀装置的真空装置用闸阀，即使其位于开阀位置时，也可以通过保护阀箱的内壁面及阀体的密封部件与蒸镀材料的蒸气隔离来提高蒸镀室真空保持的可靠性。作为电子枪用闸阀（１），使用真空装置用闸阀，关闭阀时，与现有技术同样地阀体（３）把电子枪...