一种图像传感器及其形成方法，所述方法包括：提供第一半导体衬底以及第二半导体衬底；在所述第一半导体衬底和/或第二半导体衬底的正面形成反射结构；对所述第一半导体衬底的正面以及第二半导体衬底的正面进行键合；在所述第一半导体衬底或第二半导体衬底...

一种背照式图像传感器及其形成方法，所述方法包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底内具有光电二极管以及浮置扩散区；在所述半导体衬底的正面形成金属薄膜，所述金属薄膜覆盖所述光电二极管；在所述金属薄膜的表面形成存储器件以及开关器件，所述存储器件...

一种沟槽隔离结构及图像传感器的形成方法，其中沟槽隔离结构的形成方法包括：提供半导体衬底；在所述半导体衬底内形成沟槽；对所述沟槽进行表面处理，去除所述沟槽侧壁表面和底部表面的缺陷；在所述表面处理之后，采用沉积工艺在所述沟槽的底部表面与侧壁...

本公开涉及刻蚀方法以及半导体器件和图像传感器的制造方法。其中一个实施例提供了一种刻蚀方法，其包括：将反应气体沉积在氮化硅SiN的待刻蚀表面上；以及利用溅射气体对所述待刻蚀表面进行溅射，以刻蚀反应后的SiN的至少一部分。

一种版图修正方法及装置，所述方法包括：提供初始版图，所述初始版图按预设窗口大小分为多个版图窗口；确定各个版图窗口内的初始版图密度，并确定初始版图密度超出预设密度范围的版图窗口为冗余图形添加窗口；对于每个冗余图形添加窗口，确定与所述冗余图...

一种摆动闸阀，包括：阀体，所述阀体具有腔室，所述阀体顶部具有第一阀口，所述阀体底部具有第二阀口；遮蔽板组件，所述遮蔽板组件位于所述腔室内；摆动杆，所述摆动杆带动所述遮蔽板组件作摆动；驱动部，所述驱动部固设于所述阀体的外壁上，所述驱动部适...

一种摆动闸阀，包括：第一阀体，第一阀体具有第一腔室，第一阀体顶部具有第一阀口，第一阀体底部具有第二阀口；第二阀体，第二阀体具有第二腔室；狭缝阀，位于第一阀体与第二阀体之间，适于连通或隔断第一腔室及第二腔室；遮蔽板组件，包括第一遮蔽板、第...

本公开涉及一种退火方法和半导体器件的制造方法。其中，退火方法包括：在形成有图案化结构的衬底上沉积石墨烯层，其中所述石墨烯层至少部分覆盖所述图案化结构；以及对所述衬底退火。

本实用新型提供一种漏液传感器的固定装置，包括第一固定部件及第二固定部件；第一固定部件包括调节单元，漏液传感器与调节单元相接触，且通过调节单元固定漏液传感器；第二固定部件与机器相连接，且第一固定部件与第二固定部件相连接。本实用新型通过调节...

本申请涉及半导体技术领域，具体地涉及一种相位检测自动对焦像素元件及其形成方法，以及图像传感器及其形成方法。所述相位检测自动对焦像素元件(PDAF)包括：半导体衬底，所述半导体衬底包括至少两个像素区域；增透层，所述增透层位于所述半导体衬底...

一种缺陷检测方法及缺陷检测系统，包括：提供晶圆，所述晶圆包括检测面，所述检测面具有待检测缺陷；获取所述待检测缺陷的缺陷信息；根据所述缺陷信息获取拍摄放大倍数；根据所述拍摄放大倍数对所述待检测缺陷进行拍摄处理，获取检测图像，所述检测图像包...

该实用新型涉及一种具有加热丝的加热器，所述加热丝设置于所述加热器中，且所述加热丝的表面涂布有导热层，用于作为所述加热丝热传递的介质，均匀所述加热丝的表面温度。本实用新型中具有加热丝的加热器的加热丝表面涂布有导热层作为所述加热丝热传递的介...

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种晶圆位置调整装置。所述晶圆位置调整装置包括：至少一轨道，沿竖直方向设置于一支撑架的下方，且所述轨道至少部分位于所述支撑架的边缘，所述支撑架用于支撑晶圆；调整杆，与所述轨道连接，且沿竖直方向自...

本实用新型提供一种升降装置，其将负载是否被吸附在载台上的宏观表现转换为驱动器的驱动电流的微观变化，进而可根据驱动器的驱动电流的变化控制推杆的升降，从而可避免晶圆推杆顶破的情况发生，大大提高了产品良率。

本实用新型提供的晶圆处理装置，包括反应腔室，还包括：基座，位于所述反应腔室内，用于承载晶圆；至少一组凹槽，位于所述基座表面，每组凹槽包括关于所述基座的中心对称分布的两个凹槽；多条第一管道，与多个所述凹槽一一连通，且延伸至所述反应腔室外部...

该实用新型涉及一种晶圆装载设备，包括腔体和舱门，还包括扫描传感器，其中，所述腔体用于放置晶圆；所述舱门用于封闭所述腔体；所述扫描传感器设置于所述舱门，并能够跟随所述舱门的开合运动，用于扫描所述腔体中的晶圆盒内放置的晶圆，以获取所述腔体中...

该实用新型涉及一种晶圆边缘清洗装置，包括：转动单元，能够绕一竖直轴转动；刷头，安装至所述转动单元，能够跟随所述转动单元绕所述竖直轴转动，包括：第一刷面，用于刷洗晶圆表面；第二刷面，用于刷洗晶圆表面，且所述第二刷面与第一刷面关于所述竖直轴...

该实用新型涉及一种喷淋装置及晶圆处理设备，其中喷淋装置包括喷嘴，用于喷淋液体；至少两个喷淋管路，连通至液体源，并连通至喷嘴，用于为喷嘴提供待喷淋的液体；选通阀，设置于喷淋管路和喷嘴之间，分别与喷淋管路的出口以及喷嘴的入口端连通，用于选通...

一种湿法清洗装置，包括：清洗腔，适于放置待清洗晶圆；喷液口，适于向待清洗晶圆表面喷吐清洗溶液；混酸阀，适于将各种清洗溶液进行混合；传输管道，适于将混合后的清洗溶液传输到喷液口；温度补偿装置，用于控制传输管道中的混合溶液的温度，使传输管道...

该实用新型涉及一种晶圆扫描装置及晶圆处理设备，其中晶圆扫描装置包括：扫描喷头，用于通入溶液，并控制通入的溶液与被扫描的晶圆接触，以实现对晶圆的扫描；真空吸附单元，安装至扫描喷头，用于防止扫描喷头内的溶液流出至被扫描的晶圆表面；注射泵，通...