本发明专利技术涉及一种激光照射方法以及激光照射装置。该激光照射方法包含：分析正被照射的激光且检测所述激光的第二峰值；以及根据所述所检测的第二峰值与参考峰值的比较和确定结果而控制是否将稀有气体和卤素气体中的至少任何一个供应到振荡所述激光的激光振荡器。根据实施例，当照射在薄膜上的激光脉冲的第二峰值小于参考峰值时，供应稀有气体以允许所述第二峰值增大且达到所述参考峰值。当所述第二峰值大于所述参考峰值时，供应卤素气体以允许所述第二峰值减小且达到所述参考峰值。本发明专利技术的激光照射方法和激光照射装置能够监视激光且校准激光器。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光照射方法和激光照射模块，更明确地说，涉及能够实时地校准激 光强度的激光照射方法和激光照射模块。
技术介绍
图1是用于解释典型激光热处理设备的示意图。参看图1，石英窗20安装在反应 室10的顶表面上，且激光照射器40安装在石英窗20的顶表面上。从激光照射器40输出 的激光41穿过石英窗20,且照射在反应室10中的衬底S上。 虽然未图示，但激光照射器40包含：激光振荡器，输出激光；气体供应器，向激光 振荡器供应气体；衰减器，安装在从激光振荡器输出的激光的行进路径上；光学系统，处理 从衰减器输出的激光的形状和能量分布；反射镜，设置为相对于激光的行进方向倾斜且将 从光学系统输出的激光的行进路径改变到定位衬底S的方向；以及分束器，设置在反射镜 与衬底S之间且将激光分束。 图2A和图2B是用于解释图1的激光41的视图。图2A是从上方观看激光照射在 上面的衬底S的状态的视图，且图2B是透视图。如图2A和图2B所说明，激光41以线型照 射，且以帘型垂直于衬底或相对于衬底具有小斜率而照射。衬底S相对于激光41的平面在 垂直或稍微倾斜方向上水平地移动，且使其整个表面用激光41照射。 另一方面，当激光照射在衬底S上时，通过重复非晶薄膜的熔融状态和结晶过程 来形成具有均匀粒度的多晶薄膜。在这点上，基于激光的一次发射，通过多次重复由具有第 一峰值的激光能量熔融且由具有第二峰值的激光能量结晶的过程来使非晶薄膜多晶化。换 句话说，对于使非晶薄膜结晶，根据第二峰值确定结晶质量，且因而需要维持恰当的峰值高 度以用于获得高质量的结晶薄膜。 此外，因为卤素气体的反应是良好的，所以在激光振荡器中供应的卤素气体往往 会随处理时间过去而消耗。因此，通常在将激光照射在衬底S上期间在某个周期中供应卤 素气体。然而，当以此方式不管第二峰值而持续供应卤素气体时，不能维持第二峰值精确且 均匀，这成为使结晶质量降级的因素。 专利文献1 :第10-2011-0070265号韩国专利特许公开
技术实现思路
本专利技术提供能够实时地校准激光强度的激光照射方法和激光照射模块。 本专利技术还提供实时地监视激光脉冲的峰值且控制气体供应的激光照射方法和激 光照射模块。 根据一个示范性实施例，一种监视激光且校准激光器的激光照射方法包含：分析 正被照射的激光且检测激光的第二峰值；将第二峰值与预设参考峰值进行比较且确定第二 峰值是否满足参考峰值；以及根据所检测的第二峰值和参考峰值的比较和确定结果而控制 是否将稀有气体和卤素气体中的至少任何一个供应到振荡激光的激光振荡器。 当所检测的第二峰值小于参考峰值时，可供应稀有气体。 当所检测的第二峰值大于参考峰值时，可供应卤素气体。 可用等式（1)计算稀有气体的供应量， 稀有气体供应量【主权项】1. 一种监视激光且校准激光器的激光照射方法，其特征在于包括： 分析正被照射的激光且检测所述激光的第二峰值； 将所述第二峰值与预设参考峰值进行比较且确定所述第二峰值是否满足所述参考峰 值；以及 根据所述所检测的第二峰值和所述参考峰值的所述比较和确定结果而控制是否将稀 有气体和卤素气体中的至少任何一个供应到振荡所述激光的激光振荡器。2. 根据权利要求1所述的激光照射方法，其中当所述所检测的第二峰值小于所述参考 峰值时，供应所述稀有气体。3. 根据权利要求1所述的激光照射方法，其中当所述所检测的第二峰值大于所述参考 峰值时，供应所述卤素气体。4. 根据权利要求2所述的激光照射方法，其中所述稀有气体的供应量是用等式（1)来 计算， 稀有气体供应： 其中3氏指示参考峰值，SHM指示所述第二峰值的检测值，a指示根据所述第二峰值的 比率用所述卤素气体和所述稀有气体的混合量计算出的斜率常数。5. 根据权利要求4所述的激光照射方法，其中所述卤素气体的供应量是用等式（2)来 计算， 卤素气体供应I其中3氏指示参考峰值，SHM指示所述第二峰值的检测值，a指示根据所述第二峰值的 比率用所述卤素气体和所述稀有气体的混合量计算出的斜率常数。6. 根据权利要求5所述的激光照射方法，其中a是用等式（5)来计算，其中X1指示所述第一峰值的比率，X 2指示所述第二峰值的比率，且Y :指示在所述第一 峰值的比率时稀有气体量与卤素气体量的比率，Y2指示在所述第二峰值的比率时稀有气体 量与卤素气体量的比率。7. 根据权利要求5所述的激光照射方法，其中对于供应所述稀有气体和所述卤素气体 中的每一个，通过周期性重复所述稀有气体和所述卤素气体的供应和停止来脉动并供应气 体供应，直到所述第二峰值满足所述参考峰值为止。8. 根据权利要求1至7中任一项所述的激光照射方法，其中所述卤素气体是HCl和F 2 中的任一个，且所述稀有气体是Xe、Ar和Kr中的任一个。9. 一种激光照射装置，其特征在于包括： 激光振荡器，经配置以振荡激光； 气体供应器，经配置以向所述激光振荡器供应卤素气体和稀有气体；以及 激光校准单元，经配置以分析正被照射的激光且检测所述激光的第二峰值，将所检测 的所述第二峰值与预设参考峰值进行比较，根据所述比较的结果而控制所述气体供应器， 且控制向所述激光振荡器供应所述卤素气体和所述稀有气体中的至少任何一个。10. 根据权利要求9所述的激光照射装置，其中所述激光校准单元包括： 激光分析单元，经配置以分析所述激光的脉冲形状和强度且检测所述第二峰值； 比较器，经配置以将由所述激光分析单元检测到的所述第二峰值与所述参考峰值进行 比较；以及 气体控制器，经配置以根据所述比较器的比较的结果而调整所述气体供应器且控制是 否向所述激光振荡器供应所述稀有气体和所述卤素气体中的任何一个。11. 根据权利要求10所述的激光照射装置，其中当所述第二峰值被确定为小于所述参 考峰值时，所述气体控制器控制所述气体供应器向所述激光振荡器供应所述稀有气体。12. 根据权利要求11所述的激光照射装置，其中当所述第二峰值被确定为大于所述参 考峰值时，所述气体控制器控制所述气体供应器向所述激光振荡器供应所述卤素气体。13. 根据权利要求10所述的激光照射装置，其中所述气体供应器包括经配置以向所述 激光振荡器供应所述卤素气体的第一气体供应单元以及经配置以向所述激光振荡器供应 所述稀有气体的第二气体供应单元， 所述第一气体供应单元包括：第一气体存储单元，存储所述卤素气体；第一气体供应 线，其一端连接到所述第一气体存储单元且另一端连接到所述激光振荡器，且经配置以向 所述激光振荡器供应所述卤素气体；第一阀和第二阀，在从所述第一气体存储单元朝向所 述激光振荡器的方向上依序安装；以及第一传感器，安装在所述第一阀与第二阀之间且经 配置以测量压力；且 所述第二气体供应单元包括：第二气体存储单元，存储所述稀有气体；第二气体供应 线，其一端连接到所述第二气体存储单元且另一端连接到所述激光振荡器，且经配置以向 所述激光振荡器供应所述稀有气体；第一阀和第二阀，在从所述第二气体存储单元朝向所 述激光振荡器的方向上依序安装；以及第二传感器，安装在所述第一阀与第二阀之间且经 配置以测量压力。14. 根据权利要求13所述的激光照射装置，其中所述第一气体供应单元包括从所述第 一气体存储单元朝向所述激本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种监视激光且校准激光器的激光照射方法，其特征在于包括：分析正被照射的激光且检测所述激光的第二峰值；将所述第二峰值与预设参考峰值进行比较且确定所述第二峰值是否满足所述参考峰值；以及根据所述所检测的第二峰值和所述参考峰值的所述比较和确定结果而控制是否将稀有气体和卤素气体中的至少任何一个供应到振荡所述激光的激光振荡器。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金贤中，方勇植，朴建植，高秉昊，池昊真，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR
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