本发明涉及Mura量化系统与方法，即，通过包括激光结晶装置的激光结晶设施实施的Mura量化系统，其中Mura量化装置设置在激光结晶设施中，使得基板通过激光结晶装置结晶，并且当结晶基板移动时利用紫外线源实时进行Mura量化，以及通过激光结...

本发明提供一种制造半导体装置的设备以及使用其制造半导体装置的方法。本发明控制热源单元，使得在两个阶段中用光照射其中形成含氢待处理层的待处理物体，且由此可以抑制和防止半导体装置的电特征由于氢而劣化。也就是说，先照射的紫外光可以引发用于分离...

本发明涉及一种包括安装于其面对待处理物体(例如基板)的一个表面上的多个加热灯的加热器区块及包括所述加热器区块的基板处理装置。所述加热灯包括第一灯及第二灯，所述第一灯用以对所述待处理物体照射紫外(UV)线，所述第二灯用以对所述待处理物体照...

本发明提供一种薄膜形成设备、保护膜形成设备以及薄膜形成方法。所述薄膜形成设备包含覆盖衬底和驱动单元的掩模组合件，驱动单元调整掩模组合件与衬底之间的间隔距离。此外，保持衬底和掩模部分的至少一部分彼此间隔开第一间隔距离，使得第一膜形成于衬底...

本发明提供一种衬底支撑平台、一种使用其的衬底处理设备和一种衬底处理方法，其包含腔室、基底、提升模块和振动模块且包含以下步骤：提供用光照射的衬底；提升衬底；将振动施加到衬底；以及当移动衬底支撑平台时执行照射，因此抑制例如由照射表面所用的光...

本发明涉及一种基板热处理装置，且更具体而言，涉及一种通过热处理来改善基板的电性特性的基板热处理装置。根据示例性实施例的基板热处理装置包括：热处理室，用以界定基板的热处理空间；基板支撑构件，用以在热处理空间中支撑基板；加热器区块，在面对基...

本发明提供一种支撑卡盘和衬底处理设备。支撑衬底的支撑卡盘包含：主体，其具有内部空间；可扩展部件，其经配置以在主体的厚度方向上划分内部空间，可扩展部件安置在主体中使得通过注入到间隔开的分隔空间中的气体使可扩展部件在主体的厚度方向上移动；移...

本发明提供一种光照射方法和设备。光照射方法执行以下操作：监视过程控制模块的状态，比较所监视状态值与预置参考值，以及根据比较结果阻挡照射在被照射对象上的光的路径。在用于用光照射被照射对象且处理被照射对象的过程中，实时地监视过程控制模块的心...

本发明提供一种衬底处理设备及其操作方法。所述衬底处理设备包含：平台，衬底安装在所述平台上；驱动模块，其经配置以传送所述平台；以及监控模块，其经配置以监控所述驱动模块的状态以获得状态数据，并且使用所述状态数据确定所述驱动模块是否是异常的，...

本发明提供一种加热器区块及利用所述加热器区块的基板热处理装置。所述加热器区块包括加热灯，所述加热灯用以将热量传递至包括具有不同长度的短边与长边的矩形基板，所述加热灯包括多个灯泡。所述灯泡被排列成使平行于所述矩形基板的短边安置的所述灯泡的...

本发明提供一种用于冷却产热单元的设备及方法。用于冷却产热单元的设备包含：外壳；散热部分，其包含将外部空气引入到外壳中并且将内部空气排出到外壳的外部的流入风扇和排出风扇；以及吹气部分，其经配置以吹动冷却空气。此处，空气被吸入到界定容纳空间...

本发明涉及一种用于防止分配器中的液体凝聚的设备和一种用于防止分配器中的液体凝聚的方法，且更明确地说，涉及一种用于当将例如液晶和糊状物的液体涂覆到衬底时防止在喷嘴的尖端处的液体凝聚的设备和一种其操作方法。根据本发明的示范性实施例，一种用于...

本发明涉及用于校准制动轮的坐标的方法及用于处理衬底的设备，且更确切地说，涉及用于校准制动轮的坐标的方法及能够在滴液设备的所述制动轮移动时校准坐标的用于处理衬底的设备。根据本发明的示范性实施例，一种用于校准制动轮的坐标以校准设置于台架中的...

本发明提供一种用于将光照射到衬底上以处理所述衬底的光照射设备。所述光照射设备包含：透射窗，光透射穿过所述透射窗；收集器，设置在透射窗上方并且向上倾斜到透射窗的外部，收集器使在从所述衬底反射之后透射穿过透射窗的反射光偏移；以及冷却块，在冷...

本发明提供一种用于处理激光的设备和方法，且更明确地说，提供一种用于驱动激光辐照器以用于将激光辐照到衬底上的激光处理设备和方法。设备包含：相对移动检测部件，其经设置以当检测到平台或激光辐照器的移动时输出检测信号；相对移动模块驱动部件，其经...

本发明内容涉及一种用于处理激光的设备，且更明确地说，涉及一种用于驱动激光辐照器以用于将激光辐照到衬底上、转换激光振荡模式时防止激光质量恶化的激光处理设备。用于处理激光的设备包含：操作脉冲产生部件，其经设置以产生用于在辐照激光的操作状态中...

本发明涉及一种电力转换装置，且更确切地说，涉及一种用于将在电力转换操作期间发生火灾的风险降至最低的电力转换装置。本发明的示例性实施例提供一种电力转换装置，电力转换装置接收引入到初级侧中的电力并且通过线圈的电磁感应转换电力的强度以将经转换...

本发明涉及一种激光照射方法以及激光照射装置。该激光照射方法包含：分析正被照射的激光且检测所述激光的第二峰值；以及根据所述所检测的第二峰值与参考峰值的比较和确定结果而控制是否将稀有气体和卤素气体中的至少任何一个供应到振荡所述激光的激光振荡...

根据本发明的光照射设备包含：第一收集器，设置在透射窗上方并且向上倾斜到所述透射窗的外部，所述第一收集器使在从衬底反射之后透射穿过所述透射窗的反射光一次偏移；以及第二收集器，设置在所述第一收集器与所述透射窗之间并且设置在相对于所述透射窗的...

本发明提供一种校正激光脉冲的方法和用于校正激光脉冲的装置。校正激光脉冲的方法包含以下过程：测量个别激光脉冲，其中测量从多个激光光源射出且由每一个别衰减器进行强度调节的所述个别激光脉冲的峰值；控制每一衰减器的入射角，其中在所测量的个别激光...