北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所专利技术

北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所共有257项专利

  • 一种晶圆翻转及安全保护设备和晶圆清洗方法
    本发明公开了一种晶圆翻转及安全保护设备和晶圆清洗方法,该设备包括:箱体、翻转卡盘、转轴、驱动齿轮、挡水门、喷水管、齿条;箱体的侧面设有晶圆进出口;翻转卡盘安装在箱体内;转轴固定在翻转卡盘的一侧;驱动齿轮带动转轴转动;挡水门安装在箱体的晶...
  • 飞针测试机运动防撞机构
    一种飞针测试机运动防撞机构,包括测针Ⅰ、测针Ⅱ运动部件以及测针Ⅰ、测针Ⅱ连接板。测针Ⅰ运动部件上安装有电子缓冲器以及信号接收器;测针Ⅱ运动部件上安装有防撞阻尼器以及位置检测器。测针Ⅰ、测针Ⅱ运动部件、防撞阻尼器、电子缓冲器、位置检测器和...
  • 一种芯片不规则分布的晶圆切割方法
    一种芯片不规则分布的晶圆切割方法,包括步骤如下:步骤一,通过控制模块控制移动工作台和相机,对工作台上的晶圆进行扫描,实现逐一全面的图像采集;步骤二,对扫描中得到的每一帧图像进行处理;步骤三,确定晶圆是否扫描完毕;步骤四:当晶圆扫描完毕,...
  • CMP后清洗设备晶片组合轮结构及使用方法
    一种CMP后清洗设备晶片组合轮结构及使用方法,该结构包括与晶片中心呈同心圆左右对称布局的驱动单元,以及与晶片中心呈同心圆竖直布局的从动单元,晶片与驱动单元和从动单元的结合面呈纵向同面。驱动单元包括驱动轴单元、与驱动轴单元呈套接组合的驱动...
  • 一种半导体晶圆电镀用导电片及接电点密封结构
    本发明公开了一种半导体晶圆电镀用导电片及接电点密封结构,所述导电片包括导电层、内侧覆盖膜及外侧覆盖膜,所述导电层为导电材料,所述内侧覆盖膜、外侧覆盖膜为绝缘材料并且分别设置在导电层的内、外侧,所述导电层上设有接电点并且接电点穿过外侧覆盖...
  • 一种晶圆定位装置
    本发明公开了一种晶圆定位装置,用于边缘接触式载片台晶圆定位,其包括保持环,载片台及承片座,保持环、承片座设置在载片台上的阶梯孔内,承片座上设置有限位块,限位块沿晶圆的圆周均布在承片座上,其限制晶圆水平方向的移动;保持环的下部设置有凹槽,...
  • CMP后清洗设备晶片惰轮结构及使用方法
    一种CMP后清洗设备晶片惰轮结构及使用方法,该结构包括惰轴单元、与惰轴单元呈套接组合的惰轮单元、将惰轮单元锁定于惰轴单元上的压圈,以及贴合紧固于惰轴单元上的传感器。组合轴承呈孔轴定位方式压入基座内,组合轴承左侧外圈端面与基座左端口内侧贴...
  • 一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构,包括轴承组件、动力臂组件、传动组件和气路组件;轴承组件中的两个球轴承端面之间套装有轴承隔套;气缸缸体的下端面的轴承内端盖与活塞轴之间设密封防损套;转动轴的法兰盘与气缸缸体的上端面的结合端面之间设...
  • 一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构及其运行方法
    一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构,包括轴承组件、动力臂组件、传动组件和气路组件;轴承组件中的两个球轴承端面之间套装有轴承隔套;气缸缸体的下端面的轴承内端盖与活塞轴之间设密封防损套;转动轴的法兰盘与气缸缸体的上端面的结合端面之间设...
  • 一种CMP后清洗设备清洗刷驱动轴结构及使用方法,该结构包括驱动单元以及与驱动单元呈套接组合的驱动轴单元。驱动单元包括电机+减速器、电机座、直通接头和固定套。驱动轴单元包括驱动轴、压簧、锁钉和定心卡套。驱动轴前部穿入定心卡套内,定心卡套与...
  • CMP后清洗设备清洗刷驱动轴结构及使用方法
    一种CMP后清洗设备清洗刷驱动轴结构及使用方法,该结构包括驱动单元以及与驱动单元呈套接组合的驱动轴单元。驱动单元包括电机+减速器、电机座、直通接头和固定套。驱动轴单元包括驱动轴、压簧、锁钉和定心卡套。驱动轴前部穿入定心卡套内,定心卡套与...
  • 兆声清洗中晶圆转速检测装置、清洗系统及其工作过程
    一种兆声清洗中晶圆转速检测装置、清洗系统及其工作过程,所述检测装置与从动带轮组件连接,包括内置于晶圆转子一端的键槽内的第二磁芯、内嵌于晶圆转子带轮套的第一磁芯、连接在从动带轮端部的计数盘和设置在计数盘侧边的转速传感器。所述第二磁芯位于装...
  • 一种紧凑型可调节的抛光液输送臂及其工作工程
    一种紧凑型可调节的抛光液输送臂,包括水平设置的传送臂、垂直连接在传送臂一端的旋转轴以及连接在旋转轴下端的动力机构;所述动力机构包括旋转气缸和连接在旋转气缸上的气缸传送轴;所述旋转轴的轴身通过轴承和轴承座与抛光机机体连接,下端通过膜片联轴...
  • 本发明公开了一种化学机械平坦化中修整器电机的跟踪扫描算法,将所述修整器电机的一个运行周期划分为n个等长的时间间隔Tn,各所述时间间隔Tn所对应的位移区间为Zn,修整器电机的运行轨迹为预设的时间位移函数所表征的曲线。本发明电机运动轨迹与预...
  • 一种CMP后清洗设备清洗刷惰轴结构及使用方法,该结构包括腔体单元以及与腔体单元呈套接组合的惰轴单元。腔体单元包括腔座、组合轴承、外隔圈、内隔圈、压盖和直角接头。惰轴单元包括惰轴、格莱圈、隔套、锁母。惰轴单元呈孔轴定位方式穿入腔体单元的组...
  • CMP后清洗设备清洗刷同心卡接结构及使用方法
    一种CMP后清洗设备清洗刷同心卡接结构及使用方法,该结构包括清洗刷、与清洗刷呈锥孔定位且呈矩形槽传力的惰轴结构、与清洗刷呈锥孔定位且呈四方匀性传力的可伸缩式驱动轴结构、支撑惰轴结构的左摆架和支撑可伸缩式驱动轴结构的右摆架。所述清洗刷包括...
  • 一种半导体晶圆电镀夹具及夹持方法
    本发明公开了一种半导体晶圆电镀夹具,用于夹持半导体晶圆,包括外部连接结构、主体结构和锁紧结构;所述外部连接结构由紧固螺钉固定在主体结构上;所述主体结构的夹具后板上设有放置半导体晶圆用的晶圆放置孔,所述夹具前板上设有放置缓冲垫用的缓冲垫凹...