本发明涉及一种用于处理衬底的设备。所述设备包含具有热处理空间的热处理腔室，在所述热处理空间中执行关于衬底的热处理；衬底支架，所述衬底支架经配置以在热处理空间中支撑衬底；加热块，在所述加热块中，加热灯安装在界定在面对衬底的灯安装表面中的多...

本发明涉及一种用于校正激光束的设备和一种校正激光束的方法，且所述设备包含：激光光源，发射激光；输出端反射镜；以及至少一个校正透镜，布置在所述输出端反射镜之前。此外，所述设备包含：校正系统，收集关于穿过所述输出端反射镜的剩余激光束的线束轮...

本发明提供一种用于校正当通过使用激光束在晶片上执行退火时所发射的线束能量的方法及装置。所述方法包括下列步骤：设置每个衰减器入射角的参考能量强度和参考脉冲形状；测量激光束，其中以经控制的衰减器控制入射角输出的激光束的能量强度经测量确定为测...

本发明提供一种用于处理衬底的设备。所述设备包含：热处理腔室，其具有热处理空间，在所述热处理空间中对衬底执行热处理；衬底支撑件，其经配置以在热处理空间中支撑衬底；气体喷射单元，其经配置以将气体喷射到衬底支撑件；加热灯，其经配置以产生热能；...

本发明涉及一种一体化灯设备及一种用于制造所述一体化灯设备的方法。一体化灯设备包含：灯丝组件，其具备产生热的灯丝；耐热加固部件，其一端固定地耦合到所述灯丝组件；导电线保护套管，其一端固定地耦合到所述耐热加固部件的另一端；固定部件，其固定地...

此处公开了一种用于制造氧化物半导体装置的设备，其中，通过对形成在基板上的氧化物半导体进行热处理来制造所述氧化物半导体装置，包括：基板安放板，其用于固定具有氧化物半导体的基板；光源，其面向所述基板安放板并且与所述基板安放板隔开，并且向所述...

本发明提供一种衬底处理设备，其能够去除衬底处理空间内的颗粒。衬底处理设备包含:具有衬底处理空间的腔壳，所述衬底处理空间由底壁、上壁，以及将底壁连接到上壁的侧壁界定；经配置衬底平台，所述衬底平台是在衬底处理空间内在第一轴向方向以及与第一轴...

本发明提供一种激光热处理设备，其包含：经配置以支撑掩模的掩模支撑模块；及光束切割器，其安装于所述掩模支撑模块与所述图像形成系统之间以对应于其中从所述图像形成系统反射的激光束被散射到所述掩模支撑模块的区，从而防止从所述图像形成系统反射及散...

本发明涉及一种衬底处理设备，尤其涉及一种在衬底上执行热处理的衬底处理设备。本发明的示例性实施例包含：热处理腔室，其具有用于衬底的热处理空间；衬底支架，其用于在所述热处理空间中支撑所述衬底；加热块，其包含产生热能的加热灯和用于朝向所述衬底...

本发明提供能够去除衬底处理空间内的颗粒的衬底处理设备。衬底处理设备包含：具有衬底处理空间的腔壳，所述衬底处理空间由底壁、上壁，以及将底壁连接到上壁的侧壁界定；经配置以在衬底处理空间内在第一轴向方向以及与第一轴向方向交叉的第二轴向方向上移...

本发明提供一种支撑单元，其包含垂直地延伸预定长度的支撑主体以及安置在支撑主体中的插入件。衬底放置在支撑主体的上部上。因此，在将衬底加载到工艺腔室中之前，根据直接或间接方法，将支撑单元预加热到等于或类似于衬底的工艺温度的温度，由此减少或防...

本发明提供一种加热模块与衬底处理设备。用于对衬底进行预热的加热模块安装在用于执行主处理的主处理模块的前端处。当将用激光照射衬底以使衬底结晶的激光结晶模块用作主处理模块时，加热模块对衬底进行预热，并且接着，激光结晶模块用激光照射衬底。即，...

本发明提供一种热处理设备。此热处理设备包含：处理腔室，其中具有衬底处理空间；光源，安置在处理腔室外部以输出光，光源将光照射到装载到处理腔室中的衬底上；以及停滞凹槽，在处理腔室内安置在衬底上方并且具有内部空间，从光源发出的光和惰性气体穿过...

提供一种热处理设备，其包含：工艺腔室，其中具有衬底处理空间；平台，其安置在工艺腔室中以允许将衬底放置在其上，平台在工艺进行方向上水平地转移；光源，其安置在工艺腔室外部以输出光，光源经配置以将光照射到装载到工艺腔室中的衬底上；以及气体注射...

提供一种气体注射单元以及一种包含气体注射单元的热处理设备。经配置以将惰性气体注射到衬底上的气体注射单元包含：气体注射块，气体注射块具有气体注射空间，惰性气体穿过气体注射空间，并且气体注射块具有注射狭缝，注射狭缝界定在下侧中、具有在衬底的...

衬底处理设备以及用于衬底处理设备中的排气设备。所述衬底处理设备包含：排气装置，将在衬底的处理过程中产生的副产物排出到腔室的外部；以及激光产生单元，将激光束辐射到设置在衬底支撑件上的所述衬底上，其中所述排气装置侧壁包含排气端口，所述排气端...

本发明提供一种用于固持衬底的设备。所述设备包含：多个抽吸通道，垂直地穿过固持台的至少一个部分，并且所述多个抽吸通道布置在所述固持台的宽度方向上以通过使用真空吸力来支撑所述衬底；多个通风通道，垂直地穿过所述固持台的至少一个部分，所述多个通...

本发明提供一种用于修正掩模的倾角的设备。所述设备包含：掩模支撑主体，其经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，其经配置以改变掩模支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，其为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激...

本发明涉及一种层分离设备，且更明确地说，涉及一种用于在柔性显示器工艺中将涂布层与基础衬底分离的设备。本发明的实施例层分离设备包含：腔室，具有内部空间且在其上壁上设有窗口；激光辐射单元，经配置以通过所述窗口将激光束辐射到所述内部空间上；光...

本发明提供一种衬底固持模块和包含所述衬底固持模块的衬底处理设备，所述衬底固持模块，包含：固持器，具有固持衬底的表面；固持卡盘，插入在所述固持器中以固持所述衬底；弹性变形膜片，安装在固持所述衬底的所述固持卡盘的表面上；以及移动构件，设置在...